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2. 发明申请

WO2005040864A1 反射防止構造体を有する光学素子、および反射防止構造体を有する光学素子の製造方法审中-公开
标题翻译：具有抗反射结构的光学装置及其制造方法
公开(公告)号：WO2005040864A1
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/JP2004/016147
申请日：2004-10-29
申请人：松下電器産業株式会社 , 梅谷誠 , 清水義之 , 山本義春 , 山形道弘 , 田中康弘 , 山口博史
发明人：梅谷誠 , 清水義之 , 山本義春 , 山形道弘 , 田中康弘 , 山口博史
IPC分类号： G02B1/11
CPC分类号： G02B5/003 , C03B11/082 , C03B11/086 , C03B2215/10 , C03B2215/17 , C03B2215/412 , C03C15/00 , C03C17/06 , Y02P40/57
摘要：　大面積に亘って、パターンずれの発生しない、高精度な反射防止構造体を有する光学素子を繰り返し成形することのできる反射防止構造体を有する光学素子の製造方法を提供する。石英ガラス基板の表面に、直径０．１５μｍの円柱状のＣｒマスクをピッチ０．１５μｍで形成する。円柱状のＣｒマスクが形成された石英ガラス基板を、ＲＦドライエッチング装置の中に入れ、ＣＨＦ３＋Ｏ２ガスを用いて、石英ガラス基板の表面をエッチングし、石英ガラス基板の表面に、ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐形状の反射防止構造体を形成する。円錐形状の反射防止構造体が形成された石英ガラス基板の表面（プレス面）に、表面保護のためのＩｒ−Ｒｈ合金膜を０．０５μｍの厚みで形成し、反射防止構造体成形用型を作製する。反射防止構造体成形用型を用いて、離型のための炭素（Ｃ）の微粒子を含む離型剤が塗布された光学材料（クラウン系の硼珪酸ガラス）をプレス成形し、冷却せずに反射防止構造体成形用型をプレス成形した光学材料から離型させる。プレス成形した光学材料を冷却した後、離型剤を除去する。
摘要翻译：可以重复形成具有抗反射结构的光学器件的制造方法，其中可以重复地形成具有在宽范围内没有图案偏离的高精度抗反射结构的光学器件。在石英玻璃基板的表面上设置0.15μm直径的柱状Cr掩模，间距为0.15μm。将设置有柱状Cr掩模的石英玻璃基板放置在RF干式蚀刻装置中，用CHF 3 + O 2气体蚀刻石英玻璃基板的表面，由此在其上形成0.15μm间距0.15μm高度的锥形抗反射结构石英玻璃基板表面。设置有石英玻璃基板的圆锥形抗反射结构（压制表面）的表面设置有用于表面保护的0.05μm厚的Ir-Rh合金膜，从而获得用于抗反射结构形成的模具。使用包含用于脱模的碳（C）微粒的脱模剂涂覆的光学材料（冠状硼硅酸盐玻璃）通过使用用于抗反射结构形成的模具进行压制成型，并且在不冷却的情况下，将用于抗反射结构形成的模具从压模光学材料。将压制成型的光学材料冷却，并从中去除脱模剂。

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