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2. 发明申请

WO2003043390A2 EINRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG EINES LOKALEN ELEKTRON-ZYKLOTRON-MIKROWELLEN-NIEDERDRUCKPLASMAS AN EINEM VORGEBBAREN ORT INNERHALB DER PROZESSKAMMER DER EINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR PRODUCTION甲LOCAL电子回旋微波低压等离子体在预定地点内组织的处理室
公开(公告)号：WO2003043390A2
公开(公告)日：2003-05-22
申请号：PCT/EP2002/011601
申请日：2002-10-17
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH , ULRICH, Sven , STÜBER, Michael , LEISTE, Harald , NIEDERBERGER, Lorenz , SELL, Konrad , LATTEMANN, Martina , LOOS, Roland
发明人： ULRICH, Sven , STÜBER, Michael , LEISTE, Harald , NIEDERBERGER, Lorenz , SELL, Konrad , LATTEMANN, Martina , LOOS, Roland
IPC分类号： H05H1/00
CPC分类号： H01J37/32192 , H01J37/32275 , H01J37/32678 , H05H1/46 , H05H2001/4622
摘要： Eine Einrichtung zur Erzeugung eines lokalen Elektron-Zyklotron-Mikrowellen-Niederdruckplasmas an einem vorgebbaren Ort innerhalb der Prozesskammer der Einrichtung besteht aus einer mit einem Mikrowellenspiegel versehenen Mikrowellenabstrahlvorrichtung, MAV, und einer Plasmalokalisierungseinheit, PLE, die mit ihrem im Freien verlaufenden Magnetfeld den reflektierten Mikrowellenstrahl kreuzt. Die Auskopplung für die Mikrowelle ist auf einen konisch konkaven Spiegel gerichtet und sitzt im Brennpunkt der Reflexionsfläche. Diese Fläche ist parabolisch, kann aber auch davon abweichend ellipsoid oder hyperboloid sein, and überdeckt den Brennpunkt. Auf jeden Fall ist der Gang des reflektierten Mik-rowellenstrahls parallel, zumindest aber annähernd parallel. Ein auf einem Substrathalter exponiertes Substrat steht im reflektierten Strahlengang der Mikrowelle. Ein Einrichtung zur Erzeugung eines Magnetfeldes kann entlang der Strahlachse des reflektierten Mikrowellenstrahls beliebig verschoben werden, so dass das im Freien verlaufende bauchige Magnetfeld mit dem Mickrowellenstrahl ein Kreuzungsvolumen bildet, in dem über die Magnetfeldsträrke, der Mikrowellenfrequenz und der Gasdichte darin die Bedingung für die Elektron-Zyklotron-Resonanz eingestellt werden kann. Durch die Verschiebung des Magnetfeldes kann das Substrat in die Nähe des Plasmas gebracht oder gar darin eingetaucht werden.
摘要翻译：装置，用于在该设备的处理腔室中的预定位置处产生的局部电子回旋微波低压等离子体由一个设置有一个微波镜Mikrowellenabstrahlvorrichtung，MAV和等离子体定位单元，PLE，这与其延伸磁场的反射微波束外侧交叉的，的微波的解耦被引导到锥形凹面镜和在反射面的焦点位于。该表面是抛物线形的，但也可以是，尽管，椭圆形或双曲面，并且覆盖的焦点。在任何情况下，反射Mik的-rowellenstrahls的路径是平行的，但至少近似平行。的基板支架上的暴露的衬底是在微波的反射光路中。一种用于产生磁场的装置可以被移动到沿着反射微波束的束轴的任何位置，使得运行在户外球根磁场形成与Mickrowellenstrahl的交点体积其中在Magnetfeldsträrke，微波频率和气体密度，对于电子的条件回旋共振可以调整。由于磁场的位移，该基底可以被带入等离子体附近或甚至在其中浸渍。

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