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1. 发明申请

WO2012100791A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2012100791A1
公开(公告)日：2012-08-02
申请号：PCT/EP2011/000416
申请日：2011-01-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DEGÜNTER, Markus
发明人： DEGÜNTER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70191
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical integrator (60) having a plurality of light entrance facets (100) and a beam deflection array (38) of reflective or transparent beam defleeting elements (40). Each beam deflecting element (40) is configured to illuminate a spot (98) on the optical integrator (609 at a position that is variable by changing a deflection angle produced by the beam deflecting element (40). The illumination system further comprises a control unit (90) which is configured to control the beam deflection elements (40) in such a manner that a light pattern (108, 114, 118) assembled from the spots (98) on at least one of the light entrance facets (100) is varied in response to an input command that a field dependency of the angular irradiance distribution in a mask plane (88) shall be modified.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括具有多个光入射面（100）的光学积分器（60）和反射或透明光束去偏移元件（40）的光束偏转阵列（38）。每个光束偏转元件（40）被配置为照亮光学积分器（609）上的点（98），该位置在通过改变由光束偏转元件（40）产生的偏转角度而可变的位置处，照明系统还包括控制单元（90），其被配置为以这样的方式控制光束偏转元件（40），使得从光入射面（100）中的至少一个上的光斑（98）组装的光图案（108,114,118）响应于输入命令改变掩模平面（88）中的角度辐照度分布的场依赖性。

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