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1. 发明申请

WO2006038439A1 焦点位置制御機構付き観察装置审中-公开
标题翻译：观察装置与焦点位置控制机制
公开(公告)号：WO2006038439A1
公开(公告)日：2006-04-13
申请号：PCT/JP2005/016843
申请日：2005-09-13
申请人：オリンパス株式会社 , 倉田俊輔 , 辻治之
发明人：倉田俊輔 , 辻治之
IPC分类号： G02B7/28 , G02B21/00
CPC分类号： G02B21/247
摘要：　本発明による顕微鏡用ＡＦ装置１は、複数の交換可能な対物レンズ２の一つを通して照明光を被検体３に照射し、被検体３からの反射光を観察するＣＣＤ（撮像素子）５を有する観察光学系６と、観察光学系６の対物レンズ２を通して被検体３にレーザ光（可視外光）を照射する投光部７と、被検体３で反射したレーザ光の光像の像面に配され、光像の像面内位置に応じた信号を出力するフォトディテクタ（光電変換部）８とを有して対物レンズ２と被検体３との相対距離を検出する焦点検出光学系１０と、焦点検出光学系１０からの出力信号に基づき被検体３の合焦位置を調整する被検体位置調整手段１１と、ＣＣＤ５の撮像範囲内にレーザ光の投光範囲を調整する絞り手段１２とを備えている。
摘要翻译：用于显微镜的AF装置具有观察光学系统（6），该观察光学系统（6）具有CCD（成像元件）（5），用于通过可互换物镜（2）中的一个发射照射到待观察物体（3）的照明光和观察来自物体（3）的反射光; 用于通过观察光学系统（6）的物镜（2）向对象（3）发射激光束（不可见光）的投影部分（7）。具有设置在由物体（3）反射的激光的光学图像的像面上的光电检测器（光电转换部）（8）的焦点检测光学系统（10），并输出取决于该位置的信号，在所述图像平面中的所述光学图像，并且检测所述物镜（2）和所述物体（3）之间的相对距离; 对象位置调整装置，用于根据来自焦点检测光学系统的输出信号调节对象物的焦点位置; 以及用于调节激光束投射到CCD（5）的成像区域中的面积的限制装置（12）。

2. 发明申请

WO2003028089A1 半導体ウエハ検査装置审中-公开
标题翻译：半导体波形检测系统
公开(公告)号：WO2003028089A1
公开(公告)日：2003-04-03
申请号：PCT/JP2002/009637
申请日：2002-09-19
申请人：オリンパス光学工業株式会社 , 辻治之 , 北原康利 , 橋本勝行 , 池野泰教 , 倉田俊輔 , 矢沢雅彦
发明人：辻治之 , 北原康利 , 橋本勝行 , 池野泰教 , 倉田俊輔 , 矢沢雅彦
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9503
摘要： A semiconductor wafer inspection system comprises a rotary table for holding a semiconductor wafer while sucking, an illuminator for illuminating at least the edge portion of the semiconductor wafer held on the rotary table, an image pickup device for imaging the edge portion of the semiconductor wafer illuminated by the illuminator, an image processor for acquiring the image at the edge portion imaged by means of the image pickup device and detecting at least an edge cut amount or a crack, and a section for displaying the image at the edge portion processed by means of the image processor.
摘要翻译：半导体晶片检查系统包括：用于在吸入时保持半导体晶片的旋转台，用于照亮保持在旋转台上的半导体晶片的至少边缘部分的照明器;用于对照射的半导体晶片的边缘部分进行成像的图像拾取装置通过照明器，用于获取通过图像拾取装置成像的边缘部分处的图像并且至少检测边缘切割量或裂缝的图像处理器，以及用于在边缘部分处显示图像的部分，图像处理器。

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