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    • 4. 发明申请
    • PROCEDE DE REALISATION D’UN SUPPORT D’ENREGISTREMENT OPTIQUE A PLUSIEURS ETAGES ET SUPPORT OBTENU
    • 用于生产多级光学记录介质和结果介质的方法
    • WO2006005827A1
    • 2006-01-19
    • PCT/FR2005/001236
    • 2005-05-17
    • COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUEMPO INTERNATIONALRABY, JacquesFARGEIX, AlainPLISSONNIER, MarcRUTY, Marine
    • RABY, JacquesFARGEIX, AlainPLISSONNIER, MarcRUTY, Marine
    • G11B7/26
    • G11B7/263G11B7/266
    • Le support d’enregistrement comporte au moins des premier (L1) et second (L2) étages micro-structurés assemblés par une couche de colle (4) et disposés entre des substrats inférieur (2) et supérieur micro-structurés. Une couche polymérisable constituant la couche de colle (4) est déposée sur le premier étage (L1). Ensuite, une matrice (5) transparente micro-structurée est posée provisoirement sur la couche de colle (4). La polymérisation de la colle (4), de manière à micro-structurer la couche de colle (4). La polymérisation de la colle (4) est effectuée par insolation, à travers la matrice (5), avec une lumière de polymérisation. Puis, la matrice (5) est retirée et le second étage (L2) est déposé sur la couche de colle (4) micro-structurée. Ensuite, une couche de colle supplémentaire (9) est déposée sur le second étage (L2) et la matrice (5) micro-structurée est posée définitivement sur la couche de colle (9) supplémentaire, de manière à constituer le substrat supérieur.
    • 本发明涉及包括至少第一(L1)和第二(L2)微结构化阶段的记录介质,其由粘合剂层(4)组装并且布置在微结构化的下层(2)和上基板之间。 构成粘合剂层(4)的可聚合层沉积在第一载物台(L1)上。 然后,将微结构化透明基体(5)暂时设置在粘合剂层(4)上。 聚合粘合剂(4),以使粘合剂层(4)微结构化。 粘合剂(4)的聚合通过基质(5)以聚合光的曝光进行。 然后去除基体(5),并将第二阶段(L2)沉积在微结构化粘合剂层(4)上。 然后在第二级(L2)上沉积另外的粘合剂层(9),并且将微结构化基质(5)永久地固定在另外的粘合剂层(9)上,以便构成上基材。
    • 5. 发明申请
    • FORMATION DE ZONES EN CREUX PROFONDES ET SON UTILISATION LORS DE LA FABRICATION D'UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT OPTIQUE
    • 形成深空区域及其在制造光记录介质中的应用
    • WO2008074947A1
    • 2008-06-26
    • PCT/FR2007/001988
    • 2007-12-04
    • COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUEFARGEIX, AlainMARTIN, Brigitte
    • FARGEIX, AlainMARTIN, Brigitte
    • G11B7/26
    • G11B7/261
    • Au moins une zone en creux est formée dans un empilement (3) d'au moins une couche supérieure (2) et une couche inférieure (4). La couche supérieure (2) est structurée pour former au moins une première région en creux traversant ladite couche supérieure (2). La première région en creux est prolongée par une seconde région en creux formée dans la couche inférieure (4), par gravure à travers un masque de gravure formé sur la couche supérieure (2) structurée. Le masque de gravure est formé par une couche en résine (8), positivement photosensible à un rayonnement optique (9) d'une longueur d'onde prédéterminée, exposée audit rayonnement optique (9), à travers l'empilement (3) et révélée. Les couches inférieure (4) et supérieure (2) de l'empilement (3) sont respectivement transparente et opaque à ladite longueur d'onde prédéterminée, de sorte que la couche supérieure (2) structurée sert de masque d'insolation pour la couche en résine photosensible (8).
    • 根据本发明,在至少一个上层(2)和一个下层(4)的堆叠(3)中形成至少一个中空区域。 上层(2)具有设计成用于形成延伸穿过所述上层(2)的至少一个第一中空区域的结构。 第一中空区域通过蚀刻通过形成在结构化上层(2)上的蚀刻掩模而延伸到形成在下层(4)中的第二中空区域中。 蚀刻掩模由对具有预定波长的光辐射(9)具有积极感光性并通过叠层(3)暴露于所述光辐射(9)的树脂层(8)形成。 堆叠(3)的下部(4)和上部(2)层分别对于所述预定波长是透明的和不透明的,使得结构化上层(2)用作感光树脂层(8)的绝缘掩模, 。