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1. 发明申请

WO2007086517A1 次亜塩素酸合成方法及び装置审中-公开
标题翻译：用于合成高氯酸的方法和装置
公开(公告)号：WO2007086517A1
公开(公告)日：2007-08-02
申请号：PCT/JP2007/051286
申请日：2007-01-26
申请人：住友チタニウム株式会社 , 東和臣 , 小笠原忠司 , 下崎新二 , 片倉勝己
发明人：東和臣 , 小笠原忠司 , 下崎新二 , 片倉勝己
IPC分类号： C01B11/04 , C02F1/46 , C25B1/26 , C25B11/10
CPC分类号： C25B1/003 , C01B11/04 , C01B11/06 , C02F1/32 , C02F1/4674 , C02F1/725 , C02F1/727 , C02F1/74 , C02F2001/46142 , C02F2103/42 , C02F2201/46165 , C02F2201/4619 , C02F2305/10 , C25B1/26
摘要：　次亜塩素酸を外部からの電力エネルギーの供給なしに経済的に生成する。これを実現するために、酸化チタン電極１と対向電極２とで構成した光電池を、金属塩化物を含む電解質溶液３中に設置する。電解質溶液３中の光電池の対向電極２への酸素供給が可能な環境下で、酸化チタン電極１に光を照射する。
摘要翻译：经济地生产次氯酸而不提供外部电能。具体地说，将由氧化钛电极（1）和对置电极（2）组成的光电池放置在含有金属氯化物的电解液（3）中。在可以向电解液（3）中的光电池的对电极（2）供给氧的情况下，用光照射氧化钛电极（1）。

2. 发明申请

WO2007094189A1 光触媒式防汚装置审中-公开
标题翻译： PHOTPCATALYST型防爆装置
公开(公告)号：WO2007094189A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/JP2007/051937
申请日：2007-02-05
申请人：住友チタニウム株式会社 , 小笠原忠司 , 下崎新二 , 東和臣 , 松尾俊明
发明人：小笠原忠司 , 下崎新二 , 東和臣 , 松尾俊明
IPC分类号： C02F1/00 , B01J35/02 , C02F1/46 , C02F1/72
CPC分类号： C02F1/32 , C02F1/461 , C02F2305/10
摘要：　空気調和機のクーリングタワー、浄化水槽、フィルター等の水中受光環境下での藻の発生を防止する。これを実現するために、水１に浸漬し、表面に光を受ける防汚対象物２を、第１導電性部材とする。防汚対象面である前記表面に光触媒層３を設ける。導電性の防汚対象物２に対して、外部回路４を介して電気的に接続された第２導電性部材を、対極５として組み合わせ、水１の中に設置する。対極５の使用により光触媒層３による防藻効果を無電源で増強する。
摘要翻译：在空调机的冷却塔，净水槽，过滤器等中的水下光接收环境下，可以防止藻类的生成。为了达到这个目的，浸入水（1）中并在表面上接收光的防污物（2）用作第一导电构件。在该表面上设置光催化剂层（3），即防污物体表面。通过外部电路（4）与导电性防污物（2）电连接的第二导电构件被组合为对极（5）并放置在水（1）中。光催化剂层（3）的防藻效果通过使用反极（5）而没有供电而增强。

3. 发明申请

WO2005102521A1 酸化チタン系光触媒とその製造方法、およびその利用审中-公开
标题翻译：氧化钛基质光催化剂，其生产方法及其用途
公开(公告)号：WO2005102521A1
公开(公告)日：2005-11-03
申请号：PCT/JP2005/007451
申请日：2005-04-19
申请人：住友金属工業株式会社 , 住友チタニウム株式会社 , 西原克浩 , 正木康浩 , 福田匡 , 岡田克己 , 下崎新二 , 永岡佐太延 , 菅野英明 , 東和臣 , 小笠原忠司
发明人：西原克浩 , 正木康浩 , 福田匡 , 岡田克己 , 下崎新二 , 永岡佐太延 , 菅野英明 , 東和臣 , 小笠原忠司
IPC分类号： B01J35/02
CPC分类号： C01G23/0536 , B01J21/063 , B01J35/002 , B01J35/004 , B01J37/031 , C01P2006/12 , Y10T428/31678
摘要：　可視光応答型の高活性の酸化チタン系光触媒が、酸性チタン化合物をアンモニアまたはアミンにより終点ｐＨが７以下となる条件で中和して得た(水)酸化チタン原料を、加水分解性化合物を含む雰囲気で熱処理した後、水と接触させ、さらに３５０°C以上の温度で熱処理することにより製造される。得られた酸化チタン系光触媒は、比表面積が１２０ｍ 2 ／ｇ以下で、かつ表面水酸基の量が６００μｅｑ／ｇ以上の酸化チタンからなる。好ましくは、表面水酸基の密度が８μｅｑ／ｍ 2 以上で、表面水酸基のターミナル型水酸基量(Ｔ)とブリッジ型水酸基量(Ｂ)の比がＴ／Ｂ≧０.２０である。この酸化チタン系光触媒は、主スペクトルのｇ値が１.９９３～２.００３および２.００３～２.０１１の２種類の三重線シグナルを有するＥＳＲスペクトルを有し、これらのシグナルの可視光照射前、照射中および照射停止直後の強度比が従来品と異なることでも同定される。
摘要翻译：通过在末端pH <= 7的条件下首先用氨或胺中和酸性钛化合物，得到氧化钛（氢氧化物）的原料，制造可见光反应性高活性氧化钛基光催化剂，在含有可水解化合物的环境中对原材料进行热处理，使热处理材料与水接触并在> = 350℃下进行进一步的热处理。由此获得的氧化钛基光催化剂由<= 120M 2 / g比表面积和> = 600mueq / g表面羟基量的氧化钛组成。优选地，表面羟基的密度为> = 8mueq / m 2，相对于表面羟基，末端羟基（T）与桥连羟基（B）的比例T / B> 0.20。该钛氧化钛基光催化剂具有具有两种主要光谱g值为1.993〜2.003和2.003〜2.011的三重态信号的ESR光谱，并且可以通过可见光照射前的这些信号的强度比的偏差来识别在照射期间和在停止与现有技术光催化剂的照射后立即停止。

4. 发明申请

WO2007145184A1 空気浄化性に優れた照明器具审中-公开
标题翻译：照明设备在空气净化中的应用
公开(公告)号：WO2007145184A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/JP2007/061765
申请日：2007-06-12
申请人：住友チタニウム株式会社 , 小笠原忠司 , 松尾俊明 , 下崎新二 , 東和臣 , 三谷洋司
发明人：小笠原忠司 , 松尾俊明 , 下崎新二 , 東和臣 , 三谷洋司
IPC分类号： F21V33/00 , A61L9/00 , A61L9/01 , B01J35/02 , F21V3/04 , F21Y103/00
CPC分类号： A61L9/205 , A61L9/18 , A61L2209/12 , B01J35/004 , G09F13/00
摘要：　フルスペクトルの光を放出するランプと、このランプを囲繞し、二酸化チタンの薄膜からなる光触媒が担持された光触媒反応層が形成された透光性基体、または、二酸化チタンの薄膜からなる光触媒が担持された光触媒反応層が形成され、かつ赤外線の吸収機能を有する透光性基体を配置し、これらのランプと透光性基体との間に空気の流通が可能な空間を形成することにより、紫外光による空気浄化機能、可視光による照明機能、および赤外光による加熱機能というように、それぞれの特質に応じて有効に利用することにより、ランプから放出される光エネルギーの無駄を少なくできる。さらに、ランプから放出される光エネルギーによる加熱に加え、ランプから放出される赤外光による加熱の効果により、空気流通空間で強制対流が生じ、換気が十分に行われることから、空気の浄化作用が促進できる。
摘要翻译：一种照明设备，包括能够发射全光谱的灯的灯; 并且设置为围绕灯，设置有携带有二氧化钛薄膜的光催化剂的光催化剂反应层的透光性基底，或设置有携带有二氧化钛薄膜的光催化剂的光催化剂反应层的透光性基底，该具有红外线吸收能力的半透明基底，其中在灯和半透明基底之间设置有允许空气循环的空间，使得通过紫外线的空气净化功能，可见光的照明功能和红外线的加热功能，即，可以实现根据其特性的有效利用，从而减少从灯发出的光能的浪费。而且，不仅通过从灯发出的光能进行加热，还通过从灯发出的红外线加热的效果，在空气循环空间中产生强制对流，导致令人满意的空气通风，从而促进空气的作用纯化。

5. 发明申请

WO2007119489A1 可視光応答型酸化チタン光触媒とその製造方法および用途审中-公开
标题翻译：可见光反应型氧化钛光催化剂，用于制造可见光反应型氧化钛光催化剂的方法，以及可见光反应型氧化钛光催化剂的使用
公开(公告)号：WO2007119489A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/055886
申请日：2007-03-22
申请人：住友チタニウム株式会社 , 正木康浩 , 西原克浩 , 福田匡 , 岡田克己 , 田坂誠均 , 下崎新二 , 菅野英明 , 永岡佐太延 , 東和臣 , 小笠原忠司
发明人：正木康浩 , 西原克浩 , 福田匡 , 岡田克己 , 田坂誠均 , 下崎新二 , 菅野英明 , 永岡佐太延 , 東和臣 , 小笠原忠司
IPC分类号： B01J35/02 , B01J27/24 , B01J37/10 , C01G23/053
CPC分类号： C01G23/053 , B01D53/885 , B01D2255/20707 , B01D2255/802 , B01D2257/206 , B01D2257/30 , B01D2257/404 , B01D2257/406 , B01D2257/70 , B01D2257/91 , B01D2259/802 , B01J21/063 , B01J35/002 , B01J35/004 , B01J37/0209 , B01J37/0219 , B01J37/0225 , B01J37/0244 , B01J37/03 , B01J37/031 , B01J37/10 , C01P2002/54 , C01P2002/84 , C01P2002/85 , Y02P20/154 , Y10T428/31678
摘要：　可視光によって高い光触媒作用を発現できる可視光応答型酸化チタン光触媒は、酸性チタン化合物を含窒素塩基で中和させて得た酸化チタンおよび／または水酸化チタンを、加水分解性金属化合物（例、ハロゲン化チタン）を含む雰囲気で熱処理し、さらに水分量０.５～４.０ｖｏｌ％のガス中で３５０°C以上の温度で熱処理することにより製造される。この窒素含有酸化チタンからなる光触媒は、昇温脱離ガス分析による質量数ｍとイオンの電荷数ｅの比ｍ／ｅが２８のマスフラグメントスペクトル図において、６００°C以上に実質的ピークを有さず、かつ半値幅が最も小さいピークが４００～６００°Cの範囲にある。また、この光触媒はＸＰＳ測定によるＮ１ｓ殻結合エネルギースペクトル図で４００ｅＶ±１.０ｅＶに現れるピークから算出される窒素量が化学分析による窒素量の２０倍以上大きい。
摘要翻译：本发明提供了可见光反应型氧化钛光催化剂，其可以在暴露于可见光时产生高的光催化活性。可见光反应型氧化钛光催化剂是通过在含有可水解金属化合物（例如卤化钛）的气氛中，通过用含氮碱中和酸性钛化合物而制得的氧化钛和/或氢氧化钛，），并且在350℃以上的温度下进一步对水分含量为0.5〜4.0体积％的气体进行热处理。在通过热解吸分析的m / e值为28的质谱图谱中，m表示质量数，e表示离子电荷数，含氮氧化钛的光催化剂在600℃基本没有任何峰以上，半值宽度最小的峰值在400〜600℃的范围内。此外，对于光催化剂，通过XPS测量，在N1壳壳键能谱中以400eV±1.0eV出现的峰计算的氮含量比通过化学分析确定的氮含量大至少20倍。

6. 发明申请

WO2007083729A1 酸化チタン製造方法审中-公开
标题翻译：生产氧化钛的方法
公开(公告)号：WO2007083729A1
公开(公告)日：2007-07-26
申请号：PCT/JP2007/050759
申请日：2007-01-19
申请人：住友チタニウム株式会社 , 吉原正裕 , 小笠原忠司 , 下崎新二 , 東和臣
发明人：小笠原忠司 , 下崎新二 , 東和臣
IPC分类号： C01G23/04 , B01J35/02 , C23C16/02
CPC分类号： B01J35/004 , B01D53/8668 , B01D2255/20707 , B01D2255/802 , B01D2257/70 , B01D2259/804 , B01J21/063 , B01J37/0201 , B01J37/0215 , B01J37/0225 , B01J37/0244 , B01J37/03 , C01G23/0536 , C23C18/04 , C23C18/1204 , C23C18/1216 , C23C18/1241 , C23C18/1279 , C25D11/02 , C25D11/26
摘要：　基材の表面に均質な酸化チタン膜を経済的に形成する。これを実現するために、Ｔｉ分が０．１～１７重量％の四塩化チタン水溶液を、耐熱性を有する基材の表面に膜状に塗布する。液膜状態のまま、四塩化チタン水溶液を３００°C以上に加熱して、液膜中のＨ 2 Ｏ及びＨＣｌを揮発させて、酸化チタン膜とする。基材がアルミニウムなどのように耐酸性が劣る場合は、その金属基材の表面に予め酸化膜等の耐酸皮膜を形成しておく。
摘要翻译：公开了在基材表面上经济地形成均匀的氧化钛膜的方法。具体地说，将Ti含量为0.1〜17重量％的四氯化钛水溶液涂布在耐热基材的表面上。然后将液膜形式的四氯化钛水溶液加热至不低于300℃的温度，从而使液膜中的H 2 O和HCl挥发并形成氧化钛膜。在碱由耐酸性差的铝等材料构成的情况下，预先在金属基材的表面形成氧化膜等耐酸性涂膜。

7. 发明申请

WO2003070659A1 一酸化ケイ素の焼結体およびその製造方法审中-公开
标题翻译：一氧化硅的烧结对象及其制造方法
公开(公告)号：WO2003070659A1
公开(公告)日：2003-08-28
申请号：PCT/JP2002/012567
申请日：2002-11-29
申请人：住友チタニウム株式会社 , 夏目義丈 , 小笠原忠司 , 渡辺宗敏 , 東和臣 , 岩瀬敏治
发明人：夏目義丈 , 小笠原忠司 , 渡辺宗敏 , 東和臣 , 岩瀬敏治
IPC分类号： C04B35/01
CPC分类号： C04B35/645 , C04B35/14 , C04B2235/3418 , C04B2235/5427 , C04B2235/604 , C04B2235/658 , C04B2235/6581 , C04B2235/79
摘要： A sintered object of silicon monoxide being used as a material for forming a silicon oxide based thin film in which evaporation residue is 4% or less of the sample mass before measurement when thermogravimetry of a sample of sintered object is performed in a vacuum atmosphere where the heating temperature is 1300 ringC and the pressure is up to 10 Pa. The sintered object can be produced by sintering SiO particles having a grain size of 250 mum or above under a non-oxygen atmosphere after it is press-formed or while being pressed. Since the sintered object exhibits a high evaporation rate, productivity of silicon oxide based thin film can be enhanced when it is used as a material for forming a film. It can be applied widely for forming a silicon oxide based thin film being employed as an electric insulating film, a mechanical protection film, an optical protection film, a gas barrier for packaging a food, and the like.
摘要翻译：作为用于形成氧化硅类薄膜的材料的氧化硅系薄膜的烧结体，其中，在真空气氛中进行烧结体样品的热重分析时，蒸发残渣为测定前样品质量的4％以下，加热温度为1300℃，压力高达10Pa，烧结体可以在压制成型后或在被压制的同时，在非氧气氛下烧结粒径为250μm以上的SiO粒子。由于烧结体表现出高的蒸发速率，因此当用作形成薄膜的材料时，可以提高氧化硅基薄膜的生产率。可以广泛地应用于形成用作电绝缘膜的氧化硅基薄膜，机械保护膜，光学保护膜，用于包装食品的气体屏障等。

8. 发明申请

WO2004097962A1 リチウム二次電池用負極、その負極を用いたリチウム二次電池、その負極形成に用いる成膜用材料及びその負極の製造方法审中-公开
标题翻译：用于锂二次电池的负电极，负电极的锂二次电池，用于形成负极的膜沉积材料B和用于生产负极的工艺
公开(公告)号：WO2004097962A1
公开(公告)日：2004-11-11
申请号：PCT/JP2004/005527
申请日：2004-04-16
申请人：住友チタニウム株式会社 , 夏目義丈 , 小笠原忠司 , 東和臣
发明人：夏目義丈 , 小笠原忠司 , 東和臣
IPC分类号： H01M4/02
CPC分类号： H01M4/131 , H01M4/0404 , H01M4/0421 , H01M4/0426 , H01M4/0471 , H01M4/1391 , H01M4/485 , H01M4/525 , H01M10/0525 , H01M2004/027
摘要： SiOを負極30に用いたリチウム二次電池に特徴的な初期充電容量の大きさを阻害することなく、その欠点である初期効率の低さを大幅に改善する。サイクル特性を改善する。これらを実現するために、負極活物質層32として、真空蒸着若しくはスパッタリングにより形成された珪素酸化物の薄膜を、集電体31の表面に形成する。好ましくはイオンプレーティング法により薄膜を形成する。珪素酸化物はSiOx(0.5≦x
摘要翻译：为了弥补在负极（30）中使用SiO的锂二次电池的缺点，即低的初始效率和循环特性，而不会牺牲大的初始充电容量，锂二次电池的特征在于，通过真空沉积或溅射在集电体（31）的表面上形成氧化硅作为负极活性物质层（32）。优选地，通过离子电镀形成薄膜。氧化硅为SiOx（0.5 <= x <1.0），膜厚为0.1-50μm。作为真空蒸镀源，使用重量减少率为1.0％以下的SiO沉积物作为真空蒸镀源。在真空沉积中，集尘器（31）的表面在真空或惰性气氛中被清洁，并且在不暴露于大气的情况下形成氧化硅薄膜。

9. 发明申请

WO2003082769A1 一酸化珪素焼結体及びこれからなるスパッタリングターゲット审中-公开
标题翻译：一氧化硅烧结产品和包含其的溅射靶
公开(公告)号：WO2003082769A1
公开(公告)日：2003-10-09
申请号：PCT/JP2003/003894
申请日：2003-03-27
申请人：住友チタニウム株式会社 , 夏目義丈 , 小笠原忠司 , 渡辺宗敏 , 東和臣 , 岩瀬敏治
发明人：夏目義丈 , 小笠原忠司 , 渡辺宗敏 , 東和臣 , 岩瀬敏治
IPC分类号： C04B35/01
CPC分类号： C04B35/14 , C04B2235/3418 , C04B2235/40 , C04B2235/42 , C04B2235/421 , C04B2235/428 , C04B2235/77 , C04B2235/79 , C04B2235/96 , C23C14/3414
摘要：質量％で、ボロン、リンまたはアンチモンをドープした珪素粉末を２０～８０％含有させ、残部は一酸化珪素からなる原料粉末、または残部は一酸化珪素または一酸化珪素と二酸化珪素の混合物からなり、この混合物中の一酸化珪素の含有量が２０％以上である原料粉末を成形した一酸化珪素焼結体、およびこれを用いたスパッタリングターゲットである。この焼結体によれば、成膜速度を確保するとともに、成膜される膜特性の安定化を図ることができる。このため、光学用保護膜として透明プラスチックのガス透過防止、ガラスのＮａ溶出防止、またはレンズ表面の保護膜として用いられる酸化珪素系薄膜の成膜用として、広く適用することができる。
摘要翻译：通过形成由20〜80质量％的掺杂有硼，磷或锑的硅粉末和平衡量的一氧化硅或一氧化硅和二氧化硅的混合物构成的原料粉末而制备的一氧化碳烧结体，其中，混合物中一氧化硅的含量为20％以上; 以及使用该一氧化硅烧结体的溅射靶。溅射靶可用于确保令人满意的高成膜速率，同时提供减小膜特性变化的膜，因此可以广泛有利地用于形成作为光学用保护膜的氧化硅薄膜，用于例如，用于防止透明塑料中的气体渗透和防止钠从玻璃中溶解并保护透镜的表面。

10. 发明申请

WO2007013261A1 スパッタリングターゲット及びその製造方法、並びにそのスパッタリングターゲットを用いて形成したスパッタリング薄膜及びその薄膜を用いた有機ＥＬ素子审中-公开
标题翻译：溅射靶，其制造方法，使用这种溅射靶材形成的溅射薄膜以及使用这种薄膜的有机EL器件
公开(公告)号：WO2007013261A1
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：PCT/JP2006/313214
申请日：2006-07-03
申请人：住友チタニウム株式会社 , 株式会社アイメス , 城戸淳二 , 夏目義丈 , 小笠原忠司 , 東和臣 , 森浩一
发明人：城戸淳二 , 夏目義丈 , 小笠原忠司 , 東和臣 , 森浩一
IPC分类号： C23C14/34 , H01L51/50 , H05B33/04
CPC分类号： C23C14/3414 , C23C14/08 , H01B1/08 , H01L51/5253 , H05B33/26
摘要：　スパッタリング膜に高い水分バリア性と高い柔軟性を付与でき、合わせて、スパッタリングにおいて高い成膜レートを確保できると共に、成膜対象物へのダメージを可及的に軽減できるスパッタリングターゲットを提供する。これを実現するために、重量比でＳｉＯ粉末を２０～８０％含み、残部がＴｉＯ 2 粉末及び／又はＴｉ粉末である混合粉末を加圧焼結する。焼結体はＳｉαＴｉβＯγ（α、β、γはＳｉ、Ｔｉ、Ｏの各モル比）なる組成を有し、α／βが０．４５～７．２５、γ／（α＋β）が０．８０～１．７０を各満足する。
摘要翻译：公开了一种溅射靶，其能够提供具有高防潮性和高柔性的溅射膜。该溅射靶也可以确保高的成膜速率，同时减少在溅射期间对其上形成膜的物体的损伤。为了实现这样的溅射靶，将重量比为20-80％的SiO粉末和余量的TiO 2粉末和/或Ti粉末的粉末混合物经受压力烧结。烧结体的组成为SiaTißO （其中a，β和β表示Si，Ti和O的相应摩尔比），a /β满足0.45-7.25，而α/（a +β）满足0.80-1.70。

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