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1. 发明申请

WO2011042193A2 DOSIERANLAGE, DICHTSTROMFÖRDERANLAGE UND VERFAHREN ZUM ZUFÜHREN VON STAUBFÖRMIGEM SCHÜTTGUT 审中-公开
标题翻译： FEEDER，将保持电流处理系统和方法喂养尘封BULK
公开(公告)号：WO2011042193A2
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/EP2010/006149
申请日：2010-10-08
申请人： CHOREN INDUSTRIES GMBH , KRETSCHMER, Horst , KLEEBERG, Jörg , RÜGER, Dietmar , SCHULZE, Olaf , EICHHORN, Christian
发明人： KRETSCHMER, Horst , KLEEBERG, Jörg , RÜGER, Dietmar , SCHULZE, Olaf , EICHHORN, Christian
CPC分类号： C10J3/723 , C10J3/503 , C10J2200/152 , C21B5/003 , C21B5/023 , C21C5/527 , F23K3/02 , F23K2203/006 , F23K2203/103 , F23K2203/104 , F23K2203/105 , F23K2203/201 , F27D3/10 , F27D2099/0051 , Y02P10/216
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Dosieranlage zur stetigen, kontinuierlichen, dosierten Zufuhr eines staubförmigen Schüttguts aus leichten, polydispersen Teilchen aus einer Versorgungseinrichtung (B,SG) in eine Mehrzahl von Förderrohre (FR1,FR2,FR3) zu einem stromabwärts angeordneten Verbraucher. Die Dosieranlage umfasst zumindest zwei Dosierbehälter (DB1,DB2,DB3) mit jeweils einer Austragseinrichtung (AE2/1,AE2/2,AE2/3), wobei die Austragseinrichtung (AE2/1,AE2/2,AE2/3) für jedes der Förderrohre (FR1,FR2,FR3) eine diesem zugeordnete und in dieses mündende Staubflussregelungsvorrichtung (FI1/1,FI2/1,FI3/2) umfasst, und wobei eine Massenstrom-Messsonde (FIC1,FIC2,FIC3) an jedem der Förderrohre (FR1,FR2,FR3) angeordnet ist, die mit der Staubflussregelungsvorrichtung (FI1/1 bis FI3/2) gekoppelt ist, die in das entsprechende Förderrohr (FR1,FR2,FR3) mündet. Ferner weist die Dosieranlage eine Druckregelungseinrichtung auf, die mit an den Austragseinrichtungen (AE2/1,AE2/2,AE2/3) angeordneten Druckmesseinrichtungen (PI1/1,PI1/2,Pl1/3) gekoppelt ist, und die einen Dosierbehälterdruck (PIS2/1,PIS2/2,PIS2/3) zumindest in Abhängigkeit eines Dosierbehälterfüllstands (LIS1,LIS2,LIS3) steuert. Dabei ist eine Pumpvorrichtung (V) mit jedem der Dosierbehälter (DB1,DB2,DB3) koppelbar, die einen Druck (PIS2/1,PIS2/2,PIS2/3) in dem Dosierbehälter (DB1,DB2,DB3) bereitstellt, der geringer ist als ein Druck in der Versorgungseinrichtung (B,SG). Ferner offenbart die Erfindung eine Dichtstromförderanlage, die die Dosieranlage umfasst und ein Verfahren zur stetigen, kontinuierlichen, dosierten Zufuhr eines staubförmigen Schüttguts aus leichten, polydispersen Teilchen.
摘要翻译：本发明涉及一种用于连续的，连续的，计量的粉末状松散材料从光多分散粒子从供给装置供给（B，SG）成多个输送管（FR1，FR2，FR3）的至下游消费者的计量系统。该计量系统包括至少两个计量（DB1，DB2，DB3），每一个具有放电装置（AE2 / 1，AE2 / 2，AE2 / 3），其中，所述放电装置（AE2 / 1，AE2 / 2，AE2 / 3）为每一个输送管（FR1，FR2，FR3）与其相关联的一个，在这种打开灰尘流量控制装置（FI1 / 1，FI2 / 1，FI3 / 2），并且其中，在每个所述输送管的质量流量测量探针（FIC1，FIC2，FIC3）（FR1 ，FR2，FR3）布置，其耦合（与灰尘流量控制装置FI1 / 1至FI3 / 2），其打开（在相应的输送管FR1，FR2，FR3）。此外，定量给料单元，其被布置成与所述排出装置的压力控制装置（AE2 / 1，AE2 / 2，AE2 / 3）的压力测量装置（PI1 / 1，PI1 / 2，P？1/3）被耦合，和一个Dosierbehälterdruck（PIS2 / 1，PIS2 / 2，PIS2 / 3）（至少在一个DosierbehälterfüllstandsLIS1，LIS2，LIS3）控制的依赖。在这种情况下，泵送装置（V）与每个计量容器（DB1，DB2，DB3）（PIS2 / 3 PIS2 / 1，PIS2 / 2）可以联接，在计量容器内的压力（DB1，DB2，DB3）规定小于被定义为在所述供应装置（B，SG）的压力。此外，本发明公开了一种密相输送系统，其包括给料单元和用于连续的，连续的，计量的粉末状松散材料从光多分散粒子供给的方法。

2. 发明申请

WO2011042194A2 DOSIERVORRICHTUNG, DICHTSTROMFÖRDERANLAGE UND VERFAHREN ZUM ZUFÜHREN VON STAUBFÖRMIGEM SCHÜTTGUT 审中-公开
标题翻译：计量，封口电流处理系统和方法喂养尘封BULK
公开(公告)号：WO2011042194A2
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/EP2010/006150
申请日：2010-10-08
申请人： CHOREN Industries GmbH , KRETSCHMER, Horst , KLEEBERG, Jörg , RÜGER, Dietmar , SCHULZE, Olaf , EICHHORN, Christian
发明人： KRETSCHMER, Horst , KLEEBERG, Jörg , RÜGER, Dietmar , SCHULZE, Olaf , EICHHORN, Christian
CPC分类号： C10J3/723 , B65G53/30 , B65G53/4691 , C10J3/503 , C10J2200/152 , C21B5/003 , C21B5/023 , C21C5/527 , F23K3/02 , F27D3/10 , F27D2099/0051 , Y02P10/216 , Y10T137/0318 , Y10T137/85938
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Dosiervorrichtung und eine Dichtstromförderanlage zur dosierten Zufuhr eines leichten Schüttguts aus einer Versorgungseinrichtung (B,SG) über Förderrohre (FR1,FR2,FR3) zu einem Verbraucher. Dazu weist eine Schleuse (S) eine Austragseinrichtung (AE/S) mit einer Staubflussregelungsvorrichtung (FI4) auf, die in einen Dosierbehälter (DB) mündet, dessen Austragseinrichtung (AE/DB) mehrere Staubflussregelungsvorrichtungen (FI1,FI2,FI3) umfasst, die jeweils in ein Förderrohr (FR1,FR2,FR3) münden. Eine Druckregelungseinrichtung der Dosiervorrichtung ist für Differenzdruckregelungen (PDC1-2, PDC3-R) mit Druckmesseinrichtungen (PIS1,PI2) der Schleuse (S) und des Dosierbehälter (DB) und mit Druckmesseinrichtungen (PIR, PI3) der Dosierbehälteraustragseinrichtung (AE/DB) und des Verbrauchers gekoppelt, um den Dosierbehälterdruck (PI2) abhängig von der zweiten Differenzdruckregelung (PDC3-R) zu steuern. Für eine Differenzdrucksteuerung (PISA4-1) zwischen Versorgungseinrichtung (B,SG) und Schleuse (S) ist die Druckregelungseinrichtung mit einer Druckmesseinrichtung (PISA4) der Versorgungseinrichtung (SG,B) gekoppelt. Die Druckregelungseinrichtung steuert den Schleusendruck (PIS1) in Abhängigkeit eines Schleusenfüllstands (LIS/S) und der Differenzdrucksteuerung (PISA4-1) durch eine Betätigung zumindest von einer mit der Schleuse (S) verbindbaren Absaugeinrichtung (V). Ferner offenbart die vorliegende Erfindung ein Verfahren unter Verwendung der Dichtstromförderanlage mit der Dosiervorrichtung.
摘要翻译：
本发明涉及一种计量装置和Dichtstromf＆OUML; rderanlage用于从供给装置在F轻微SCH导航用途ttguts的计量供应（B，SG）＆ouml; rderrohre（FR1，FR2，FR3）给消费者。为了这个目的，一个锁（S）到一个放电装置（AE / S）与灰尘流量控制装置（FI4）中，在Dosierbeh BEAR滤波器（DB）米导航使用一个朋友，他放电装置（AE / DB）的多个尘埃的流动控制装置（FI1，FI2，FI3的），它们中的每一个可以位于输送管（FR1，FR2，FR3）中。所述计量装置的压力控制装置为f导航用途ř压差控制（PDC1-2，PDC3-R）与锁（S）和所述Dosierbeh BEAR滤波器（DB）的压力测量装置（PIS1，PI2），并与Dosierbeh BEAR lteraustragseinrichtung的压力感测装置（PIR，PI3）耦合（AE / DB）和负载于Dosierbeh BEAR ngig由第二压差控制（PDC3-R）来控制; lterdruck（PI2）依赖性＆AUML。 ˚F导航用途r是供给装置（B，SG）和锁定（S），其具有压力测量装置（PISA4）中的压力控制装置被耦合到所述电源装置之间的压差控制（PISA4-1）（SG，B）。压力控制装置控制在Schleusenf导航用途llstands（LIS / S）和通过BET＆AUML压差控制器（PISA4-1）的依赖性BEAR依赖负载锁定压力（PIS1）;致动从一与所述锁（S）连接至抽吸装置（V）至少。此外，本发明公开了一种使用具有计量装置的密相输送系统的方法。

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