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1. 发明申请

WO2004070076A1 耐蝕性部材及びその製造方法审中-公开
标题翻译：耐腐蚀成员及其生产方法
公开(公告)号：WO2004070076A1
公开(公告)日：2004-08-19
申请号：PCT/JP2004/000652
申请日：2004-01-26
申请人：東ソー株式会社 , 阿部昌則 , 高橋小弥太 , 新井一喜 , 高畑努 , 橋本眞吉 , 向後雅則
发明人：阿部昌則 , 高橋小弥太 , 新井一喜 , 高畑努 , 橋本眞吉 , 向後雅則
IPC分类号： C23C4/10
CPC分类号： C03C17/04 , C03C3/062 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/095 , C03C8/02 , C03C15/00 , C03C17/002 , C03C17/007 , C03C17/3417 , C03C19/00 , C03C2217/78 , C23C4/10 , C23C4/11 , C23D5/04 , Y02T50/67
摘要： CVD装置、プラズマ処理装置等に用いる部材は腐食性ガスとの反応、或いはプラズマによるエッチングにより消耗し、パーティクル発生による製品の汚染、歩留まり生産性低下の問題があった。また腐食性ガス、プラズマに耐性のあるガラスは耐熱強度が弱く、用いられる用途が限られていた。耐熱性の高い基材上に、2a族及び3a族及び4a族の元素からなる群より選ばれる少なくともひとつの元素を含む耐蝕性ガラス、特にアルミノシリケート又はジルコニアシリケート系のガラス溶射膜を被覆した部材では、腐食性ガス及びプラズマに対する耐蝕性と耐熱強度が高く、パーティクルの発生が少ない。
摘要翻译：在CVD装置，等离子体处理装置等中使用的构件通过与腐蚀性气体的反应或等离子体蚀刻而磨损，因此产生诸如由其形成的颗粒污染产品和降低生产率的问题。耐腐蚀性气体和等离子体的玻璃的耐热强度较弱，因此应用有限。由高耐热基底构成的构件，其覆盖有耐腐蚀玻璃的玻璃喷涂层，其含有至少一种选自组2a，组3a和组4a的元素的元素，特别是具有喷涂层的硅酸铝或氧化锆硅酸盐对腐蚀性气体和等离子体的耐腐蚀性和耐热强度高，因此形成很少的颗粒。

2. 发明申请

WO2009084606A1 窒化アルミニウム溶射部材及びその製造方法审中-公开
标题翻译：通过热喷涂与氮化铝结合的构件及其制造方法
公开(公告)号：WO2009084606A1
公开(公告)日：2009-07-09
申请号：PCT/JP2008/073657
申请日：2008-12-25
申请人：東ソー株式会社 , 阿部昌則 , 高橋小弥太
发明人：阿部昌則 , 高橋小弥太
IPC分类号： C23C4/10 , C23C4/12 , H01L21/3065
CPC分类号： C23C4/10 , C23C4/12
摘要：　半導体等の製造における静電チャック、ヒーターまたはプラズマ処理チャンバーなどの部材やパワーデバイスの放熱絶縁基板に使用する部材に優れた熱伝導率と絶縁性持つ窒化アルミニウムの溶射膜を形成することが望まれていることから、本発明は、気孔率が低く、窒化アルミニウムの含有量の高い溶射膜を提供することを目的とする。　本発明は、基材上の少なくとも一部に窒化アルミニウム微粒子からなる溶射膜が形成されてなる窒化アルミニウム溶射部材に関する。当該溶射膜は平均的な直径が１μｍ以上１０μｍ以下の略球状をした窒化アルミニウム微粒子から構成されており、また、窒化アルミニウム粒子の隙間がＩＩＩＡ族及び／又はＩＩＡ族化合物で埋められて、気孔率が１５％以下であることを特徴とする。このような部材は平均粒径が１～１０μｍの窒化アルミニウム粉末、または同様の窒化アルミニウム粉末にＩＩＩＡ族及び／又はＩＩＡ族化合物を含有させた混合粉末を用いて溶射を行うことにより製造することができる。
摘要翻译：需要在用于制造半导体等的静电卡盘，加热器和等离子体处理室的构件上或在用于辐射的构件上形成导热性和绝缘性优异的氮化铝的热喷镀层功率器件绝缘基板。因此，提供了具有低孔隙率和高氮化铝含量的热喷涂沉积物。还提供了通过热喷涂涂覆有氮化铝的构件，其包括基底，并且在其至少一部分上形成由细的氮化铝微粒构成的热喷涂沉积物。该构件的特征在于，热喷镀层由平均为近似球形且直径为1-10μm的细微的氮化铝颗粒构成。该成员的特征可以在于氮化铝颗粒之间的空隙填充有IIIA族和/或IIA族元素化合物，并且该沉积物具有15％或更低的孔隙率。该构件可以通过用平均粒径为1-10μm的氮化铝粉末进行热喷涂或通过将IIIA族和/或IIA族元素化合物掺入相同的氮化铝粉末而获得的粉末混合物来制造。

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