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1. 发明申请

WO2003050201A1 有機エレクトロルミネッセンス素子材料审中-公开
标题翻译：有机电致发光材料
公开(公告)号：WO2003050201A1
公开(公告)日：2003-06-19
申请号：PCT/JP2002/012821
申请日：2002-12-06
申请人：株式会社トクヤマ , 百田潤二 , 川端雄一郎 , 大谷俊明
发明人：百田潤二 , 川端雄一郎 , 大谷俊明
IPC分类号： C09K11/06
CPC分类号： C09K11/06 , C08G61/02
摘要： The invention provides high-purity organic electrolumi- nescent materials permitting spin coating, particularly, an organic electroluminescent material containing a calixarene or calixresorciarene derivative bearing a luminescent organic group and/or a charge transport organic group, for example, a calixarene derivative (1) bearing 4-[1-(2,2-diphenylvinyl)- biphenyl-2-phenylvinyl]phenyl as the luminescent organic group.
摘要翻译：本发明提供了允许旋涂的高纯度有机电致发光材料，特别是含有具有发光有机基团和/或电荷转移有机基团的杯芳烃或杯芳烃衍生物衍生物的有机电致发光材料，例如杯芳烃衍生物（1）带有4- [1-（2,2-二苯基乙烯基） - 联苯-2-苯基乙烯基]苯基作为发光有机基团。

2. 发明申请

WO2008001875A1 フォトクロミック光学物品の製造方法审中-公开
标题翻译：生产光电光学制品的方法
公开(公告)号：WO2008001875A1
公开(公告)日：2008-01-03
申请号：PCT/JP2007/063068
申请日：2007-06-29
申请人：株式会社トクヤマ , 大谷俊明 , 名郷洋信
发明人：大谷俊明 , 名郷洋信
IPC分类号： G02B5/23 , B05D1/36 , B05D7/24 , G02C7/10
CPC分类号： G02B5/23 , C08J7/047 , C08J2369/00 , Y10T428/31507 , Y10T428/31551 , Y10T428/31598
摘要：　本発明は、プラスチックレンズ等の光学基材にフォトクロミック性を示すフォトクロミックコート層が形成されたフォトクロミック光学物品であって、光学特性及びフォトクロミック特性が良好で、且つ基材とフォトクロミック層との密着性が優れ、さらに、フォトクロミックコート剤のプライマーへの濡れ性を良好なものとすることで簡便に製造できる製造法を提供する。　また、本発明は、光学基材の表面に、ウレタン樹脂が分散媒中にコロイド分散したエマルジョンからなるプライマーを塗布してプライマー層を形成してから、その上にフォトクロミック層を形成してフォトクロミック光学物品を製造する。
摘要翻译：公开了容易制造光致变色光学制品的方法，其中在诸如塑料透镜的光学基底上形成显示光致变色的光致变色涂层。光致变色光学制品的光学特性和光致变色特性优异，并且基底和光致变色层之间的粘合性也优异。该方法能够通过提高底漆的光致变色涂布剂的润湿性而容易地制造这种光致变色光学制品。在该方法中，通过用由乳液组成的底漆涂布光学基材表面，在光学基材表面上形成底漆层，其中将聚氨酯树脂胶体地分散在分散介质中，然后在底漆层上形成光致变色层，从而制备光致变色光学制品。

3. 发明申请

WO2006134902A1 フォトレジスト現像液、および該現像液を用いた基板の製造方法审中-公开
标题翻译：光电开发商和使用开发商生产基板的方法
公开(公告)号：WO2006134902A1
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：PCT/JP2006/311814
申请日：2006-06-13
申请人：株式会社トクヤマ , 尾前俊吉 , 東野誠司 , 大谷俊明 , 名塚康隆
发明人：尾前俊吉 , 東野誠司 , 大谷俊明 , 名塚康隆
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/322
摘要：　ノニオン性界面活性剤とアンモニウム化合物とを含有する塩基性水溶液からなるフォトレジスト現像液において、所定のノニオン性界面活性剤を０．５～１０質量％含有させ、所定のアンモニウム化合物を０．０１～５．０質量％含有させることによって、厚膜レジストを現像した場合でもスカムを発生させることなく良好なパターン形成ができるフォトレジスト現像液を提供する。
摘要翻译：含有含有非离子表面活性剂和铵化合物的碱性水溶液的光致抗蚀剂显影剂，其中指定的非离子表面活性剂的含量为0.5〜10质量％，特定的铵化合物的含量为0.01〜5.0质量％。因此，可以提供即使在厚膜抗蚀剂的显影中也没有浮渣并且可以实现优异的图案形成的光致抗蚀剂显影剂。

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