专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2011018507A2 METHOD FOR PRODUCING AN EMITTER ELECTRODE FOR A CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELL AND CORRESPONDING SILICON SOLAR CELL 审中-公开
标题翻译：方法用于制造发射极FOR A晶体硅太阳能电池及相关硅太阳能电池
公开(公告)号：WO2011018507A2
公开(公告)日：2011-02-17
申请号：PCT/EP2010061797
申请日：2010-08-12
申请人： SCHMID GMBH & CO GEB , HAVERKAMP HELGE , MITZINNECK PETRA , KIENINGER KAY , SOLLNER JUERGEN
发明人： HAVERKAMP HELGE , MITZINNECK PETRA , KIENINGER KAY , SOLLNER JUERGEN
IPC分类号： H01L31/18
CPC分类号： H01L31/022425 , Y02E10/50
摘要： The invention relates to a method for producing a front-side emitter electrode as a front contact for a silicon solar cell on a silicon wafer, wherein a recess is generated in the front side thereof. A front-side n-doped silicon layer and an antireflection layer are then generated. A paste is then introduced into the recess by means of an inkjet printer, said paste comprising electrically conductive metal particles and corrosive glass frit etching through the antireflection layer to the n-doped silicon layer and electrically contacting the same. Electrically conductive front contact metal is subsequently galvanically deposited in the recess on the tempered paste as a front contact.
摘要翻译：在用于制造正面发射电极作为一个坑的前侧为硅太阳能电池正面接触在硅晶片上的方法生成的。然后，生成的前侧的n掺杂硅层和防反射层。然后，通过喷墨打印机的装置，糊剂被引入到由防反射层到n掺杂硅层和电接触通过短暂加热蚀刻的孔含有导电金属颗粒和腐蚀性的玻璃料。然后，在沉积在退火糊的凹陷导电正面接触金属电沉积的前接触。

2. 发明申请

WO2011018507A3 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER EMITTER-ELEKTRODE FÜR EINE KRISTALLINE SILIZIUMSOLARZELLE UND ENTSPRECHENDE SILIZIUMSOLARZELLE 审中-公开
公开(公告)号：WO2011018507A3
公开(公告)日：2011-02-17
申请号：PCT/EP2010/061797
申请日：2010-08-12
申请人： GEBR. SCHMID GMBH & CO. , HAVERKAMP, Helge , MITZINNECK, Petra , KIENINGER, Kay , SOLLNER, Jürgen
发明人： HAVERKAMP, Helge , MITZINNECK, Petra , KIENINGER, Kay , SOLLNER, Jürgen
IPC分类号： H01L31/0224 , H01L31/18
摘要： Bei einem Verfahren zur Herstellung einer frontseitigen Emitter-Elektrode als Frontkontakt für eine Siliziumsolarzelle an einem Siliziumwafer wird in dessen Frontseite eine Vertiefung erzeugt wird. Dann werden eine vorderseitige n-dotierte Siliziumschicht und eine Antireflexions-Schicht erzeugt. Dann wird mittels eines Inkjet-Druckers eine Paste in die Vertiefung eingebracht, die elektrisch leitfähige Metallpartikel und ätzende Glasfritte enthält, die sich durch kurzzeitiges Erhitzen durch die Antireflexions-Schicht zur n-dotierten Siliziumschicht durchätzt und diese elektrisch kontaktiert. Danach wird in der Vertiefung auf die getemperte Paste elektrisch leitfähiges Frontkontakt-Metall galvanisch angelagert als Frontkontakt.

3. 发明申请

WO2005032758A1 VERFAHREN ZUM BETRIEB EINES GASLASERSYSTEMS 审中-公开
标题翻译：一种用于操作气体激光器系统
公开(公告)号：WO2005032758A1
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/EP2004/050555
申请日：2004-04-16
申请人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT , KILTHAU, Alexander , MAYER, Hans, Jürgen , MITZINNECK, Petra
发明人： KILTHAU, Alexander , MAYER, Hans, Jürgen , MITZINNECK, Petra
IPC分类号： B23K26/38
CPC分类号： B23K26/0622 , B23K26/382
摘要： Beim Betrieb eines Gaslasersystems, insbesondere mit einem CO 2 -Laser, werden jeweils vorgegebene Pulsfolgen (LPF1, LPF2, LPF3) in einer Arbeitsphase (APH1, APH2, APH3) auf einen bestimmten Bearbeitungspunkt eines Substrats gelenkt, und danach wird die Laserablenkung in einer Sprungphase (SPH1, SPH2) auf einen nächsten Arbeitspunkt verstellt. Um wegen ungleicher Abstände zwischen den Bearbeitungspunkten und entsprechend ungleich langer Sprungphasen eine unterschiedliche Abkühlung des Laserresonators und damit unterschiedliche Lochqualitäten bei dem vom Laser gebohrten Löchern zu vermeiden, wird eine Hochfrequenz-Pumpenergie (RF) auch während der Sprungphasen (SPH1, SPH2) intermittierend an den Laserresonator angelegt, so dass das Energieniveau in dem Resonator auf annähernd der gleichen Höhe gehalten wird wie während der Arbeitsphasen (APH1, APH2, APH3).
摘要翻译：在气体激光系统，特别是与CO 2激光器的操作中，在一个工作阶段分别是预定的脉冲序列（LPF1，LPF2，LPF3）（APH1，APH2，aph3）引导到处理衬底的特定点，并且此后，所述激光的偏转（在步骤相 SPH1，SPH2）调整到下一个操作点。为了避免由于在加工点和相应的不等长跳相激光腔的不同的冷却，因此不同的孔质量之间不等的距离的由激光孔钻孔，高频泵浦能量（RF）在该跳转相（SPH1，SPH2）间歇地向施加的激光谐振器，使得在谐振器以大致相同的水平的能量电平被保持为工作相（APH1，APH2，aph3）期间。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式