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    • 10. 发明申请
    • 放射線撮像装置
    • 辐射成像装置
    • WO2011136244A1
    • 2011-11-03
    • PCT/JP2011/060206
    • 2011-04-27
    • 富士フイルム株式会社西納直行大田恭義岩切直人中津川晴康
    • 西納直行大田恭義岩切直人中津川晴康
    • G01T1/20H04N5/32
    • H04N5/32
    •  外部光による画像劣化を防止すると共に、製造工程における歩留まりの悪化を抑制する放射線撮像装置を提供する。放射線撮像装置(20)は、基板(120)と、前記基板(120)上に形成された画素(72)と、放射線を画素(72)が感度を有する光に変換する光変換部(122)と、を備え、基板(120)は、画素(72)が感度を有する波長帯域の光の透過を制限するフィルタ特性を有する。これにより、製造工程が簡単になり、製造工程における歩留まりの悪化を抑制することができると共に、外部光の影響による放射線画像の劣化を抑制することができる。
    • 公开了防止由于外界光而导致的图像劣化的放射线摄像装置,同时可以抑制生产过程的产量的降低。 具体公开了一种辐射成像装置(20),其包括:基板(120); 形成在所述基板(120)上的像素(72); 以及将辐射转换成像素(72)敏感的光的光转换单元(122)。 衬底(120)具有限制像素(72)敏感的波长范围内的光的透射的滤光器特性。 因此,生产过程变得简单,并且可以抑制由于外界光的影响而导致的放射线图像的劣化,从而可以抑制生产工艺的产量的降低。