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1. 发明申请

WO2005098539A1 感放射線組成物、積層体及びその製造方法並びに電子部品审中-公开
标题翻译：辐射敏感组合物，多层体及其制造方法和电子元件
公开(公告)号：WO2005098539A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/JP2005/005094
申请日：2005-03-22
申请人：日本ゼオン株式会社 , 東広和 , 寺田和代 , 木内孝司
发明人：東広和 , 寺田和代 , 木内孝司
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0048 , G03F7/038
摘要：【課題】　電気特性に優れ、溶解安定性が良好で、塗布ムラがなく、安全性の高い感放射線組成物、この感放射線組成物を用いてなる樹脂膜を基板上に形成した積層体、及びこの積層体の製造方法を提供する。【解決手段】　プロトン性極性基を含有する環状オレフィン系重合体、感放射線化合物、架橋剤及び溶媒を含有してなる感放射線組成物であって、該溶媒が、同一分子内に互いに異なる二つのアルキル基を有するジアルキレングリコールジアルキルエーテルを含有してなることを特徴とする感放射線組成物。基板と、その上に上記感放射線組成物を用いて形成された樹脂膜とからなる積層体。
摘要翻译：公开了一种非常安全的辐射敏感性组合物，其具有优异的电特性和良好的溶液稳定性，能够形成不含凹凸的涂层。还公开了一种多层体，其中通过使用该辐射敏感性组合物在基材上形成树脂膜，以及这种多层体的制造方法。含有具有极性质子基团，辐射敏感性化合物，交联剂和溶剂的环状烯烃聚合物的辐射敏感性组合物的特征在于，溶剂在一个分子中含有具有两个不同烷基的二烷基二醇二烷基醚。使用上述辐射敏感性组合物的多层体包含在基板上形成的基板和树脂膜。

2. 发明申请

WO2003056391A1 感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物和形成图案的方法
公开(公告)号：WO2003056391A1
公开(公告)日：2003-07-10
申请号：PCT/JP2002/013520
申请日：2002-12-25
申请人：日本ゼオン株式会社 , 小出村順司 , 東広和
发明人：小出村順司 , 東広和
IPC分类号： G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/038
摘要： A radiation-sensitive resin composition comprising an alicyclic olefin resin having acid groups, an acid generator, a crosslinking agent, and a solvent, wherein when the olefin resin has a weight-average molecular weight of less than 10000, the index C1 represented by the specific relationship (1) is 300 or above, while when it has a weight-average molecular weight of 10000 or above, the index C2 represented by the specific relationship (2) is 120 or above.
摘要翻译：包含具有酸基的脂环式烯烃树脂，酸产生剂，交联剂和溶剂的辐射敏感性树脂组合物，其中当所述烯烃树脂的重均分子量小于10000时，由特定关系（1）为300以上，当重均分子量为10000以上时，由特定关系（2）表示的指数C2为120以上。

3. 发明申请

WO2004029720A1 感放射線性樹脂組成物、樹脂パターン膜とその形成方法、及び樹脂パターン膜の利用审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，图案树脂膜，形成膜的方法及其用途
公开(公告)号：WO2004029720A1
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：PCT/JP2003/012495
申请日：2003-09-30
申请人：日本ゼオン株式会社 , 小出村順司 , 東広和
发明人：小出村順司 , 東広和
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0382
摘要：芳香族基と極性基とを有する基が結合した脂環式オレフィン樹脂、酸発生剤、架橋剤、及び溶剤を含有し、低誘電率、平坦性、透明性、及び耐溶剤性に優れることに加えて、解像度、残膜率、及びパターン形状に優れ、しかも耐熱変色性にも優れる感放射線性樹脂組成物。該感放射線性樹脂組成物を用いた樹脂パターン膜の形成方法。該樹脂パターン膜とその電子部品用樹脂膜としての利用。
摘要翻译：包含具有芳族基团和极性基团的脂环族烯烃树脂的辐射敏感性树脂组合物，酸产生剂，交联剂和溶剂，并且显示低介电常数和优异的平坦度，透明性和耐溶剂性，并且是分辨率优异，膜厚保持，图案形状和耐热变色性; 通过使用该组合物形成图案化树脂膜的方法; 通过该方法制成的图案化树脂膜; 并在电子元件中使用电影。

4. 发明申请

WO2003100524A1 感放射線性樹脂組成物、パターン状樹脂膜を有する基板の製造方法、及び該樹脂組成物の利用审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，用于生产具有图案树脂膜的基材的方法，以及树脂组合物的使用
公开(公告)号：WO2003100524A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/JP2003/006599
申请日：2003-05-27
申请人：日本ゼオン株式会社 , 小出村順司 , 東広和
发明人：小出村順司 , 東広和
IPC分类号： G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/0382
摘要：脂環式オレフィン樹脂、酸発生剤、架橋剤、特定の構造を有するフェノール化合物、及び溶剤を含有し、低誘電率で、透明性、耐熱変色性、解像度、残膜率、パターン形状などに優れた樹脂膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物。該感放射線性樹脂組成物を用いて、パターン状の樹脂膜を有する基板を製造する方法。
摘要翻译：一种辐射敏感性树脂组合物，其包含脂环族烯烃树脂，酸产生剂，交联剂，具有特定结构的酚化合物和溶剂。该组合物可以得到具有低介电常数和透明性，耐变色性，分辨率，膜厚保持性，图案形状等的低介电常数的树脂膜。还提供了一种具有图案化树脂膜的基板的制造方法，该方法包括使用辐射敏感性树脂组合物。

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