专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2005121902A1 電子ビーム位置変動測定方法、電子ビーム位置変動測定装置、電子ビーム記録装置审中-公开
标题翻译：电子束位置波动测量方法，电子束位置波动测量装置和电子束记录装置
公开(公告)号：WO2005121902A1
公开(公告)日：2005-12-22
申请号：PCT/JP2005/010144
申请日：2005-06-02
申请人：パイオニア株式会社 , 小島良明
发明人：小島良明
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B7/261 , G11B9/10 , G11B11/10582 , H01J37/3174 , H01J2237/24405 , H01J2237/24542 , H01J2237/30438 , H01J2237/30472 , H01J2237/317
摘要：　電子ビーム記録装置の記録に先立って行われるビーム位置変動の測定に際して、安定且つ正確な変動量の測定を可能にする。　記録に先立って電子ビームＥＰの位置変動を測定する測定装置１０であって、ビームスポットＥＰの照射位置に配置されるナイフエッジ１１と、ナイフエッジ１１を介して照射される電子ビームＥを検出する検出手段（ファラデーカップ１２等）と、この検出手段の出力から測定対象の変動周波数成分を除去するフィルタ手段（高域カットフィルタ１４等）と、このフィルタ手段の出力に基づいて、ビームスポットＥＰの中心がナイフエッジ１１の先端位置になるように、電子ビームＥの基準位置を制御する制御手段１５とを備え、ビームスポットＥＰの中心がナイフエッジ１１の先端からずれる際の検出手段の出力変化によって、ビームスポットＥＰの位置変動を測定する。
摘要翻译：当通过电子束记录装置进行记录之前测量光束位置波动时，可以测量稳定和准确的波动量。测量装置（10）在执行记录之前测量电子束Ep的位置波动。测量装置（10）包括布置在光束斑点Ep的辐射位置处的刀刃（11），用于检测通过刀刃（11）施加的电子束E的检测装置（法拉第杯（12）等），用于从检测装置的输出中去除测量对象的波动频率分量的滤波器装置（高范围截止滤波器（14）等），以及用于控制电子束E的参考位置的控制装置（15）使得根据过滤装置的输出，光束斑点Ep的中心位于刀刃（11）的尖端位置。当光束斑点Ep的中心从刀刃（11）的前端偏移时，通过检测装置的输出变化来测量束斑Ep的位置波动。

2. 发明申请

WO2005091079A1 電子ビーム描画装置审中-公开
标题翻译：电子束光刻系统
公开(公告)号：WO2005091079A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：PCT/JP2005/005638
申请日：2005-03-22
申请人：パイオニア株式会社 , 小島良明
发明人：小島良明
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , G11B7/261 , H01J37/3174 , H01J2237/30483
摘要：電子ビームを偏向して電子ビームの照射位置を変化させるビーム偏向部と、基板の回転に同期した同期信号を生成する同期信号生成部と、１の円の描画から他の円の描画への移行に際し、上記同期信号に基づいてビーム偏向部を制御して電子ビームを基板の回転半径方向及び基板の回転接線方向で基板の回転とは反対方向に偏向させるコントローラと、電子ビームを回転半径方向に偏向させている期間に亘って基板への電子ビームの照射を遮断するビーム遮断部と、を有する。
摘要翻译：一种电子束光刻系统，包括用于通过偏转电子束来改变电子束的照射位置的光束偏转部分，用于产生与衬底的旋转同步的信号的部分，用于基于光束偏转部分控制光束偏转部分的控制器同步信号使电子束在基板的旋转径向上偏转，并且在沿着基板旋转的切线方向并沿与基板旋转相反的方向转换时另一个圆圈，以及用于在电子束在径向方向偏转的期间中用电子束照射衬底的部分。

3. 发明申请

WO2010082341A1 転写装置审中-公开
标题翻译：传送装置
公开(公告)号：WO2010082341A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：PCT/JP2009/050573
申请日：2009-01-16
申请人：パイオニア株式会社 , 加園修 , 橋本和信 , 藤縄正 , 小島良明
发明人：加園修 , 橋本和信 , 藤縄正 , 小島良明
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , G11B5/855
摘要：　転写基板を支持するセンターピンに、その中心を特定可能なマークが形成されている。
摘要翻译：可以指定中心销的中心的标记形成在支撑转印基板的中心销上。

4. 发明申请

WO2008056400A1 ディスク原盤製造方法审中-公开
标题翻译：生产碟片大师的方法
公开(公告)号：WO2008056400A1
公开(公告)日：2008-05-15
申请号：PCT/JP2006/322104
申请日：2006-11-06
申请人：パイオニア株式会社 , 小島良明
发明人：小島良明
IPC分类号： G11B7/26
CPC分类号： G11B7/261 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174
摘要：　原盤を線速度一定で回転駆動し、原盤の１回転当たり所定の移動量となる定速度で原盤を所定半径方向に平面移動させ、複数のトラック各々の１周目～(ｎ－１)周目各々の同心円のデータパターンの露光において原盤の表面上で原盤の１回転当たり第１偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向に偏向させ、１回目～(ｎ－１)周目各々の同心円のデータパターンの露光が終了すると、原盤の表面上で第２偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させ、ｎ周目の同心円のデータパターンの露光が終了すると、電子ビームの照射位置が隣接トラックの１周目の同心円の露光開始位置に位置するように原盤の表面上で第３偏向量だけ電子ビームを原盤の平面移動方向とは逆方向に偏向させるディスク原盤製造方法。
摘要翻译：一种制造盘主机的方法，其中主机以恒定线速度旋转驱动并以确保主机在预定径向方向上的预定移动量的恒定速度移动，电子束偏转在主体的平面移动方向上，通过在多个轨道的第一到第（n-1）轮的每个同心数据模式的曝光时，主机的表面上的主机的每转的第一偏转量，电子束在第一至第（n-1）轮完成同心数据图形的曝光完成时，在主机的表面上以与主机的平面移动方向相反的方向偏转第二偏转量，电子束在主体的表面上完成同时数据模式的曝光时，在与母板的平面移动方向相反的方向上偏转第三偏转量使得电子束的照射位置位于第一轮相邻轨道处的同心圆的曝光开始位置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式