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1. 发明申请

WO2008149702A1 流体制御装置审中-公开
标题翻译：流体控制装置
公开(公告)号：WO2008149702A1
公开(公告)日：2008-12-11
申请号：PCT/JP2008/059628
申请日：2008-05-26
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 株式会社フジキン , 大加瀬亘 , 守谷修司 , 中田知宏 , 篠原努 , 山路道雄
发明人：大加瀬亘 , 守谷修司 , 中田知宏 , 篠原努 , 山路道雄
IPC分类号： F16K27/00 , F17D1/04 , H01L21/02 , C23C16/455
CPC分类号： F16K27/003 , Y10T137/598 , Y10T137/87885 , Y10T137/87917
摘要：　部品点数削減および組立て作業効率の向上が図られた流体制御装置を提供する。　相対的に取外しの頻度が高い圧力表示器4は、上方からのおねじ部材17によって下方にあるベースブロック5に結合されている。相対的に取外しの頻度が低い開閉弁6は、一体に設けられたブロック状本体6aを下方に有している。開閉弁6の本体6aが前後方向からのおねじ部材18によってベースブロック5に結合されている。
摘要翻译：提供了具有减少的部件数量和改进的组装操作效率的流体控制装置。具有相对较高频率被去除的压力显示器（4）在上部与外部螺纹部件（17）连接在下部的基座（5）上。具有较低频率被去除的打开/关闭阀（6）在下部具有整体布置的块状主体（6a）。打开/关闭阀（6）的主体（6a）从前后方向与外螺纹部件（18）连接到基座（5）。

2. 发明申请

WO2008146778A1 流体制御装置审中-公开
标题翻译：流体控制装置
公开(公告)号：WO2008146778A1
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：PCT/JP2008/059631
申请日：2008-05-26
申请人：株式会社フジキン , 東京エレクトロン株式会社 , 中田知宏 , 篠原努 , 山路道雄 , 大加瀬亘 , 守谷修司
发明人：中田知宏 , 篠原努 , 山路道雄 , 大加瀬亘 , 守谷修司
IPC分类号： F16K27/00 , H01L21/02 , C23C16/455
CPC分类号： F16K27/003
摘要：　組立て作業効率の向上が図られた流体制御装置を提供する。　継手部材3,6a同士は、互いに突き合わされて前後方向からのおねじ部材18によって結合されている。隣り合う継手部材3,6a間には、その方形の突き合わせ面ほぼ中央にシール部20が設けられている。前後方向からのおねじ部材18は、方形の４隅のうち１８０°離れた２カ所にだけ配置されている。一方の継手部材3の４隅には、ねじ挿通孔29とめねじ30とが交互に設けられ、他方の継手部材6aの４隅には、ねじ挿通孔29とめねじ30とが交互にかつ一方の継手部材3のものとは逆位置となるように設けられている。
摘要翻译：提供了一种改进组装效率的流体控制装置。接头构件（3,6a）被允许彼此邻接并且通过外螺纹构件（18）从前后方向连接。在相邻的接合构件（3,6a）之间，密封部分（20）基本上布置在矩形邻接表面的中心。在前后方向上的外螺纹部件（18）仅在矩形的四个角中被布置成分开180°的两个部分。在一个接头构件（3）的四个角处，螺钉插入孔（29）和内螺纹（30）交替布置，并且在另一接头构件（6a）的四个角处，螺钉插入孔（29）和母螺钉（30）在与接头构件（3）上相反的位置处交替布置。

3. 发明申请

WO2009122762A1 三方弁审中-公开
标题翻译：三通阀
公开(公告)号：WO2009122762A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：PCT/JP2009/050660
申请日：2009-01-19
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 守谷修司
发明人：守谷修司
IPC分类号： F16K11/044 , F16K11/18 , F16K11/22
CPC分类号： F16K27/003 , F16K11/044 , F16K41/10
摘要：　簡素な構成を有し、小型化が可能であり、半導体製造装置のガス供給回路等、高い信頼性が要求される流体供給回路への適用が可能な三方弁を提供する。　三方弁２は、軸長方向に移動する第１弁軸31と、第１弁軸31の先端部に設けてあり、第１弁座30に対して退座又は着座して第１流路を開閉する第１弁体３とを備える。また三方弁２は、第１弁軸31と同軸上で軸長方向に移動する第２弁軸41と、第２弁軸41の先端部に設けてあり、第１弁座30に対向配置された第２弁座40に対して退座又は着座して第２流路を開閉する第２弁体４とを備える。更に三方弁２は、第１弁軸31及び第２弁軸41と同軸上に配した開閉アクチュエータ５と、第１弁軸31を第１流路の上流側の内圧の作用により付勢するダイヤフラム６と、第２弁軸41を第１弁軸31と同方向に付勢する付勢ばね52とを備えている。
摘要翻译：一种三通阀，其结构简单，体积小，适用于要求高可靠性的半导体制造装置的气体供给回路等流体供给回路。三通阀（2）具有轴向移动的第一阀轴（31），设置在第一阀轴（31）的头部的第一阀元件（3），并提升并坐在第一阀座（30 ）打开和关闭第一流路，与第一阀轴（31）轴向同轴运动的第二阀轴（41），设置在第二阀轴（41）的头部的第二阀元件（4）提起并且坐在与第一阀座（30）相对的第二阀座（40）上，以打开和关闭第二流动路径（40），与所述第二阀座同轴设置的打开和关闭致动器（5）第一和第二阀轴（31,41），用于通过第一流路上游的内部压力推动第一阀轴（31）的隔膜（6）和用于推动第一阀轴第二阀轴（41）沿与第一阀轴（31）相同的方向。

4. 发明申请

WO2007023614A1 半導体製造装置，半導体製造装置の流量補正方法，プログラム审中-公开
标题翻译：半导体制造系统和半导体制造系统的流量校正方法和程序
公开(公告)号：WO2007023614A1
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：PCT/JP2006/312863
申请日：2006-06-28
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 守谷修司 , 岡部庸之 , 衣斐寛之 , 清水哲夫 , 北川均
发明人：守谷修司 , 岡部庸之 , 衣斐寛之 , 清水哲夫 , 北川均
IPC分类号： H01L21/324 , G01F1/00 , G05D7/06 , H01L21/02 , H01L21/205
CPC分类号： G05D7/0658 , C23C16/455 , C23C16/45561 , C23C16/52
摘要：　基板処理時に実際に生じ得るサーマルサイフォン現象に基づくゼロ点シフト量を正確に検出して的確な補正をする。　熱処理部１１０内にガスを供給するガス供給路２１０と，ガス供給路のガス流量を検出する検出部からの出力電圧と予め設定された設定流量に対応する設定電圧とを比較して，ガス供給路のガス流量が設定流量になるように制御するＭＦＣ２４０と，制御部３００とを備え，制御部は，基板処理を実行する前に予め，ＭＦＣ内を少なくとも基板処理時に使用するガスで置換してＭＦＣの上流側と下流側に設けられる遮断弁２３０，２５０を閉じた状態でＭＦＣからの出力電圧を検出して記憶手段に記憶しておき，基板処理を実行する際には基板処理時に使用するガスのガス流量に対応する設定電圧を記憶手段に記憶されたＭＦＣの出力電圧に基づいて補正し，補正した設定電圧をＭＦＣに設定する。
摘要翻译：检测出基板处理时实际发生的热虹吸现象的零漂移量，并进行适当的校正。半导体制造系统包括用于将气体供给到热处理部分（110）中的气体供应通道（210），MFC（240），用于将用于检测气体供应通道的气体流量的检测部分的输出电压与对应于预设流量的设定电压，并将气体供给通道的气体流量控制到设定流量;以及控制部（300）。控制部分用MFC中的气体代替气体，该气体至少用于处理衬底之前用于处理衬底的气体，在设置在上游的阀门（230,250）的状态下检测来自MFC的输出电压，关闭MFC的下游并将检测到的输出电压存储在存储装置中，基于来自存储在存储装置中的MFC的输出电压来校正与用于处理衬底的气体的流量对应的设定电压处理基板的时间，并将校正的设定电压设置在MFC中。

5. 发明申请

WO2005123236A1 基板処理装置审中-公开
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：WO2005123236A1
公开(公告)日：2005-12-29
申请号：PCT/JP2005/011106
申请日：2005-06-17
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 守谷修司 , 岡部庸之
发明人：守谷修司 , 岡部庸之
IPC分类号： B01J4/00
CPC分类号： G05D7/0658 , B01J4/008
摘要：　処理ガスを供給するガス供給系の処理室１１の入口近傍に設けられた開閉弁１３ｄ、１４ｄの上流側から分岐し、排気配管１７に接続された分岐配管１８が設けられている。この分岐配管１８には、ガス流量検出機構１９が介挿され、流路を処理室１１側と分岐配管１８に切換えるための開閉弁１３ｈ、１４ｈが設けられている。ガス流量検出機構１９は、抵抗体にガスを通流させその両端の圧力を測定して圧力差からガス流量を検出する。この検出値によって、マスフローコントローラ１３ａ、１４ａを検定又は較正する。
摘要翻译：分支管道（18）从设置在用于供给处理气体的供气系统的处理室（11）的入口附近的开/关阀（13d，14d）的上游侧分支，分支管道（18）连接到排气管道（17）。在分支管道（18）中设置有用于切换处理室（11）侧和分支配管（18）侧之间的流路的开/关阀（13h，14h）的气体流量检测机构（19）。气体流量检测机构（19）使气体流过电阻体，测定电阻体两端的压力，从压力差检测气体流量。质量流量控制器（13a，14a）通过检测值进行测试或校正。

6. 发明申请

WO2009123120A1 ガスフィルタ及びガス供給装置审中-公开
标题翻译：气体过滤器和气体进料器
公开(公告)号：WO2009123120A1
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：PCT/JP2009/056509
申请日：2009-03-30
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 守谷修司
发明人：守谷修司
IPC分类号： B03C3/30 , B01D46/00 , B01D50/00 , B03C3/155 , B03C3/40 , B03C3/49
CPC分类号： B03C3/155 , B01D46/0032 , B01D46/0041 , B03C3/30 , B03C3/41 , B03C3/49
摘要：混入防止の虞が低く、しかも簡単且つ低コストでガス中のパーティクルを帯電させ、該パーティクルを捕捉することができるガスフィルタ及びガス供給装置を提供する。ガスが通流するガス流入口９１ｃ及びガス排出口９１ｄを有する基部９１と、基部９１に螺合して筐体を構成する収容筒９２と、ガス流入口９１ｃ及びガス排出口９１ｄを隔離するように基部９１及び収容筒９２に収容されており、ガス流入口９１ｃから流入したガス中のパーティクルを捕捉するフィルタ部材９３とを備えるエンドフィルタ９に、ガスの通流によって該ガス中のパーティクルを帯電させる帯電孔９６ａが形成されたパーティクル帯電板９６を、基部９１のガス流入口９１ｃに設ける。また、エンドフィルタ９をガス供給装置に設ける。
摘要翻译：一种气体过滤器，其通过容易且廉价地对颗粒进行充填，可以防止混合并且能够捕获气体中所含的颗粒; 和气体进料器。端部过滤器（9）包括具有气体入口（91c）和气体出口（91d）的底座（91），气体流过气体出口（91d），当旋转到基座（91）时形成壳体的储存筒（92）以及过滤器构件（93），其被存储在基座（91）和储存缸（92）中，以将气体入口（91c）与气体出口（91d）隔离，并且捕获气体中包含的颗粒流入气体入口（91c）。在基座（91）的气体入口（91c）处设置有用于通过允许气体流过气体而使包含在气体中的颗粒进行充电的充电孔（96a）的粒子充电板（96）。末端过滤器（9）安装在气体供给器中。

7. 发明申请

WO2007141828A1 ガス供給ユニット及びガス供給システム审中-公开
标题翻译：气体供应单元和气体供应系统
公开(公告)号：WO2007141828A1
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/JP2006/311055
申请日：2006-06-02
申请人：シーケーディ株式会社 , 東京エレクトロン株式会社 , 守谷修司 , 長岡秀樹 , 岡部庸之 , 板藤寛 , 土居広樹 , 伊藤稔
发明人：守谷修司 , 長岡秀樹 , 岡部庸之 , 板藤寛 , 土居広樹 , 伊藤稔
IPC分类号： F16L41/02 , F16K27/00 , F17D5/00
CPC分类号： F17D1/04 , Y10T137/87177 , Y10T137/87885
摘要：　小型で安価なガス供給湯ユニット及びガス供給システムを提供するために、作用ガス搬送管路上に配設されるものであり、複数の流体制御機器２～６，９が流路ブロック１２～１７を介して連通して作用ガスを制御するガス供給ユニット１１Ａにおいて、複数の流体制御機器に含まれる入口開閉弁４を一側面に取り付けられる第１流路ブロック１４と、複数の流体制御機器に含まれるパージ弁９を一側面に取り付けられる第２流路ブロック１７とを有し、第１流路ブロック１４と第２流路ブロック１７を作用ガスの搬送方向に対して垂直方向に積層し、入口開閉弁４とパージ弁９を、作用ガス搬送管路上に配設されたマスフローコントローラ５とユニット１１Ａを取り付ける取付面との間に配設する。
摘要翻译：气体供给单元和气体供给系统，其尺寸小且便宜。气体供给单元（11A）安装在操作气体输送管道上，并且具有经由流路块（12-17）连通的流体控制装置（2-6,9）和控制操作气体。气体供应单元具有第一流路块（14），其一侧包括在流体控制装置中的入口开/关阀（4），并且还具有第二流路块（17），至其一侧包括在流体控制装置中的清洗阀（9）。第一流路块（14）和第二流路块（17）在与操作气体的输送方向垂直的方向上分层。入口打开/关闭阀（4）和排气阀（9）设置在安装在操作气体输送管线上的质量流量控制器（5）和安装单元（11A）的安装表面之间。

8. 发明申请

WO2007138941A1 サーマル式質量流量計及びサーマル式質量流量制御装置审中-公开
标题翻译：热式流量计和热式流量控制装置
公开(公告)号：WO2007138941A1
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：PCT/JP2007/060484
申请日：2007-05-23
申请人：株式会社堀場エステック , 衣斐寛之 , 清水哲夫 , 北川均 , 守谷修司 , 岡部庸之
发明人：衣斐寛之 , 清水哲夫 , 北川均 , 守谷修司 , 岡部庸之
IPC分类号： G01F1/696 , G01F1/00 , G01F1/48
CPC分类号： G01F25/0007 , G01F1/48 , G01F1/6847 , G01F1/6965 , G05D7/0635
摘要：　この発明は、全体構造簡単かつ小型、安価に構成し得るものでありながら、本体ブロックをどのような姿勢に設置して用いる場合でも、サーマルサイフォン現象の影響による測定誤差を低減して流量測定精度の向上を図れるようにしたサーマル式質量流量計及びサーマル式質量流量制御装置を提供するものである。　この発明は、本体ブロック内部の流体流路及び流量測定用導管内を大気圧以下の圧力に引いたときの測定値とその導管に実流体を封入したときの測定値との差及び実流体の種類、実流体封入時の圧力並びに流体流路と流量測定用導管との流量比から補正値を算出し記憶し、この補正値で実測出力値を補正することにより、サーマルサイフォン現象による測定誤差をキャンセルするように動作する補正演算処理用ＣＰＵを具備している。
摘要翻译：提供一种热式质量流量计和热式质量流量控制装置，其可以减少由于热虹吸现象的影响而引起的测量误差，甚至可以将体积块设置在使用中的位置，尽管整个结构可以制作简单，小巧便宜，从而提高流量测量精度。质量流量计包括校正操作CPU，其通过计算并存储校正值，该校正操作CPU用于通过计算并存储校正值，该修正值来自于在内部的流体通道的内部的测量值之间的差体积块和流量测量导管抽真空至大气压或较低压力，以及当导管填充有实际流体时的实测值，实际流体的种类，实际流体充注时间的压力和流体通道和流量测量导管之间的流量比，以及用校正值校正测量的输出值。

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