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2. 发明申请

WO2012023684A1 나노 분말 제조용 플라즈마 토치 전극 구조 审中-公开
标题翻译：用于制造纳米ZnO的等离子体电极的结构
公开(公告)号：WO2012023684A1
公开(公告)日：2012-02-23
申请号：PCT/KR2011/001588
申请日：2011-03-08
申请人： 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원 , 정효수 , 유영종 , 손병구 , 오정근 , 신명선
发明人： 정효수 , 유영종 , 손병구 , 오정근 , 신명선
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/26
CPC分类号： H05H1/30 , H05H2245/124
摘要： 본 발명은 나노 분말 제조용 플라즈마 토치 전극 구조에 관한 것으로, 벌크분말을 플라즈마 영역에 공급시키기 위한 캐리어 가스 투입구와; 플라즈마 토치 내부로 캐리어 가스를 주입시키는 주입관과; 상기 주입관이 내부로 삽입되는 가둠관과; 상기 주입관과 가둠관 사이에 구비되어 플라즈마 가스를 분포시키는 플라즈마 가스 유도관과; 플라즈마 열을 냉각시키도록 이중 내관으로 형성되는 일측면 상하단에 각각 형성되는 주입관 냉각수 입구 및 주입관 냉각수 출구와; 플라즈마 가스를 공급하여 가둠관 내부에서 분사되도록 형성되는 한 쌍의 플라즈마 가스 투입구와; 쉬스 가스를 공급하여 가둠관과 플라즈마 가스 유도관 사이에 분사되도록 형성되는 한 쌍의 쉬스 가스 투입구와; 상기 가둠관 외주면에 이격설치되는 유도코일 지지관과; 상기 유도코일 지지관 외주면에 감겨져 가둠관 내부에 플라즈마를 생성시키는 유도코일과; 상기 가둠관의 온도를 낮추도록 구비되는 가둠관 냉각수 입구 및 가둠관 냉각수 출구로 구성된다. 따라서, 본 발명은 플라즈마 가스 유도관 구조를 개선하여 플라즈마 가둠관 내부에서 균일한 플라즈마를 형성하도록 플라즈마 가스를 균일하게 분사시키고, 쉬스 가스의 분사구조를 개선시켜 가둠관 내부에서 발생되는 플라즈마 열에 의해 가둠관이 파손되는 것을 방지하여 가둠관의 냉각 효율을 증대시키는 효과가 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造纳米粉末的等离子体焰炬电极的结构，包括：向等离子体区域供应散装粉末的载气入口，将载气注入等离子体焰炬中的注入管，注入管为插入的等离子体气体导入管，设置在注入管和限制管之间以分配等离子体气体;喷射管冷却剂入口和喷射管冷却剂出口，设置在侧表面的上端和下端中，作为双内管为了冷却等离子体热，一对等离子体气体入口为限制管中的射流提供等离子体气体，一对护套气体入口为封隔管和等离子体气体导入管之间的射流提供护套气体，支撑件用于分别设置在限制管的外周面的感应线圈的管，围绕外周缠绕的感应线圈在限制管中用于等离子体产生的支撑管的表面，以及限制管冷却剂入口和限制管冷却剂出口，降低了限制管的温度。根据本发明，等离子体气体导入管的结构得到改善，使等离子体气体的均匀分布使得限制管中的等离子体产生均匀，并且提高了护套气体射流的结构，从而防止了约束管被受限制管中产生的等离子体热量损坏，并提高了限制管的冷却效率。

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