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    • 4. 发明申请
    • 光学素子及びその製造方法
    • 光学元件及其制造方法
    • WO2008156009A1
    • 2008-12-24
    • PCT/JP2008/060561
    • 2008-06-09
    • アルプス電気株式会社酒井 修古山 義幸
    • 酒井 修古山 義幸
    • G02B5/18G02B1/11G11B7/135
    • G11B7/1372G02B5/1871G11B7/1353
    • 【課題】 特に、段差が1.5μm以上あり、側面が傾斜面で形成された深溝構造に対して、反射防止効果を向上させた光学素子を提供することを目的としている。 【解決手段】 第1の成形体2には凸部6と凹部7からなる回折パターン5が形成されている。前記凸部6と凹部7間の段差H1は1.5μm以上である。凸部上面6aと凹部底面7a間の少なくとも前記底面7aに近い部分に、離型性を向上させるための傾斜面10が設けられているので、1.5μm以上の深溝の回折パターンが高精度に形成されるとともに、凸部上面6a、凹部底面7a及び前記傾斜面10に微細な凹凸形状から成る反射防止構造8が形成されているので、より適切に反射防止効果を向上させることができ、回折格子としての性能を適切に向上させることが可能である。
    • 提供一种具有改进的防反射效果的光学元件,特别是在具有1.5μm以上的台阶的深沟槽结构和侧面的倾斜面。 解决问题的手段在第一成型体(2)上形成由突出部(6)和凹部(7)构成的衍射图案(5)。 突出部(6)与凹部(7)之间的台阶(H1)为1.5μm以上。 由于在突出部上表面(6a)和凹部底面(7a)之间至少靠近凹部底面(7a)的部分配置有用于提高脱模性的倾斜面(10),因此衍射图案 高度准确地形成1.5μm以上的深沟槽,在突出部上表面(6a),凹部底面(7a)和凹部底面(7a)上形成由微细凹凸形成的防反射结构体(8) 倾斜表面(10)。 因此,可以更适当地改善防反射效果,并且可以适当地改善作为衍射光栅的性能。