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    • 4. 发明申请
    • 光感応性基体及びパターニング方法
    • 感光基板和方法
    • WO2005081065A1
    • 2005-09-01
    • PCT/JP2005/002585
    • 2005-02-18
    • 日本曹達株式会社木村 信夫藤田 佳孝中本 憲史芝田 大幹
    • 木村 信夫藤田 佳孝中本 憲史芝田 大幹
    • G03F7/11
    • G03F7/0043G03F7/0042G03F7/0755
    •  本発明は、基体と、該基体上に、加水分解性基及び/又は水酸基を合計で2以上有する金属化合物、加水分解性基及び/又は水酸基を合計で2以上有する金属キレート化合物、金属有機酸塩、並びにこれらの部分加水分解生成物からなる群から選ばれる少なくとも一種に、水を添加して得られた第1の薄膜形成用組成物から形成された第1の薄膜と、該第1の薄膜上に、有機金属化合物から形成された第2の薄膜を有することを特徴とする光感応性基体、並びにこの光感応性基体の所定部分を光照射し、光照射された部分の有機金属化合物の光持性の変化を利用すること、分解及び/又は除去することを特徴とするパターニング方法である。本発明によれば、紫外光に対して高感応性の光感応性基体、及びこの光感応性基体を使用して、短時間で微細なパターニングが可能なパターニング方法が提供される。                                                                                 
    • 一种感光基板,其特征在于,具有基板,由用于形成在所述基板上形成的所述第一薄膜的组合物形成的第一薄膜,所述第一薄膜通过向至少一种选自具有两个 或更多的可水解基团和/或羟基,具有两个或更多个总共可水解基团和/或羟基的金属螯合物,有机酸的金属盐及其部分水解产物, 和由所述第一薄膜上的有机金属化合物形成的第二薄膜; 以及图案化方法,其特征在于,其包括利用光照射的部分中的有机金属化合物的光学特性的变化来照射光的上述感光基板的预定部分,并且分解和/或去除 。 上述感光基板对紫外线高度敏感,并且可以适当地采用用于图案化的方法以在短时间内实现精细图案化。
    • 6. 发明申请
    • 有機薄膜形成方法、有機薄膜形成用補助剤及び有機薄膜形成用溶液
    • 有机薄膜形成方法,有机薄膜形成的帮助和有机薄膜形成的解决方案
    • WO2006009202A1
    • 2006-01-26
    • PCT/JP2005/013376
    • 2005-07-21
    • 日本曹達株式会社木村 信夫藤田 佳孝肥高 友也
    • 木村 信夫藤田 佳孝肥高 友也
    • B05D7/24B01J19/00C03C17/28C03C17/30
    • B05D7/24B05D1/185B82Y30/00B82Y40/00C03C17/28C03C17/30C03C2217/76
    •  少なくとも1以上の加水分解性基を有する金属系界面活性剤(1)と、有機溶媒中、前記金属系界面活性剤(1)と相互作用し得る化合物から得られる有機薄膜形成用補助剤と、少なくとも1以上の加水分解性基を有する金属系界面活性剤(2)とを混合して得られる有機薄膜形成用溶液を基板と接触させる工程により、前記基板表面に有機薄膜を形成する有機薄膜形成方法であって、水分含量が所定量範囲内になるように調整されているか又は保持されていることを特徴とする有機薄膜形成方法、また、少なくとも1以上の加水分解性基を有する金属系界面活性剤と前記界面活性剤と相互作用し得る触媒とを混合して得られる有機溶媒溶液を基板と接触させることにより、前記基板表面に有機薄膜を形成する有機薄膜形成方法であって、前記有機溶媒溶液が、水分を所定量含有するものであり、かつ、前記金属系界面活性剤の加水分解生成物である水酸基含有化合物を20~2000ppm含有することを特徴とする有機薄膜形成方法、この方法に用いる有機薄膜形成用補助剤及び有機薄膜形成用溶液。
    • 一种有机薄膜形成方法,包括以下步骤:将由含有至少一个可水解基团的金属表面活性剂(1),由化合物制备的有机薄膜形成助剂混合制备的有机薄膜形成溶液 在有机溶剂中与金​​属表面活性剂(1)相互作用,和含有至少一个可水解基团的金属表面活性剂(2)一起与基底接触以在基材的表面上形成有机薄膜,其特征在于水 内容被调节或维护以便落入预定内容范围内。 还提供了一种有机薄膜形成方法,其包括将通过将含有至少一个可水解基团的金属表面活性剂与可与表面活性剂相互作用的催化剂混合而制备的有机溶剂溶液与基材接触的步骤, 在基材表面上形成有机薄膜,其特征在于有机溶剂溶液具有预定的含水量,并含有20〜2000ppm的作为金属表面活性剂的水解产物的含羟基化合物。 还提供了用于有机薄膜形成的助剂和用于该方法的有机薄膜形成溶液。
    • 8. 发明申请
    • 有機無機複合体
    • 有机无机复合体
    • WO2006088079A1
    • 2006-08-24
    • PCT/JP2006/302710
    • 2006-02-16
    • 日本曹達株式会社木村 信夫芝田 大幹長谷川 一希
    • 木村 信夫芝田 大幹長谷川 一希
    • C08L83/04C09D183/04
    • C09D183/14C08K3/22C09D183/04C09D183/06
    •  表面が非常に高い硬度を有すると共に、内部及び裏面側が適当な硬度を有しつつ、かつ基体との密着性に優れた有機無機複合体を提供する。式(I): R n SiX 4-n (式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表す。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有することを特徴とする有機無機複合体。
    • 公开了一种对基材具有优异粘合性的有机 - 无机复合体,其中前表面具有非常高的硬度,而内部和后表面具有足够的硬度。 具体公开了一种有机 - 无机复合体,其特征在于主要含有下式(I)表示的有机硅化合物的缩合物:R n SiX 4-n(其中 R表示碳原子与Si直接结合的有机基团,X表示羟基或可水解基团,n表示1或2),并且含有至少一种与波长不大于350的光反应的光反应性化合物 nm,其选自金属螯合物,金属有机酸盐化合物,具有两个或更多个羟基或可水解基团的金属化合物,它们的水解产物和它们的缩合物,和/或由其衍生的化合物。
    • 10. 发明申请
    • 有機無機複合体
    • 有机无机复合体
    • WO2008069217A1
    • 2008-06-12
    • PCT/JP2007/073423
    • 2007-12-04
    • 日本曹達株式会社木村 信夫芝田 大幹長谷川 一希
    • 木村 信夫芝田 大幹長谷川 一希
    • C08F283/12C08F2/44C08L51/08
    • C08F2/44C08G77/20C08J3/28C08K2003/2241C09D183/04C08K5/0025C08L33/06
    •  表面が非常に高い硬度を有すると共に、内部及び裏面側が適当な硬度を有しつつ、かつ基体との密着性に優れた有機無機複合体を提供することである。 a)式(I):R n SiX 4-n (式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4-n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、 b)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物 c)紫外線硬化性化合物の硬化物 を含有することを特徴とする有機無機複合体。
    • 本发明公开了一种对基材具有优异粘合性的有机 - 无机复合体,同时具有极高硬度的前表面和足够硬度的内表面和后表面。 具体公开了一种有机 - 无机复合体,其特征在于主要含有(a)由下式(I)表示的有机硅化合物的缩合产物:R n SiX 4-n < SUB(其中,R表示与Si直接键合的碳原子的有机基团,X表示羟基或水解性基团,n表示1或2.当n为2时,R可以相同或不同) (4-n)为2以上时,X可以相同或不同),还含有(b)至少一种对波长为350nm的光敏感的光敏化合物,或 少量选自金属螯合物,金属有机酸盐化合物,具有两个或多个羟基或可水解基团的金属化合物,它们的水解产物和它们的缩合产物,和/或衍生自这种光敏剂的化合物 化合物,和(c)u的固化产物 紫外线固化性化合物。