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1. 发明申请

WO2021130661A1 SYSTEM FOR THE LITHOGRAPHY-BASED ADDITIVE MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL (3D) STRUCTURES 审中-公开
公开(公告)号：WO2021130661A1
公开(公告)日：2021-07-01
申请号：PCT/IB2020/062300
申请日：2020-12-21
申请人： CUBICURE GMBH
发明人： GMEINER, Robert , FÖRSTER-ROMSWINCKEL, Thomas , NEUBAUER, Philipp , BUSETTI, Bernhard , STEIGER, Wolfgang , KROBATH, Raphael
IPC分类号： B29C64/20 , B29C64/223 , B29C64/124 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B29C64/129 , B29C64/227 , B29C64/264 , B29C64/393 , B33Y50/02 , B33Y70/00
摘要： A device for the lithography-based additive manufacturing of three-dimensional structures may comprise a building platform defining a building plane, a light engine designed for the dynamic patterning of light in an exposure field of said light engine, a material transport unit comprising a first drive mechanism for transporting a material layer across the exposure field, a second drive mechanism for causing relative movement of the light engine and the building platform along a displacement path extending parallel to the building plane, a linear encoder for sensing a position and/or a velocity of the light engine relative to the building platform, and/or one or more control units configured to adjust the feeding rate of a pattern data feeder based on the position or the velocity sensed by the linear encoder.

2. 发明申请

WO2020070639A1 RESIN COMPOSITION 审中-公开
公开(公告)号：WO2020070639A1
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：PCT/IB2019/058336
申请日：2019-10-01
申请人： CUBICURE GMBH
发明人： FRANK, Christian , GORSCHE, Christian , GMEINER, Robert
IPC分类号： C08F222/40 , B33Y70/00 , B29C64/124
摘要： A resin composition for three dimensional printing at elevated temperatures forming high temperature-resistant materials, the resin composition comprising a heat curable component A having one or more chemical species chosen from the group comprised of monomers and/or oligomers and/or prepolymers of maleimide derivatives according to formula and a light-curable component B having one or more chemical species chosen from the group comprised of (meth)acrylate, (meth)acrylamide, vinyl esters, vinyl ether, vinyl, allyl, alkinyl or styrenic compounds as well as derivatives thereof substituted with at least one molecule from the group from which component A is chosen, wherein the amount of component A ranges from 30 wt% to 95 wt% based on the total weight of components A and B and the amount of the light-curable component B ranges from 5 to 70 wt%, based on the total weight of components A and B.

3. 发明申请

WO2018032022A8 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR LITHOGRAPHIEBASIERTEN GENERATIVEN FERTIGUNG VON DREIDIMENSIONALEN FORMKÖRPERN 审中-公开
标题翻译：基于光刻技术的三维形体生成方法和装置
公开(公告)号：WO2018032022A8
公开(公告)日：2018-02-22
申请号：PCT/AT2017/000056
申请日：2017-08-10
申请人： CUBICURE GMBH
发明人： GMEINER, Robert
IPC分类号： B29C67/00 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B29C64/124 , B29C64/277 , B29C64/295 , B29C64/364 , B29C64/393 , B29C64/214 , B29C64/236
摘要： Bei einem Verfahren zur lithographiebasierten generativen Fertigung von dreidimensionalen Formkörpern (11), bei dem durch Einwirkung elektromagnetischer Strahlung verfestigbares Material (6) auf einer zumindest bereichsweise durchlässigen Materialauflage vorliegt, eine Bauplattform (5) in Abstand von der Materialauflage positioniert wird, zwischen der Bauplattform (5) und der Materialauflage befindliches Material (6) erwärmt wird und im erwärmten Zustand ortsselektiv von einer ersten Strahlungsquelle bestrahlt und verfestigt wird, wobei die elektromagnetische Strahlung von unten durch die für die Strahlung der ersten Strahlungsquelle zumindest bereichsweise durchlässige Materialauflage in das Material (6) eingebracht wird, erfolgt die Erwärmung des Materials (6) durch Bestrahlung der Materialauflage mit elektromagnetischer Strahlung einer zweiten Strahlungsquelle (12), wobei die Materialauflage für die Strahlung der zweiten Strahlungsquelle (12) im Wesentlichen undurchlässig ist.
摘要翻译：
在基于光刻生成式制造的三维成型＆OUML的方法;本LAR材料支撑构造平台（5）; rpern（11），其中，所述可凝固的通过暴露于电磁辐射的材料（6）上的至少局部殿下＆AUML 被定位在从所述材料支撑的距离，构建平台（5）和包含在其中的支撑材料的材料（6）ERW BEAR是RMT和ERW＆AUML之间; rmten状态在空间上选择性地通过第一辐射光源照射并固化，其中，从下方通过的电磁辐射 ˚F导航用途r是第一辐射源的辐射至少局部殿下BEAR其中所述通过照射具有第二辐射源的电磁辐射（12）的材料支撑体的材料（6）的材料支撑升温; ssige材料支撑被引入材料（6），声音广告＆AUML 用于第二束的辐射来源（12）基本上是不透明的。

4. 发明申请

WO2023072928A1 METALLGEFÜLLTE HARZFORMULIERUNG, 3D-DRUCKVERFAHREN UND ADDITIV GEFERTIGTES BAUTEIL 审中-公开
公开(公告)号：WO2023072928A1
公开(公告)日：2023-05-04
申请号：PCT/EP2022/079777
申请日：2022-10-25
申请人： SIEMENS HEALTHCARE GMBH , CUBICURE GMBH
发明人： OTT, Michael , WIRTH, Stefan , DINKEL, Nick , HÄUPL, Rainer , WREGE, Jan , GRASRUCK, Michael , GORSCHE, Christian , GMEINER, Robert , MORGANTI, Elena , SEIDLER, Konstanze
IPC分类号： C08K3/08 , C08K3/22 , C08K5/00 , C08K7/00 , B29C64/10 , B29C64/124 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y70/00 , B33Y70/10 , B33Y80/00
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine metallgefüllte Harzformulierung, insbesondere für ein 3D-Druckverf ahren, auf der Basis von schichtweiser Photopolymerisation zur Fertigung eines Bauteils, wobei die Harzformulierung eine photopolymerisierbare Matrixkomponente und einen dichten metallischen Füllstoff mit einem bestimmten minimalen Volumenanteil sowie einen Photoinitiator enthält. Durch schichtweises selektives Aushärten der metallgefüllten Harzformulierung wird mittels Lichtbestrahlung ein Bauteil additiv gefertigt. Die Erfindung befasst sich insbesondere mit der hochpräzisen Fertigung von strahlungsabsorbierenden Bauteilen auf der Basis lithographischer additiver Verfahren wie SLA, wobei aufgrund der besonderen Wahl der verwendeten Formulierung Wandstärken bis unter 100 μm bei dennoch großer Strahlenhärte und hoher Oberflächengüte erreichbar sind.

5. 发明申请

WO2022180566A1 HYBRID RESIN COMPOSITION FOR THE 3D-PRINTING OF OBJECTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022180566A1
公开(公告)日：2022-09-01
申请号：PCT/IB2022/051638
申请日：2022-02-24
申请人： CUBICURE GMBH
发明人： FRANK, Christian , GORSCHE, Christian
IPC分类号： B33Y10/00 , B33Y70/00 , B33Y80/00 , C08F222/10 , B29C64/124 , G03F7/00 , G03F7/16 , G03F7/38 , G03F7/20 , G03F7/027 , G03F7/038
摘要： A hybrid resin composition for the 3D-printing of objects, comprising at least one monofunctional, light-curable component A functioning as a reactive diluent (RD), at least one mono- or multifunctional, light-curable component B functioning as a toughness modifier (TNM), and at least one mono- or multifunctional, heat curable component C functioning as a Tg-enhancer (TGE).

6. 发明申请

WO2022069984A1 METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING AN OBJECT BY STEREOLITHOGRAPHIC 3D PRINTING 审中-公开
公开(公告)号：WO2022069984A1
公开(公告)日：2022-04-07
申请号：PCT/IB2021/058407
申请日：2021-09-15
申请人： CUBICURE GMBH
发明人： BAUMGARTNER, Sonja , GMEINER, Robert
IPC分类号： B29C64/112 , B29C64/124 , B29C64/40 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B29C37/00
摘要： A method of manufacturing an object by stereolithographic 3D printing, wherein the object is built on a building platform (2) layer-by- layer to obtain a stack of structured layers, wherein each structured layer is obtained by curing a photosensitive resin (4) according to a desired pattern, wherein a film of removable material being different from the photosensitive resin is arranged between two adjoining layers, wherein in a post-processing step said film of removable material is subjected to a physical and/or chemical process that causes the first film of removable material to disintegrate or lose its stability and the removable material is removed from the object.

7. 发明申请

WO2021130657A1 SYSTEMS AND METHODS FOR LITHOGRAPHY-BASED ADDITIVE MANUFACTURING THREE-DIMENSIONAL (3D) STRUCTURES 审中-公开
公开(公告)号：WO2021130657A1
公开(公告)日：2021-07-01
申请号：PCT/IB2020/062290
申请日：2020-12-21
申请人： CUBICURE GMBH
发明人： GMEINER, Robert , FÖRSTER-ROMSWINCKEL, Thomas , NEUBAUER, Philipp , BUSETTI, Bernhard , STEIGER, Wolfgang , KROBATH, Raphael
IPC分类号： G03F7/20 , B29C64/268 , B29C64/124 , B33Y10/00 , B33Y80/00 , G03F7/70416
摘要： A device for the lithography-based additive manufacturing of three-dimensional structures, comprises a building platform defining a building plane, a light engine designed for the dynamic patterning of light in an exposure field of said light engine, a material transport unit comprising a first drive means for transporting a material layer across the exposure field, second drive means for causing relative movement of the light engine and the building platform along a displacement path extending parallel to the building plane, a linear encoder for sensing a position and/or a velocity of the light engine relative to the building platform, control means configured to adjust the feeding rate of a pattern data feeding means based on the position or the velocity sensed by the linear encoder.

8. 发明申请

WO2021130654A1 SYSTEMS AND METHODS FOR LITHOGRAPHY-BASED ADDITIVE MANUFACTURING THREE-DIMENSIONAL (3D) STRUCTURES 审中-公开
公开(公告)号：WO2021130654A1
公开(公告)日：2021-07-01
申请号：PCT/IB2020/062286
申请日：2020-12-21
申请人： CUBICURE GMBH
发明人： GMEINER, Robert , FÖRSTER-ROMSWINCKEL, Thomas , NEUBAUER, Philipp , BUSETTI, Bernhard , STEIGER, Wolfgang , KROBATH, Raphael
IPC分类号： G03F7/20 , B33Y30/00 , B29C64/124 , G03F7/24 , B33Y80/00 , B33Y10/00 , B29C64/223 , G03F7/70416
摘要： A device for the lithography-based additive manufacturing of three-dimensional structures on a substrate, comprises a carrier element for carrying a substrate having a curved surface, a light engine designed for the dynamic patterning of light in an exposure field of said light engine, a material transport unit comprising a first drive means for transporting a material layer across the exposure field, second drive means for causing rotational movement of the substrate having the curved surface such as to establish a rolling contact of the curved surface on the material layer in a contact zone, said contact zone being arranged in the exposure field, and first control means configured to control said first and/or second drive means so that said rolling contact of the curved surface on the material layer is essentially slip-free.

9. 发明申请

WO2018232428A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR LITHOGRAPHIEBASIERTEN GENERATIVEN FERTIGUNG VON DREIDIMENSIONALEN FORMKÖRPERN 审中-公开
公开(公告)号：WO2018232428A1
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：PCT/AT2018/000052
申请日：2018-06-08
申请人： CUBICURE GMBH
发明人： GMEINER, Robert , FÖRSTER-ROMSWINCKEL, Thomas , NEUBAUER, Philipp
IPC分类号： B29C64/124 , B29C64/35 , B29C64/236 , B29C64/223
摘要： Verfahren zur lithographiebasierten generativen Fertigung von dreidimensionalen Formkörpern, bei dem eine Bauplattform (8) in Abstand von einer zumindest bereichsweise für die Strahlung einer Strahlungsquelle durchlässige Materialauflage (1) für ein durch Einwirkung der Strahlung verfestigbares Material positioniert wird, wobei die Materialauflage (1) zwischen einer ersten und einer zweiten Position translatorisch bewegt wird, dadurch gekennzeichnet, dass Material während der Bewegung der Materialauflage (1) von der ersten zur zweiten Position mit einer definierten Schichtdicke aufgetragen wird, anschliessend das aufgebrachte Material zwischen der Bauplattform (8) und der Materialauflage (1) orts- und/oder zeitselektiv von der Strahlungsquelle bestrahlt und verfestig wird und anschliessend Material während der Bewegung der Materialauflage (1) von der zweiten zur ersten Position von der Materialauflage (1) abgetragen wird.

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