专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2009003839A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES VERBUNDKÖRPERS AUS EINEM BASISKÖRPER AUS OPAKEM QUARZGLAS UND EINER DICHTEN VERSIEGELUNGSSCHICHT 审中-公开
标题翻译：制造方法复合体，从不透明石英玻璃制成的基体和致密密封层
公开(公告)号：WO2009003839A1
公开(公告)日：2009-01-08
申请号：PCT/EP2008/057654
申请日：2008-06-18
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , WERDECKER, Waltraud , LEIST, Johann
发明人： WERDECKER, Waltraud , LEIST, Johann
IPC分类号： C03B19/06 , C03B20/00 , C03C1/00 , C03C3/06 , C03C17/02 , C03C17/25
CPC分类号： C03C1/006 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B20/00 , C03C1/008 , C03C3/06 , C03C17/02 , C03C2203/22 , C03C2218/11
摘要： Um ein bekanntes Verfahren zur Herstellung eines Verbundkörpers aus einem Basiskörper aus opakem Quarzglas und einer dichten Versiegelungsschicht dahingehend zu optimieren, dass der Basiskörper mit der dichten Versiegelungsschicht versehen werden kann, ohne dass es zu nennenswerten Veränderungen und Verformungen des opaken Materials kommt, wird erfindungsgemäß ein Verfahren vorgeschlagen, das folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Herstellen des Basiskörpers unter Einsatz eines ersten Schlickers, der größere amorphe SiO2-Teilchen enthält, (b) Bereitstellen eines zweiten Schlickers, der kleinere amorphe SiO2 Teilchen enthält und dessen Zusammensetzung sich von derjenigen des ersten Schlickers mindestens darin unterscheidet, dass er Si02-Nanoteilchen im Bereich zwischen 0,2 Gew.-% bis 15 Gew.-% enthält und der durch eine relativ niedrige Verglasungstemperatur charakterisiert ist (c) Erzeugen einer Schlickerschicht aus dem zweiten Schlicker auf einer Oberfläche des Basiskörpers, Trocknen der Schlickerschicht und (d) anschliessendes Verglasen der Schlickerschicht unter Bildung der dichten Versiegelungsschicht.
摘要翻译：为了优化的公知方法用于制造不透明石英玻璃制成的基体构成的复合体，和在该基体可在不引起明显的改变和不透明材料的变形而设置有紧密的密封层的致密密封层，本发明提供了一种方法含有（a）通过使用第一浆料的制造基体时，较大的无定形SiO 2个颗粒，（b）提供含有较小的无定形SiO 2颗粒，并从所述第一浆料的其组合物的第二浆料：提出了一种包括以下步骤至少的区别在于其重量％至15个重量％的SiO 2含有纳米颗粒的范围为0.2并且其特征在于通过Basiskö的表面上产生从第二浆料的浆料的相对低的玻璃化转变温度（℃）之间 rpers，干燥浆料和（d）之后的浆料的玻璃化，以形成紧密的密封层。

2. 发明申请

WO2006021415A3 COATED COMPONENT CONSISTING OF QUARTZ GLASS, AND METHOD FOR PRODUCING SAID COMPONENT 审中-公开
标题翻译：涂布组件QUARZGLAS及其制造方法COMPONENT
公开(公告)号：WO2006021415A3
公开(公告)日：2006-10-26
申请号：PCT/EP2005009073
申请日：2005-08-23
申请人： HERAEUS QUARZGLAS , KIRST ULRICH , STANG WOLFGANG , WEBER JUERGEN , WERDECKER WALTRAUD , TROMMER MARTIN , BECKER JOERG
发明人： KIRST ULRICH , STANG WOLFGANG , WEBER JUERGEN , WERDECKER WALTRAUD , TROMMER MARTIN , BECKER JOERG
IPC分类号： C03C17/02 , C03B19/02 , C03C17/25
CPC分类号： C03C17/25 , C03B19/066 , C03C17/02 , C03C2217/213 , Y10T428/26
摘要： The invention relates to methods for producing a coated component consisting of quartz glass, according to which the component surface is at least partially provided with a SiO 2 glass composition that differs from the quartz glass of the base body. The aim of the invention is to provide a novel way of coating a quartz glass component with a SiO 2 glass composition that can be produced in a cost-effective, reproducible manner, with any thickness, and can fulfil various functions according to the concrete embodiment thereof. To this end, an amorphous slip containing SiO 2 particles is produced and applied to the surface of the base body, forming a slip layer which is dried and then vitrified, forming a SiO 2 glass composition. The quartz glass components coated in this way can be advantageously used especially in the production of semiconductors.
摘要翻译：方法是已知的用于制造石英玻璃的涂敷的部件，在该部件表面_{至少部分地通过由SiO _{2 -Glasmasse提供，其从所述基体的石英玻璃的不同覆盖。向该基础2 是提供一种新类型的涂层具有的SiO _{-Glasmasse其可以是廉价的和可再现的，并且在任何期望的厚度制造，并且执行不同的功能根据它们的特定设计的石英玻璃部件的能，本发明提出，一个无定形的SiO _{2 产生含有浆料颗粒和被施加到基体的表面与形成滑动层的，干燥该滑动层，然后形成所述 2 -Glasmasse是上釉。这样涂覆后的石英玻璃元件可以特别是在半导体制造是有利的。}}}}

3. 发明申请

WO2010029147A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES QUARZGLASKÖRPERS 审中-公开
标题翻译：用于生产的石英玻璃体
公开(公告)号：WO2010029147A1
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：PCT/EP2009/061803
申请日：2009-09-11
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , WERDECKER, Waltraud , BAUER, Peter , SCHOETZ, Gerhard , LANGNER, Andreas , BRAEUER, Karsten
发明人： WERDECKER, Waltraud , BAUER, Peter , SCHOETZ, Gerhard , LANGNER, Andreas , BRAEUER, Karsten
IPC分类号： C03B32/00 , C03B37/012
CPC分类号： C03B37/01282 , C03B19/066 , C03B37/01291 , C03B2203/14 , C03B2203/42
摘要： Die Herstellung eines Quarzglaskörpers in einem Aufbau prozess, bei dem aus amorphen SiO2-Teilchen ein offenporiger Formkörper (5) mit zylinderförmiger Aussenseite gebildet wird, und einem Verdichtungsprozess, bei dem der Formkörper (5) zu dem Quarzglaskörper thermisch verdichtet wird, ist allgemein bekannt. Um dieses Verfahren hinsichtlich Produktivität und Kosteneffizienz zu optimieren, wird erf indungsgemäss vorgeschlagen, dass vor dem Verdichtungsprozess die zylinderförmige Aussenseite des Formkörpers (5) unter Belassung eines offenporigen Formkörper-Innenbereichs (6) mit einer gasdichten Versiegelungsschicht (7) versehen, und der mit der gasdichten Versiegelungsschicht (7) versehene offenporige Formkörper-Innenbereich (6) einer Konditionierungsbehandlung unterzogen wird.
摘要翻译：形成在无定形SiO 2颗粒的制造中的结构的石英玻璃体的过程的具有开孔的具有圆柱形外表面模制体（5），和一个压缩方法，其中所述成形体（5）热压缩到石英玻璃体，是众所周知的。为了在生产率和成本效率方面优化该过程中，提出ERFindungsgemäss提供所成型体的圆筒状的外侧面（5），同时留下一个开孔成型体内部区域（6）气密密封层（7）的压缩过程之前，并与设置有开孔的模制品调理治疗的内部区域（6）进行气密密封层（7）。

4. 发明申请

WO2008077807A1 QUARZGLAS-BAUTEIL MIT REFLEKTORSCHICHT SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN 审中-公开
标题翻译：带有反射涂层和方法石英玻璃部件生产同样
公开(公告)号：WO2008077807A1
公开(公告)日：2008-07-03
申请号：PCT/EP2007/063874
申请日：2007-12-13
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , WERDECKER, Waltraud , GERHARDT, Rolf , WEBER, Juergen
发明人： WERDECKER, Waltraud , GERHARDT, Rolf , WEBER, Juergen
IPC分类号： C03C17/25 , G02B5/02 , H01K1/32
CPC分类号： C03C17/25 , C03C2217/213 , C03C2217/24 , C03C2218/112 , G02B5/02 , H01J9/20 , H01J61/025 , H01J61/35 , H01K1/325 , H01K3/005 , Y10T428/26 , Y10T428/261 , Y10T428/265
摘要： Es sind Verfahren zur Herstellung eines Quarzglas-Bauteils mit Reflektorschicht bekannt, bei dem auf mindestens einem Teil der Oberfläche eines Substratkörpers aus Quarzglas eine als diffuser Reflektor wirkende Reflektorschicht aus Quarzglas erzeugt wird. Um hiervon ausgehend ein Verfahren anzugeben, das eine kostengünstige und reproduzierbare Herstellung gleichmäßiger SiO 2 -Reflektorschichten auf Quarzglas-Bauteilen ermöglicht, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Reflektorschicht durch thermisches Spritzen erzeugt wird, indem SiO 2 -Teilchen einemEnergieträger zugeführt, mittels diesem an-oder aufgeschmolzen und auf dem Substratkörper abgelagert werden. Bei einem nach dem Verfahren erhaltenen Quarzglas-Bauteil ist die SiO 2 -Reflektorschicht als durch thermisches Spritzen erzeugte und opak wirkende Schicht ausgebildet, die sich durch Rissfreiheit und Gleichmäßigkeit auszeichnet.
摘要翻译：有用于与反射体层，其中，作为漫反射器反射器层的力被由石英玻璃上形成的至少由石英玻璃构成的基板主体的表面的一部分制造的石英玻璃元件的方法。要指定此基础上的方法2 使得能够廉价且可重现的生产均匀的SiO _{的-Reflektorschichten在石英玻璃部件，本发明提出的是，反射器层是由热喷涂生产的，以SiO _{2 颗粒供给或熔化借助于此能量源和沉积在基板本体上。在由该方法的石英玻璃部件的SiO _{2 获得的一个被形成为通过热喷涂和不透明作用层产生的反射器层，其通过自由从裂纹和均匀性来区分。}}}

5. 发明申请

WO2011042262A3 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES BESCHICHTETEN BAUTEILS AUS QUARZGLAS 审中-公开
公开(公告)号：WO2011042262A3
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/EP2010/062794
申请日：2010-09-01
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , WERDECKER, Waltraud , SCHEICH, Gerrit , SCHENK, Christian
发明人： WERDECKER, Waltraud , SCHEICH, Gerrit , SCHENK, Christian
IPC分类号： C03C17/02 , C03B20/00 , C03B19/06
摘要： Bei einem bekannten Verfahren wird auf einem Basiskörper aus Quarzglas eine SiO 2 -Schlickerschicht durch Aufsprühen eines SiO 2 -Schlickers aufgebracht, die Schlickerschicht getrocknet und zu einer SiO 2 -haltigen Funktionsschicht gesintert. Um eine reproduzierbare Herstellung einer Funktionsschicht aus Quarzglas auch bei gewölbten oder zur Vertikalen geneigten Oberflächen mit großen Schichtdicken zu ermöglichen, die hohen Anforderungen an die Schichthomogenität genügt, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass der Schlicker in einer Dispersionsflüssigkeit folgende Komponenten enthält: splittrige, amorphe SiO 2 -Körnung mit einer Korngrößenverteilung mit einem D 50 -Wert im Bereich zwischen 3 μm und 30 μm mit einem auf den gesamten Feststoffgehalt bezogenen Gewichtsanteil von mindestens 10 Gew.-%, sphärische, amorphe SiO 2 -Teilchen mit einer Teilchengrößenverteilung mit einem D 50 -Wert im Bereich zwischen 1 μm und 50 μm, mit einem auf den gesamten Feststoffgehalt bezogenen Gewichtsanteil von mindestens 30 Gew. -%, SiO 2 - Nanoteilchen mit Teilchengrößen von weniger als 100 nm mit einem auf den gesamten Feststoffgehalt bezogenen Gewichtsanteil zwischen 0,2 Gew.-% und 10 Gew.-%, ein nichtionisches, alkalifreies Tensid mit einem auf das Volumen der Dispersionsflüssigkeit bezogenen Anteil im Bereich von 0,005 bis 0,5 %.

6. 发明申请

WO2006021415A2 BESCHICHTETES BAUTEIL AUS QUARZGLAS SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES BAUTEILS 审中-公开
标题翻译：来自石英玻璃的涂覆组分和生产组分的方法
公开(公告)号：WO2006021415A2
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005/009073
申请日：2005-08-23
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , KIRST, Ulrich , STANG, Wolfgang , WEBER, Jürgen , WERDECKER, Waltraud , TROMMER, Martin , BECKER, Jörg
发明人： KIRST, Ulrich , STANG, Wolfgang , WEBER, Jürgen , WERDECKER, Waltraud , TROMMER, Martin , BECKER, Jörg
IPC分类号： C03C17/02 , C03C17/25 , C03B19/02
CPC分类号： C03C17/25 , C03B19/066 , C03C17/02 , C03C2217/213 , Y10T428/26
摘要： Es sind Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Bauteils aus Quarzglas bekannt, bei denen die Bauteil-Oberfläche mindestens teilweise mit einer SiO 2 -Glasmasse versehen wird, die sich vom Quarzglas des Basiskörpers unterscheidet. Um hiervon ausgehend eine neue Art der Beschichtung eines Quarzglas-Bauteils mit einer SiO 2 -Glasmasse anzugeben, die kostengünstig und reproduzierbar und in beliebiger Stärke hergestellt werden kann, und die je nach ihrer konkreten Ausgestaltung unterschiedliche Funktionen erfüllen kann, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass ein amorphe SiO 2 -Teilchen enthaltender Schlicker erzeugt und auf der Oberfläche des Basiskörpers unter Bildung einer Schlicker-Schicht aufgebracht wird, die Schlicker-Schicht getrocknet und anschließend unter Bildung der SiO 2 -Glasmasse verglast wird. Die so beschichteten Quarzglas-Bauteil sind insbesondere in der Halbleiterfertigung vorteilhaft einsetzbar.
摘要翻译：
有已知的用于制造石英玻璃的涂覆部件的方法是已知的，其中在构件表面BEAR表面至少部分地涂覆有二氧化硅<子> 2 提供-Glasmasse从石英玻璃延伸的基体。至<子> 2 指定它们，开始一个新的类型涂覆具有的SiO -Glasmasse，成本导航使用廉价的瑞士和可再现地和在石英玻璃部件的任何圣＆AUML;可以制备强度，并根据其特定的设计根据本发明可以执行不同的功能。建议形成含有无定形SiO 2颗粒的浆料并将其涂覆到基体的表面上以形成浆料层，将浆料层干燥，然后得到浆料 SiO 2玻璃块被玻璃化。以这种方式涂覆的石英玻璃部件可以特别有利地用于半导体生产。

7. 发明申请

WO1994013399A1 CATALYST CARRIER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME 审中-公开
标题翻译：催化剂载体和工艺生产
公开(公告)号：WO1994013399A1
公开(公告)日：1994-06-23
申请号：PCT/EP1993003440
申请日：1993-12-07
申请人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH , WERDECKER, Waltraud , GERHARDT, Rolf , KROCK, Wolfgang
发明人： HERAEUS QUARZGLAS GMBH
IPC分类号： B01J21/08
CPC分类号： F01N3/2828 , B01J21/08 , B01J37/0009 , C04B38/0006 , C04B2111/0081 , C04B35/14
摘要： In order to provide a temperature- and acid-resistant catalyst carrier based on a gas-pervious carrier body and a porous surface layer having a high content of silicic acid, while dispensing with a washcoat, the carrier body and the surface layer are designed as a chemically and physically homogeneous structure shaped in a single operation, whose SiO2 content amounts to at least 99 % by weight and having a specific surface from 5 m /g to 50 m /g. In a process for producing a catalyst carrier made of synthetic, amorphous silicic acid particles with more than 99 % by weight SiO2, a plastic paste is prepared with the silicic acid particles, a liquid and a binder, a green compact is formed with the paste and then sintered. In order to design a continuous and economical process, plastifying agents are added to the paste and the paste is extruded into a monolithic green hank. The alkali and alkaline earth content of the paste is set at no more than 200 ppm and the green compact is sintered at a temperature in a range between 800 DEG C and 1400 DEG C.

8. 发明申请

WO1984001789A1 BIPOLAR ELECTRODE 审中-公开
标题翻译：双极电极
公开(公告)号：WO1984001789A1
公开(公告)日：1984-05-10
申请号：PCT/EP1983000265
申请日：1983-10-08
申请人： HERAEUS ELEKTRODEN GMBH , FABIAN, Peter , WERDECKER, Waltraud
发明人： HERAEUS ELEKTRODEN GMBH
IPC分类号： C25B11/00
CPC分类号： C25B11/00 , C25B9/04
摘要： Bipolar electrode with at least one anode portion (1) and one cathode portion (2) rigidly connected in a plane by an intermediary part (3).
摘要翻译：具有至少一个阳极部分（1）和一个阴极部分（2）的双极电极，通过中间部分（3）在平面中刚性连接。

9. 发明申请

WO2011042262A2 METHOD FOR PRODUCING A COATED QUARTZ GLASS COMPONENT 审中-公开
标题翻译：用于生产涂布组件由石英玻璃
公开(公告)号：WO2011042262A2
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/EP2010062794
申请日：2010-09-01
申请人： HERAEUS QUARZGLAS , SHINETSU QUARTZ PROD , WERDECKER WALTRAUD , SCHEICH GERRIT , SCHENK CHRISTIAN
发明人： WERDECKER WALTRAUD , SCHEICH GERRIT , SCHENK CHRISTIAN
IPC分类号： C03C17/02
CPC分类号： C03C17/02 , C03C2218/11
摘要： In a known method, a SiO2 slip layer is applied to a basic quartz glass body by means of spraying on an SiO2 slip, the slip layer is dried and sintered to form an SiO2-containing functional layer. In order to permit the reproducible production of a functional quartz glass layer, even in the case of surfaces that are curved or inclined with respect to the vertical, having high layer thicknesses which satisfy high requirements on the layer homogeneity, the invention proposes that the slip contain the following components in a dispersion liquid: splintery, amorphousSiO2 granules having a grain size distribution having a D50 value in the range of 3 µm to 30 µm and having a proportion by weight of at least 10% by weight, based on the total solids content; spherical, amorphous SiO2 particles having a particle size distribution having a D50 value in the range of 1 µm to 50 µm and having a proportion by weight of at least 30% by weight, based on the total solids content; SiO2 nano particles having particle sizes of less than 100 nm and having a proportion by weight between 0.2% and 10% by weight, based on the total solids content; and a non-ionic, alkali-free surfactant having a proportion in the range of 0.005 to 0.5%, based on the volume of the dispersion liquid.
摘要翻译：在已知的方法中的SiO2滑动层是通过在石英玻璃制成的基体喷涂在SiO 2浆料，干燥该浆料并烧结到含SiO 2的功能层施加。为了由石英玻璃构成的功能层的可重复制备，以允许即使在弯曲或倾斜到与满足上的涂层的均匀性高的要求大的层厚度的垂直表面，本发明提出的是，滑移包含以下组分的分散液：碎裂无定形的SiO 2-砂砾用在3微米与30微米与相关的总固体含量的重量的时间之间的范围内的D50值的晶粒尺寸分布，至少10重量％，具有在1之间的范围内的D50值的颗粒尺寸分布的球形，无定形SiO 2颗粒微米和50微米，按重量计有关的至少30的全部固体成分的重量比一个时间 - 。％，二氧化硅纳米颗粒的颗粒尺寸小于100nm与涉及的0.2重量之间.-％和10重量％的总固体含量的重量比例一个时间 .-％，非离子型，无碱表面活性剂与涉及在0.005〜0.5％的范围内的分散液馏分的体积的时间。

10. 发明申请

WO2010010036A3 METHOD FOR PRODUCING QUARTZ GLASS DOPED WITH NITROGEN AND QUARTZ GLASS GRAINS SUITABLE FOR CARRYING OUT THE METHOD 审中-公开
标题翻译：工艺生产氮掺杂的石英玻璃和实施措施QUARZGLAS GRAIN
公开(公告)号：WO2010010036A3
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：PCT/EP2009059141
申请日：2009-07-16
申请人： HERAEUS QUARZGLAS , SHINETSU QUARTZ PROD , TROMMER MARTIN , OCHS STEFAN , WEBER JUERGEN , WERDECKER WALTRAUD , TRAEGER NORBERT , LEBER HELMUT
发明人： TROMMER MARTIN , OCHS STEFAN , WEBER JUERGEN , WERDECKER WALTRAUD , TRAEGER NORBERT , LEBER HELMUT
IPC分类号： C03B17/04 , C03B19/01 , C03B19/04 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/1095 , C03B17/04 , C03B19/095 , C03B19/106 , C03B2201/24 , Y02P40/57 , Y10T428/268 , Y10T428/2982
摘要： In a known method for producing quartz glass that is doped with nitrogen, an SiO2 base product is prepared in the form of SiO2 grains or in the form of a porous semi-finished product produced from the SiO2 grains and the SiO2 base product is processed into the quartz glass with the nitrogen chemically bound therein in a hot process in an atmosphere containing a reaction gas containing nitrogen. From this starting point, a method is provided for achieving nitrogen doping in quartz glass with as high a fraction of chemically bound nitrogen as possible. This object is achieved according to the invention in that a nitrogen oxide is used as the nitrogen-containing reaction gas, and that a SiO2 base product is used that in the hot process has a concentration of oxygen deficient defects of at least 2 x 1015 cm-3, wherein the SiO2 base product comprises SiO2 particles having an average particle size in the range of 200 nm to 300 µm (D50 value).
摘要翻译：在用于制造掺杂氮的石英玻璃的已知方法，在二氧化硅粒或SiO 2的粒度所产生的预制件，多孔形式的SiO 2系的产品被提供，并且包含在一个热过程中的SiO 2系产物在含氮的反应气体气氛石英玻璃在化学上结合的氮处理。从方法出发是通过与化学结合氮的比例高氮掺杂的石英玻璃的方法表明是可以实现的。该目的创造性地实现，即反应气体的含氮，使用氮氧化物，并且基于SiO 2产物，使用具有至少2×10 15 cm -3的在热过程中，在SiO 2的SiO 2系产物的氧缺乏缺陷浓度具有在200纳米到300微米范围内的平均颗粒尺寸的颗粒是（D50值）。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式