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    • 2. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES DÜNNSCHICHTBAUELEMENTS SOWIE DÜNNSCHICHTBAUELEMENT GEMÄSS DIESEM VERFAHREN
    • 用于生产根据薄膜成分和薄膜COMPONENT用这种方法
    • WO2011072663A2
    • 2011-06-23
    • PCT/DE2010/001523
    • 2010-12-17
    • FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.LASAGNI, Andrés, FabiánDANI, Ines
    • LASAGNI, Andrés, FabiánDANI, Ines
    • H01L31/18
    • H01L31/1884H01L31/0236Y02E10/50
    • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines elektrischen, photoelektrischen, elektrooptischen und/oder optischen Dünnschichtbauelementes (1), wobei auf und/oder mit einem Substrat (2) mindestens eine als erster elektrischer Kontakt des Dünnschichtbauelements geeignete, optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (TCF-Schicht, 3) aufgebracht und/oder verbunden wird, bevorzugt abgeschieden wird, wobei auf und/oder in mindestens eine der TCF-Schichten (3) Laserlicht (4) so eingestrahlt wird, dass hierdurch in ihr (3) ein Intensitätseintrag bewirkt wird und durch diesen Intensitätseintrag in ihr (3) durch Materialabtrag eine Vielzahl von Vertiefungen (5a, 5b,...) ausgebildet wird, und wobei in und/oder auf diese (n) so ausgebildeten Vertiefungen (5a, 5b,...) mindestens ein zur Ausbildung eines elektrischen, photoelektrischen, elektrooptischen und/oder optischen Effektes geeignetes Material (6) eingebracht, aufgebracht und/oder verbunden wird, bevorzugt abgeschieden wird.
    • 本发明涉及一种用于制造电,光电,电光和/或光学薄膜器件(1),其特征在于,上和/或与衬底(2)至少一种合适的作为薄膜组件的第一电接触,光学透明的,电 施加导电层(TCF-层,3)和/或连接的,优选沉积,其特征在于,上和/或在TCF-层中的至少一个(3)的激光(4)照射,以便从而在其(3) 的强度项进行,并通过在其该强度条目(3)通过去除材料形成的多个凹部(5A,5B,...),并且其中(内和/或在该(n)的所形成的凹部5A,5B, ...)被引入至少一种合适的用于形成电,光电,电光和/或光学效应的材料(6),施加和/或连接, 优选沉积。