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1. 发明申请

WO2008077169A2 VERFAHREN UND MESSANORDNUNG ZUR TRIBOMETRISCHEN, HOCHAUFLÖSENDEN ONLINE-VERSCHLEIßBESTIMMUNG AN PROBENKÖRPERN, SOWIE VERFAHREN UND MESSSYSTEM ZUR ERMITTLUNG EINES TIEFENPROFILS DER AKTIVITÄT VON RADIOAKTIVEN ISOTOPEN AN EINEM REFERENZKÖRPER 审中-公开
标题翻译：方法和设备测量TRIBOMETRISCHEN，高清ON磨损评估样本固体及方法和测量系统用于确定活动的放射性同位素的深度剖面的参照物体
公开(公告)号：WO2008077169A2
公开(公告)日：2008-07-03
申请号：PCT/AT2007/000581
申请日：2007-12-21
申请人： AC2T RESEARCH GMBH , JECH, Martin , VORLAUFER, Georg , PAUSCHITZ, Andreas , WOPELKA, Thomas
发明人： JECH, Martin , VORLAUFER, Georg , PAUSCHITZ, Andreas , WOPELKA, Thomas
IPC分类号： G01N3/56
CPC分类号： G01N3/562
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Messanordnung (10) zur tribometrischen, hochauflösenden Online-Verschleißbestimmung an Probenkörpern (6), sowie ein Verfahren und ein Messsystem zur Ermittlung eines Tiefenprofils der Aktivität von radioaktiven Isotopen an einem Referenzkörper (1). Letzteres Verfahren umfasst das Bereitstellen eines Referenzkörpers (1), der in einem oberflächennahen Aktivierungsbereich (2) mit radioaktiven Isotopen in definierter Konzentrationsverteilung unter einer Freigrenze versehen ist, das Abtragen einer Schicht (x1-x7... xn) an Material an einem Messbereich (3) des Referenzkörpers, der sich mit dem Aktivierungsbereich (2) überschneidet, das Bestimmen der Dicke (Δz) der abgetragenen Schicht (x1-x7... xn) durch Vergleich mit Referenzmarken (R1, R2, R3), das Bestimmen der Aktivität (A) der abgetragenen Materialschicht (x1-x7... xn) durch Messen der Aktivität der radioaktiven Isotope an dem Messbereich (3) des Referenzkörpers, vor und nach dem Abtragen der Materialschicht, und das Einfügen der radioaktiven Aktivitätsmesswerte (A) und der Schichtdickenwerte (Δz) der abgetragenen Materialschichten (x1-x7... xn) in ein Aktivitäts-Tiefenprofil.
摘要翻译：本发明涉及一种方法和用于样品体（6）的tribometrischen，高分辨率在线劣化判定的测量装置（10），和一种方法以及用于确定所述放射性同位素的活性的深度分布的基准体（1）的测量系统。后一种方法包括：在近表面活化区域中提供基准体（1）（2）是一个免费的边界之下设置有放射性同位素以限定的浓度分布，在测量区域中去除材料的一个层（X1-X7 ... xn）映射的（ 3）基准体，该重叠（与激活区域2），通过与所述参考标记（R1，R2，R3）比较确定所移除的层（X1-X7 ... xn）映射的厚度（ΔZ），确定所述的基准体，前和去除材料层之后，和放射性活度测量值的插入（A）的通过测量在测量区域中的放射性同位素的活性烧蚀材料层（X1-X7 ... xn）映射的活动（A）（3）和烧蚀材料层（X1-X7 ... xn）映射到一个活动深度轮廓的层厚度值（ΔZ）。

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