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1. 发明申请

WO2010084001A1 VORRICHTUNG ZUR STRAHLFORMUNG VON LASERDIODENARRAYS 审中-公开
标题翻译： DEVICE成束激光二极管阵列
公开(公告)号：WO2010084001A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：PCT/EP2010/000344
申请日：2010-01-21
申请人： LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG , FORNAHL, Udo
发明人： FORNAHL, Udo
IPC分类号： G02B27/09
CPC分类号： G02B19/0066 , G02B19/0009 , G02B19/0014 , G02B19/0028 , G02B27/0961 , G02B27/0977
摘要： Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung, die in einer ersten, zu der Ausbreitungsrichtung der Laserstrahlung senkrechten Richtung zueinander beabstandete Teilstrahlen (14, 15) aufweist, insbesondere zur Formung von Laserstrahlung, die von einem Laserdiodenbarren ausgeht, umfassend eine Mehrzahl reflektierender Flächen (12), an denen jeweils mindestens einer der zueinander beabstandeten Teilstrahlen ( 14) derart reflektiert werden kann, dass nach der Reflexion die Abstände (b) der Teilstrahlen (15) zueinander kleiner als vor der Reflexion sind.
摘要翻译：一种用于在第一方向垂直整形的激光辐射到彼此以激光辐射的传播方向装置间隔开的部分光束（14，15），特别是用于成形从一个激光二极管条发出的激光辐射，包括：在多个反射表面（12）间隔开的子束（14）的其中至少一个可被反射，使得反射后的距离（b）该部分光束（15），以彼此的比反射之前小。

2. 发明申请

WO2012113713A1 VORRICHTUNG ZUR ÜBERLAGERUNG VON LASERSTRAHLEN EINER MEHRZAHL VON LASERLICHTQUELLEN IN EINER ARBEITSEBENE 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR存储激光的激光光在加工面上NUMBER
公开(公告)号：WO2012113713A1
公开(公告)日：2012-08-30
申请号：PCT/EP2012/052713
申请日：2012-02-16
申请人： LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG , LISSOTSCHENKO, Vitalij , JARCZYNSKI, Manfred , KUBACKI, Frank , FORNAHL, Udo , JENTSCH, Ulrich , BOGS, Dirk Walter
发明人： LISSOTSCHENKO, Vitalij , JARCZYNSKI, Manfred , KUBACKI, Frank , FORNAHL, Udo , JENTSCH, Ulrich , BOGS, Dirk Walter
IPC分类号： H01S5/40 , H01S5/022 , G02B27/10
CPC分类号： H01S5/4012 , B23K26/0608 , G02B19/0014 , G02B19/0057 , G02B19/0066 , H01S5/02212 , H01S5/02252 , H01S5/02284 , H01S5/02288 , H01S5/4025
摘要： Vorrichtung zur Überlagerung von Laserstrahlen (5a, 5b, 5c) einer Mehrzahl von Laserlichtquellen (9) in einer Arbeitsebene (6), umfassend eine Mehrzahl von Lasermodulen (3, 3a, 3b) mit jeweils einer Laserlichtquelle (9) und Optikmitteln (10) sowie eine gemeinsame Halterung (1) für mindestens zwei der Lasermodule (3, 3a, 3b), wobei die von einer ersten und einer zweiten Laserlichtquelle (9) ausgehenden Laserstrahlen (5a, 5b) in der Arbeitsebene (6) überlagert werden oder überlagert werden können, und wobei die Vorrichtung Verbindungsmittel für die Verbindung eines jeden der Lasermodule (3, 3a, 3b) mit der Halterung (1) umfasst, die derart gestaltet sind, dass sich die Justierung eines Lasermoduls (3, 3a, 3b) automatisch durch die Verbindung mit der Halterung (1) ergibt.
摘要翻译：设备用于叠加的激光束（图5a，5b，5c）的在工作平面上的多个激光光源（9）的（6），其包括多个激光模块（3，3A，3B），每个具有一个激光光源（9）和光学装置（10）和公共保持器（1），用于将激光模块中的至少两个（3，3A，3B），其特征在于，从第一和第二激光光源（9）的激光束发出的（5A，5B）被叠加在工作电平（6）或叠加能，以及用于与所述保持器（1）包括，其被配置为使得每个激光模块的连接（3，3A，3B），其中，所述装置连接装置，一个激光器模块的调整（3，3A，3B）自动地由获得了具有保持器（1）连接。

3. 发明申请

WO2010084021A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG EINER GEOMETRISCH DICHTEN AUSLEUCHTUNG EINER ARBEITSEBENE MIT LASERLICHT 审中-公开
标题翻译：方法和设备进行用于产生工作水平的几何紧照明用激光
公开(公告)号：WO2010084021A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：PCT/EP2010/000416
申请日：2010-01-25
申请人： LIMO PATENTVERWALTUNG GMBH & CO. KG , FORNAHL, Udo
发明人： FORNAHL, Udo
IPC分类号： G02B27/09
CPC分类号： G02B19/0057 , G02B19/0028 , G02B27/0961 , G02B27/0966 , G02B27/14
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer geometrisch dichten Ausleuchtung einer Arbeitsebene mit Laserlicht, wobei - Laserlicht, das von einem ersten Laserdiodenbarren emittiert wird, mittels einer Strahltransformationsvorrichtung (3) um 90° gedreht wird, bevor es auf die Arbeitsebene trifft, die in Strahlausbreitungsrichtung hinter der Strahltransformationsvorrichtung (3) angeordnet ist, wobei in der Arbeitsebene zwischen benachbarten Teilstrahlen (10, 11, 12) jeweils eine Dunkelzone mit geringer Laserlichtintensität erzeugt wird, und - Laserlicht von mindestens einer zweiten Laserlichtquelle emittiert wird und durch Reflexionsflächen (40, 40', 40", 41, 41', 41") eines Reflexionsmittels (4, 4') derart reflektiert wird, dass es in der Arbeitsebene auf die Dunkelzonen zwischen den benachbarten Teilstrahlen (10, 11, 12) der ersten Laserlichtquelle trifft. Darüber hinaus betrifft die vorliegende Erfindung eine Vorrichtung zur Erzeugung einer geometrisch dichten Ausleuchtung einer Arbeitsebene mit Laserlicht.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于产生一个工作平面的几何致密照明用的激光，其特征在于， - 从第一激光二极管条激光光射出的光，由90°的光束变换装置的装置旋转（3）之前它撞击在工作平面在光束传播方向布置在光束变换装置（3），其中，在相邻的子束之间的工作平面（10，11，12）在每种情况下产生具有较低的激光光强度的暗区，以及后面 - 激光从至少一个第二激光光源和由反射表面（40，40'发射，“的反射装置（4，4' “，41" ））40，41，41被反射，使得其在所述工作平面在第一激光源的相邻子光束（10，11，12）之间的暗区入射。此外，本发明涉及一种装置，用于产生一个工作平面的几何致密照明激光。

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