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    • 1. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM PLASMASCHNEIDEN EINES WERKSTÜCKS MITTELS EINER PLASMASCHNEIDANLAGE UND PULSIERENDEM STROM
    • 方法等离子切割工件BY等离子切割工厂的脉动电流手段和
    • WO2011038713A1
    • 2011-04-07
    • PCT/DE2010/001119
    • 2010-09-21
    • KJELLBERG FINSTERWALDE PLASMA UND MASCHINEN GMBHFRIEDEL, JensIRRGANG, GerhardKRINK, VolkerOLLMANN, Jens
    • FRIEDEL, JensIRRGANG, GerhardKRINK, VolkerOLLMANN, Jens
    • B23K10/00
    • B23K10/00B23K10/006
    • Diese Anmeldung betrifft ein Verfahren zum Plasmaschneiden eines Werkstückes mittels einer Plasmaschneidanlage, die eine Plasmastromquelle und einen Plasmabrenner umfasst, der eine Elektrode und eine Düse aufweist, die einen geringen Abstand von der Elektrode an einem unteren Ende des Plasmabrenners hat, um eine Plasmakammer dazwischen zu bilden, dadurch gekennzeichnet, dass ein von der Plasmastromquelle erzeugter und durch den Plasmabrenner fließender Strom I zumindest während eines zeitlichen Teilabschnitts des Plasmaschneidvorgangs gezielt bzw. gesteuert zum Pulsieren mit einer frei wählbaren Frequenz f im Bereich von 30 Hz bis 500 Hz, vorzugsweise von 35 Hz bis 500 Hz, besonders bevorzugt von 55 Hz bis 400 Hz, gebracht wird oder ein von der Plasmastromquelle erzeugter und durch den Plasmabrenner fließender Strom I zumindest während eines zeitlichen Teilabschnitts des Plasmaschneidvorgangs gezielt bzw. gesteuert zum Pulsieren mit einer frei wählbaren Frequenz f im Bereich von 0,1 Hz bis 30 Hz, vorzugsweise von 0,1 Hz bis 29 Hz, besonders bevorzugt von 0,1 Hz bis 20 Hz, gebracht wird.
    • 本申请涉及一种用于等离子体由等离子切割系统,其包括等离子体功率源和具有电极,并具有从在所述等离子体焰炬的下端的电极的小距离,在其间形成等离子体腔室中的喷嘴的等离子炬来切割工件 其特征在于,从等离子体功率源产生的和有针对性或通过等离子体炬电流等离子切割操作的时间的一部分一部分期间我至少流在30至500Hz的范围内具有可自由选择的频率f脉冲,优选为35赫兹至控制 500赫兹,更优选地从55赫兹到400赫兹,被带到或从等离子体功率源,并通过定位或控制用于与可自由选择的频率脉冲f在范围VO的等离子切割过程的部分时间部分期间我至少流过的等离子炬的电流产生的电流 n为至多20赫兹,0.1赫兹带至30Hz,优选为0.1赫兹到29赫兹,更优选为0.1赫兹。