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1. 发明申请

WO2005049897A1 光学用材料、光学電子部品及び光学電子装置审中-公开
标题翻译：光学材料，光电部件和光电器件
公开(公告)号：WO2005049897A1
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：PCT/JP2004/015046
申请日：2004-10-13
申请人：独立行政法人物質・材料研究機構 , 熊取谷誠人 , 知久真一郎 , 下方幹生 , 藤井高志 , 北村健二 , 竹川俊二 , 中村優
发明人：熊取谷誠人 , 知久真一郎 , 下方幹生 , 藤井高志 , 北村健二 , 竹川俊二 , 中村優
IPC分类号： C30B29/30
CPC分类号： G02B1/08 , C30B15/12 , C30B29/30 , G02B1/02 , G02B3/00
摘要：環境変化の影響を受けず、複屈折量が±０．０００５の範囲内である光学用材料を提供し、これを用いた光学電子部品や、光学電子装置の提供を目的とする。　タンタル酸リチウムであって、該タンタル酸リチウムにおける酸化リチウムと酸化タンタルのモル組成比率（Ｌｉ 2 Ｏ／Ｔａ 2 Ｏ 5 ）が０．９７５以上０．９８２以下であることを特徴とする、光学用材料であり、屈折率の高い光学用材料を光学系として使用することができるので、同じ焦点距離でレンズの厚みをより薄くすることができる。その結果、これら特性を有するレンズを使用することにより、より小型化，薄型化，高機能化した光学電子部品を提供できるとともに、これらの特性を有する光学電子装置を提供することができる。
摘要翻译：不受环境变化影响的光学材料，其双折射率在±0.0005的范围内; 以及包括光学材料的光电子部件和光电器件。提供了一种钽酸锂的光学材料，其特征在于在钽酸锂中，氧化锂与氧化钽（LiO 2 / Ta 2 O 5）的摩尔组成比在0.975至0.982的范围内。由于可以在光学系统中使用高折射率的光学材料，所以可以在未改变的焦距下减小透镜厚度。结果，通过使用具有这种特性的透镜，不仅可以提供具有更高水平的紧凑性，薄型和功能增强的光电部件，而且可以呈现具有这些特性的光电器件。

2. 发明申请

WO2009116591A1 光導波路の製造方法、及び光学部品审中-公开
标题翻译：光波导制造方法与光学部分
公开(公告)号：WO2009116591A1
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：PCT/JP2009/055335
申请日：2009-03-18
申请人：株式会社村田製作所 , 熊取谷誠人 , 藤井高志 , 平尾一之 , 三浦清貴
发明人：熊取谷誠人 , 藤井高志 , 平尾一之 , 三浦清貴
IPC分类号： G02B6/13
CPC分类号： G02B6/138
摘要：　ＬｉＴｉＯ３からなる基板（ＬＴ基板）２に対し、該ＬＴ基板２の表面から５０μｍ以内の深さを集光位置Ｆとし、超短パルスのパルス幅（好ましくは、１００ｆｓ以下）を有しかつ所定の繰り返し周波数（好ましくは、１００～２５０ｋＨｚ）波で出射するレーザ光を１．５μＪ以上のパルスエネギーで前記基板に照射すると共に、前記レーザ光で前記基板を走査し、前記基板よりも屈折率の高い光伝播部を前記集光位置に形成する。また、レーザの照射源としてフェムト秒レーザを使用する。これにより超短パルスのレーザ光を使用した場合であっても、偏光依存性のない光導波路を容易に製造できるようにする。
摘要翻译：将具有超短脉冲宽度（优选不大于100fs）并以预定重复频率（优选为100至250kHz）发射的激光束以1.5μJ以上的脉冲能量施加到基板（一 LT基板）（2），使得聚焦位置F距离LT基板（2）的表面不大于50μm的深度，由LiTiO 3形成。激光束用于扫描衬底并形成具有比聚焦位置上的衬底更高的折射率的光传播单元。此外，使用毫微微第二激光器作为激光发射源。因此，即使当使用超短脉冲激光束时，也可以容易地制造没有偏振依赖性的光波导。

3. 发明申请

WO2007145110A1 タンタル酸リチウム単結晶の製造方法审中-公开
标题翻译：生产钛酸锂单晶的方法
公开(公告)号：WO2007145110A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/JP2007/061430
申请日：2007-06-06
申请人：株式会社村田製作所 , 熊取谷誠人
发明人：熊取谷誠人
IPC分类号： C30B29/30
CPC分类号： C30B29/30 , C30B15/00 , G02F2202/20
摘要：　不活性ガスを主成分として含むとともに酸素を０．０４体積％以上０．０８体積％以下含む第１雰囲気ガス中において原料融液（１５）から育成結晶（１７）を形成する工程と、不活性ガスを主成分として含み、酸素濃度が０．０１体積％以下の第２雰囲気ガス中において育成結晶（１７）を冷却する工程と、冷却後の育成結晶（１７）をキュリー温度以上に加熱する工程と、加熱後の育成結晶（１７）に電流を流しながら育成結晶（１７）を冷却する工程と、を含み、育成結晶（１７）における（酸化リチウムのモル数）／（酸化リチウムのモル数＋酸化タンタルのモル数）が０．４９以上０．５０以下であるタンタル酸リチウム単結晶の製造方法である。
摘要翻译：一种生产锂钽铁矿单晶的方法包括以下步骤：在第一环境气体中以材料熔体（15）形成生长晶体（17），所述第一环境气体包括惰性气体为主要成分，氧为0.04％以上，不大于0.08％（体积）; 在包含以惰性气体为主要成分的第二环境气体和0.01体积％以下的氧气中冷却生长晶体（17）; 将冷却的生长晶体（17）加热到居里温度或更高; 并且在加热后允许电流流过生长晶体（17）的同时冷却生长晶体（17）。在该方法中，生长晶体（17）中氧化锂的摩尔数与氧化锂和氧化钽的摩尔数之和为0.49以上且不大于0.50。

4. 发明申请

WO2006123740A1 タンタル酸リチウム単結晶および光学撮像系デバイス审中-公开
标题翻译：钛酸锂单晶和光学图像拾取器件
公开(公告)号：WO2006123740A1
公开(公告)日：2006-11-23
申请号：PCT/JP2006/309934
申请日：2006-05-18
申请人：株式会社村田製作所 , 熊取谷誠人
发明人：熊取谷誠人
IPC分类号： G02B1/02 , C30B29/30
CPC分类号： G02B1/02 , C30B29/30
摘要：　従来のタンタル酸リチウム単結晶は、光学撮像系デバイスの材料に適用するには波長によって生じる複屈折量の差異が大きく、その分野に導入することは困難と考えられていた。そこで当該課題を解決すべく、ＬｉとＴａとＭｇからなるタンタル酸リチウム単結晶であって、Ｌｉ／（Ｌｉ＋Ｔａ）のモル比を横軸（ｘ軸）にとり、Ｍｇ／Ｔａのモル比を縦軸（ｙ軸）にとった場合、Ｌｉ／（Ｌｉ＋Ｔａ）のモル比およびＭｇ／Ｔａのモル比を、（０．４９３７，０．０３０８）、（０．４９３７，０．０３６２）、（０．４９７０，０．０３８４）、（０．４９７０，０．０３０９）の４点で囲まれる範囲内の値とし、光学撮像系デバイスの材料に用いることを特徴とするタンタル酸リチウム単結晶を提供する。
摘要翻译：本发明提供了一种钽酸锂单晶，其可以解决传统的钽酸锂单晶的问题，即波长之间的双折射水平差异大到将单晶引入光学图像拾取器件的材料领域已经被被认为是困难的。本发明的用作光学图像拾取装置的材料的钽酸锂单晶包括Li，Ta和Mg，其特征在于当Li /（Li + Ta）的摩尔比被绘制为横坐标（x轴））相对于纵坐标（y轴）的Mg / Ta的摩尔比，Li /（Li + Ta）的摩尔比和Mg / Ta的摩尔比分别为包围四点的值（0.4937 ，0.0308），（0.4937,0.0362），（0.4970,0.0384）和（0.4970,0.0309）。

5. 发明申请

WO2009119681A1 ＮＴＣサーミスタ磁器、及びＮＴＣサーミスタ磁器の製造方法、並びにＮＴＣサーミスタ审中-公开
标题翻译： NTC热敏电阻器，生产NTC热敏电阻器的工艺和NTC热敏电阻器
公开(公告)号：WO2009119681A1
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：PCT/JP2009/055989
申请日：2009-03-25
申请人：株式会社村田製作所 , 古戸聖浩 , 熊取谷誠人
发明人：古戸聖浩 , 熊取谷誠人
IPC分类号： H01C7/04 , H01C17/22
CPC分类号： H01C7/043 , H01C17/06533 , H01C17/06553 , H01C17/30
摘要：　磁器本体１は、（Ｍｎ，Ｎｉ）３Ｏ４系、又は（Ｍｎ，Ｃｏ）３Ｏ４系のセラミック材料からなる。第１の相２はスピネル構造を有し、第２の相３は高抵抗の板状結晶からなる。第２の相３は、第１の相中２に分散して存在する。磁器本体１の表面は、レーザ照射により熱印加されて所定パターンの熱印加路４を形成している。この熱印加路４では、第２の相３が消滅し第１の相１と結晶構造的に一体化されている。第２の相３の板状結晶は、焼成工程の降温過程で８００°C又はそれ以下の温度域で析出する。熱印加路４を形成することによりＮＴＣサーミスタの抵抗値の調整が容易になる。これにより焼結後においても抵抗値を容易に低く調整することが可能なＮＴＣサーミスタ磁器、その製造方法、及びＮＴＣサーミスタを実現する。
摘要翻译：公开了一种NTC热敏电阻瓷器。还公开了制造NTC热敏电阻瓷器和NTC热敏电阻的工艺。 NTC热敏电阻瓷器包括由（Mn，Ni）3 O 4型或（Mn，Co）3 O 4型的陶瓷材料形成的瓷体（1）。构成瓷体（1）的陶瓷材料具有尖晶石结构的第一相（2）和具有高电阻的板状晶体的第二相（3）。第二相（3）在第一相（2）中以分散状态存在。瓷体（1）的表面具有通过施加由激光束照射产生的热量而形成的具有预定图案的热施加路径（4）。在热施加路径（4）中，第二相（3）消失，并且与第一相（2）的晶体结构相结合。第二阶段（3）中的平板晶体在烧制步骤中的降温过程中在800℃或更低的温度区域中沉淀。热施加路径（4）的形成有助于调节NTC热敏电阻的电阻值。上述结构可以实现即使在烧结之后也可以容易地将电阻调节到低值的NTC热敏电阻瓷。

6. 发明申请

WO2008035711A1 耐放射線レンズと放射線遮蔽体、これらを用いたレンズモジュール及び高放射線環境用テレビカメラ审中-公开
标题翻译：使用防辐射透镜和辐射屏蔽的高辐射环境的防辐射透镜和辐射屏蔽，镜头模块和电视摄像机
公开(公告)号：WO2008035711A1
公开(公告)日：2008-03-27
申请号：PCT/JP2007/068185
申请日：2007-09-19
申请人：原子燃料工業株式会社 , 株式会社村田製作所 , 生田英嗣 , 呉竹悟志 , 熊取谷誠人
发明人：生田英嗣 , 呉竹悟志 , 熊取谷誠人
IPC分类号： G21F1/06 , G21C17/003 , G21C17/013 , G21C17/08
CPC分类号： G21F1/06 , C04B35/495 , C04B2235/3206 , C04B2235/3215 , C04B2235/3244 , C04B2235/3293 , C04B2235/79 , C04B2235/9653 , G02B1/02 , G21Y2002/104 , G21Y2004/10
摘要：　高屈折率を有しながらも、放射線によるブラウニングを生じ難い光学材料からなる耐放射線性レンズと放射線遮蔽体、これらを用いたレンズモジュール及び高放射線環境用テレビカメラを得る。　（ａ）主成分が一般式でＢａ｛（ＳｎｕＺｒ１－ｕ）ｘＭｇｙＴａｚ）｝ｖＯｗ　で表される組成の材料を焼結した透光性セラミックスからなり、ｗが電気的中性を保つための正の数であり、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１，０．１００≦ｘ≦０．７００，１．８０≦ｚ／ｙ≦２．２０、１．００≦ｖ≦１．０５、ｕ×ｘ≦０．０５を満たすもの、　又は（ｂ）ＹＡＧ結晶、　又は（ｃ）タンタル酸リチウム結晶、のうちのいずれか一種からなる耐放射線レンズまたは放射線遮蔽体、これらを用いたレンズモジュール及び高放射線環境用テレビカメラ。
摘要翻译：本发明提供一种由光学材料形成的防辐射透镜，尽管其折射率高，但不太可能引起辐射衍生的褐变，以及辐射屏蔽，以及使用耐辐射的高辐射环境的透镜模块和电视摄像机镜头和辐射屏蔽。耐辐射透镜或辐射屏蔽由以下任何一种形成：（a）通过烧结具有组成的材料制成的透光陶瓷，所述组合物包含由通式Ba {（Sn SUB> 1-U ）_{X 镁_{ý TA _{ž）} _{v 0 _{其中w为保持电中性的正数，满足x + y + z = 1，0.100 = x = 0.700，1.80 = z / y = 2.20,1.00 = v = 1.05，u×x = 0.05，或（b）YAG晶体，或（c）钽酸锂晶体。}}}}}

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