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    • 1. 发明申请
    • ウエハレンズ集合体の製造方法及びウエハレンズの製造方法
    • 用于生产水平镜头组件的方法和用于生产水平镜的方法
    • WO2009133756A1
    • 2009-11-05
    • PCT/JP2009/057185
    • 2009-04-08
    • コニカミノルタオプト株式会社岡崎 直子細江 秀斎藤 正
    • 岡崎 直子細江 秀斎藤 正
    • G02B3/00
    • G02B3/0012B29C31/006B29D11/00365G02B3/0062
    •  ウエハレンズとスペーサーを確実に接着させることのできるウエハレンズ集合体の製造方法を提供するために、少なくとも一方の面に、硬化性樹脂製の複数の光学部材を設けた第1基板と、第1基板に接合される第2基板と、第1基板と第2基板との間に設けられる絞り部材と、を有し、第1基板と第2基板とは光硬化性樹脂からなる接着剤を介して接合されるウエハレンズ集合体の製造方法として、接合部分に光硬化性樹脂からなる接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、絞り部材を形成する工程と、絞り部材形成工程後、接着剤塗布工程で塗布された接着剤に対して、光を照射して前記接着剤の硬化を進める光硬化工程と、を有し、絞り部材は、光硬化工程で照射される光が接着剤に到達することを妨げないように形成する。
    • 提供一种用于制造晶片透镜组件的方法,其中晶片透镜和间隔物可以可靠地接合。 一种晶片透镜组件的制造方法,具有:第一基板,其至少在一侧设置有由固化树脂制成的多个光学部件,与第一基板接合的第二基板,设置在第一基板之间的隔膜部件, 第一和第二基板,其中第一和第二基板通过由UV固化树脂组成的粘合剂粘合,包括用由UV固化树脂组成的粘合剂涂覆粘合部分的步骤,形成隔膜的步骤 以及通过在形成隔膜部件的步骤之后用光照射粘合剂,促进在涂布粘合剂的步骤中施加的粘合剂的固化的UV固化步骤。 在该方法中,隔膜构件形成为不防止在UV固化步骤中照射的光到达粘合剂。
    • 3. 发明申请
    • 射出ノズル及び成形機
    • 注射喷嘴和成型设备
    • WO2008152872A1
    • 2008-12-18
    • PCT/JP2008/058771
    • 2008-05-13
    • コニカミノルタオプト株式会社宮崎 岳美細江 秀藤井 雄一
    • 宮崎 岳美細江 秀藤井 雄一
    • B29C45/20B29K101/10
    • B29C45/20B29C2045/2787Y10S425/042Y10S425/047
    •  本発明は、粘度の低い樹脂材料を用いた場合でも、樹脂漏れを抑制して射出圧力を確保できる射出ノズル及び成形機を提供する。射出成形において、特に、射出ノズルと固定金型の密着が良好に行われ樹脂が漏れ出ないことが重要である。ここから樹脂が漏れると、成形圧力が低下し、樹脂の成形収縮が大きくなって、成形品の品質にヒケや転写不良などの直接的な悪影響を及ぼすからである。本実施の形態によれば、ノズル11の周溝11c内のO-リング12が、全周で弾性変形しながら凹状の球面8bに密着当接するので、粘度の低い熱硬化性樹脂であっても漏れを効果的に抑制できる。
    • 提供一种注射喷嘴和成型装置,即使使用具有低粘度的树脂材料也能够通过抑制树脂泄漏来确保注射压力。 在注射成型中,特别重要的是注射喷嘴和固定金属模具彼此良好地粘附,并且树脂不会泄漏。 注射喷嘴和固定金属模具之间的树脂泄漏降低了成型压力,增加了树脂的成型收缩率,并且直接影响模制品的质量以产生水槽,转移失效等。 由于在喷嘴(11)的周向槽(11c)中的O形环(12)紧密地邻接于凹形球面(8b),同时在整个圆周上弹性变形,所以即使当树脂是热固性 具有低粘度的树脂。
    • 4. 发明申请
    • 金型構造、射出成形装置、及び成形方法
    • 金属模具结构,注塑成型设备和成型方法
    • WO2009016990A1
    • 2009-02-05
    • PCT/JP2008/063110
    • 2008-07-22
    • コニカミノルタオプト株式会社宮崎 岳美藤井 雄一細江 秀
    • 宮崎 岳美藤井 雄一細江 秀
    • B29C45/34B29C45/40B29C45/56B29C45/70B29L11/00
    • B29C45/2608B29C45/1701B29C2791/006B29D11/00
    •  粘度の低い樹脂等であってもこれを用いて光学素子を容易に成形することができ、空気による弊害を抑えることができる金型構造及び射出成形装置を提供するために、固定金型61と可動金型62とを有する金型構造であって、両金型61、62の間に、気密性を保つためのO-リング63aと、樹脂の漏れを防止するための樹脂シール63bと、を有することを特徴とする。O-リング63aにより、両金型61、62を合わせて形成されるキャビティCV内を減圧することにより、減圧下で樹脂供給及び樹脂硬化を行う真空成形を行うことができる。これにより、キャビティCV内に射出される樹脂の空気の巻き込みによる気泡発生の防止等の効果を得ることができる。また、樹脂シール63bにより、低粘度の樹脂であっても金型61、62からの樹脂漏れを防ぐことができる。
    • 提供一种金属模具结构和注射成型装置,即使由低粘度等树脂也可以容易地进行光学元件的成型,并且可以抑制空气的任何负面影响。 金属模具结构的特征在于,所述结构包括:模具(61,62),固定模具(61)和可动模具(62);以及用于保持气密性的O形环(63a)和树脂密封件 63b),用于防止任何树脂泄漏。 O形环(63a)通过连接模具(61,62)形成的空腔(CV)中的压力降低,从而可以在减小的压力下进行树脂供给和树脂固化的真空成型 。 因此,可以实现防止由于注入树脂在空腔(CV)内的空气捕获引起的空气鼓泡的效果。 此外,即使使用低粘度的树脂,树脂密封件(63b)也可以防止树脂从模具(61,62)泄漏。
    • 5. 发明申请
    • 射出機構、射出成形機及び光学素子
    • 注射机械,注射成型机和光学元件
    • WO2008152925A1
    • 2008-12-18
    • PCT/JP2008/060010
    • 2008-05-30
    • コニカミノルタオプト株式会社細江 秀宮崎 岳美藤井 雄一
    • 細江 秀宮崎 岳美藤井 雄一
    • B29C45/53B29C45/18G02B1/04B29L11/00
    • B29C45/53B29C45/18B29L2011/00
    •  樹脂材料を射出するストロークを繰り返す際に、ピストン13は、シリンダー12内における入口の位置P2まで摺動するので、更にピストン13が後退した場合、ピストン13近傍の樹脂は、樹脂貯留部RTから供給される新鮮な樹脂に置き換わることから、以降の射出ストロークにおいて、常に新鮮な樹脂のみを射出することが出来る。従って、シリンダー12の中で樹脂がポットライフを越えて滞留し硬化を始めたり粘度が大きくなったりすることがなく、かつ半硬化した樹脂などの異物が発生することもないので、樹脂流路が詰まったり成形キャビティまで流れたりすることを抑制でき、常に一定の成形条件を確保できるので、再現性の高い高精度な成形品を得ることができる。
    • 在用于注入树脂材料的重复冲程中,活塞(13)滑动到气缸(12)内的入口位置(P2)。 因此,当活塞(13)进一步后退时,活塞(13)附近的树脂被从树脂储存部(RT)供给的新鲜树脂代替。 因此,在随后的注射冲程中,只能注入新鲜的树脂。 因此,树脂不可能超过适用期并开始固化或引起气缸(12)内的粘度增加。 此外,不会产生诸如半固化树脂的异物。 因此,可以抑制树脂通道的堵塞和异物流入成型腔。 结果,可以始终确保给定的成型条件,从而可以以高再现性制造高精度的模制产品。
    • 6. 发明申请
    • 成膜方法、金型及び金型の製造方法
    • 薄膜成型方法,模具和制造模具的方法
    • WO2007139015A1
    • 2007-12-06
    • PCT/JP2007/060699
    • 2007-05-25
    • コニカミノルタオプト株式会社細江 秀松田 裕之
    • 細江 秀松田 裕之
    • C23C16/42C03B11/00C23C16/32
    • C23C16/325C23C16/042C23C16/56
    •  欠陥の少ない被膜を得ることができる成膜方法、及びその成膜方法を用いて得られる金型並びに金型の製造方法を提供する。キャリアガスである水素ガスを減少すると遊離炭素が増加し、その結果、成形転写面加工においては凹抉部が発生増大する原因となることを見出したのである。熱CVDに用いる水素ガスは2モルが常識であったのが、本発明者の研究により、3モル以上にすることで凹抉部の発生を顕著に抑制できることが判明したのである。ただし、あまり水素ガスを多くすると、全体に原料ガスが希釈されたことになるので反応速度が低下し、成膜速度が遅くなるので、8モル程度までが実用的な見地から好ましい。
    • 本发明提供一种成膜方法,其可以形成没有明显缺陷的膜,通过使用该成膜方法制造的模具及其制造方法。 已经发现,作为载气的氢气的还原增加了自由碳,这是造成模制转印面的加工中凹部发生的增加的原因。 与在热CVD中使用的氢气量为2摩尔的现有技术不同,本发明人进行的研究表明,当氢气量不少于3摩尔时,出现凹部 可以显着抑制。 从实用的观点出发,氢气的量优选为约8摩尔,因为当氢气量过大时,起始气体总体上被稀释,因此反应速度降低,导致 降低成膜速率。