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1. 发明申请

WO2018084467A1 도전성 막 형성용 은 합금 조성물 및 이의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：用于形成导电膜的银合金组合物及其制造方法
公开(公告)号：WO2018084467A1
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：PCT/KR2017/011541
申请日：2017-10-18
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 김동욱 , 홍길수 , 박주현
IPC分类号： C22C5/06 , C22F1/14 , C23C14/14 , H01L51/52 , B22D18/02 , H01L31/0445 , H01L31/0392
CPC分类号： B22D18/02 , C22C5/06 , C22F1/14 , C23C14/14 , H01L31/0392 , H01L31/0445 , H01L51/5218 , Y02E10/50
摘要： 본 발명은 은 합금 조성물과 관련된다. 본 발명은 실시예로 인듐(In), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 갈륨(Ga), 탄탈럼(Ta) 중 적어도 1종 이상의 원소 0.01 내지 5.0중량%, 산소 20ppm 이상 100ppm 미만 및 잔부가 은(Ag)과 불가피 불순물을 포함하는 은 합금 조성물을 제시한다.
摘要翻译：银合金组合物技术领域本发明涉及一种银合金组合物。的0.01元素中的至少一种或两种以上的铟（In），镁（Mg），铜（Cu），镓（Ga），钽（Ta）的本发明实施方案中，以5.0重量％，氧为20ppm或少于100ppm，余量多和少银（Ag）和不可避免的杂质。

2. 发明申请

WO2018084375A1 도전성 막 형성용 은 합금 조성물 및 이의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：用于形成导电膜的银合金组合物及其制造方法
公开(公告)号：WO2018084375A1
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：PCT/KR2016/015472
申请日：2016-12-29
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 이효원 , 홍길수 , 박주현
IPC分类号： C22C5/06 , C22F1/14 , C23C14/14 , H01L51/52 , B22D18/02 , H01L31/0445 , H01L31/0392
CPC分类号： B22D18/02 , C22C5/06 , C22F1/14 , C23C14/14 , H01L31/0392 , H01L31/0445 , H01L51/5218 , Y02E10/50
摘要： 본 발명은 은 합금 조성물과 관련된다. 본 발명은 실시예로 인듐(In) 0.01 내지 5.0중량%, 규소(Si), 게르마늄(Ge), 네오디뮴(Nd), 칼슘(Ca) 중 적어도 1종 이상의 원소 0.001 내지 0.5중량% 및 잔부가 은(Ag)과 불가피 불순물을 포함하고, 비커스 경도값이 60Hv 이하이며, 550nm 파장에 대한 광 반사율이 95% 이상인 은 합금 조성물을 제시한다.
摘要翻译：银合金组合物技术领域本发明涉及一种银合金组合物。铟的本发明实施例中（In）的0.01〜5.0重量％，硅（Si），锗（Ge），钕（Nd），钙（Ca）中的至少一种元素的0.001至0.5％（重量），所述的平衡或更小，并包括不可避免的杂质和（Ag）的60HV，或更多，的550nm下95％的波长的光反射系数的维氏硬度值呈现合金组合物。

3. 发明申请

WO2018062632A1 생산량 증대가 가능한 팔라듐/탄소 촉매의 제조방법 审中-公开
标题翻译：制造能够增加生产量的钯/碳催化剂的方法
公开(公告)号：WO2018062632A1
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：PCT/KR2016/015501
申请日：2016-12-29
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 이응준 , 조계성 , 홍은표 , 양성필 , 박주현 , 양승호
IPC分类号： B01J37/02 , B01J37/16 , B01J23/44 , B01J37/00 , B01J32/00
CPC分类号： B01J23/44 , B01J32/00 , B01J37/00 , B01J37/02 , B01J37/16
摘要： 본 발명은 팔라듐/탄소 촉매 제조방법과 관련된다. 본 발명은 실시예로 팔라듐 전구체를 산 용액에 용해시켜 팔라듐 전구체 용액을 제조하는 제1단계, 상기 팔라듐 전구체 용액에 pH를 높이기 위한 전처리제를 투입하는 제2단계, 전처리제가 투입된 상기 팔라듐 전구체 용액에 탄소 담체를 투입하는 제3단계, 상기 탄소 담체에 팔라듐을 담지하는 제4단계 및 팔라듐이 담지된 상기 탄소 담체에서 담지된 팔라듐을 환원시키는 제5단계를 포함하는 팔라듐/탄소 촉매의 제조방법을 제시한다.
摘要翻译：本发明涉及制备钯/碳催化剂的方法。在第二步骤中的本发明中，预治疗的钯前体溶液我注入到注入的引物用于在第一级中增加了pH值，为通过溶解酸钯前体实施例中的溶液制备的钯前体溶液中的钯前体溶液将钯负载在碳载体上的第四步，以及还原负载在钯负载的碳载体上的钯的第五步。

4. 发明申请

WO2018038285A1 열전소자 및 이를 포함하는 열전모듈 审中-公开
标题翻译：热电器件和包含它们的热电模块
公开(公告)号：WO2018038285A1
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：PCT/KR2016/009362
申请日：2016-08-24
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 김종배 , 연병훈 , 최종일 , 황병진 , 손경현 , 박재성 , 양승호 , 박주현
IPC分类号： H01L35/14 , H01L35/02 , H01L35/28 , H01L35/34
CPC分类号： H01L35/02 , H01L35/14 , H01L35/28 , H01L35/34 , Y02P70/605
摘要： 본 발명은 열전소자 및 이를 포함하는 열전모듈에 대한 것으로, 상기 열전소자는 탈탈럼(Ta), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo) 및 티타늄(Ti)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나로 형성된 확산방지층을 포함한다.
摘要翻译：
对于热电模块本发明包括热电元件和这一点，热电元件是由塔尔塔尔柱（Ta），钨（W），钼（Mo）和钛的组（Ti）的其由选自由以下组成的组中的至少一种形成：

5. 发明申请

WO2015064808A1 방전 플라즈마 소결을 이용한 LCD GLASS 제조용 산화물 분산 강화형 백금-로듐 합금의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：使用火焰等离子体烧结制造液晶玻璃的氧化物分散强化的铂 - 铑合金制造方法
公开(公告)号：WO2015064808A1
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：PCT/KR2013/009983
申请日：2013-11-06
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 윤원규 , 양승호 , 박재성 , 연병훈
IPC分类号： C22C1/04 , B22F3/14 , C22C5/04
CPC分类号： C22C5/04 , B22F2003/1051 , B22F2201/50 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , C22C1/0466 , B22F3/115 , B22F3/105 , B22F3/24 , B22F2003/247
摘要： 본 발명은 LCD Glass 제조 장치로 사용되는 산화물 분산 강화형 백금-로듐 합금의 제조에 관한 것으로, 보다 상세하게는 용융 방사법을 이용하여 백금 합금 박판을 제조한 후 단시간에 대기 열처리만으로 내부산화를 실시하고, 이후 방전 플라즈마 소결법(SPS)을 이용하여 밀도를 확보한 후 후가공을 통해 고밀도의 최종적으로 산화물을 미세하게 분산시킨 산화물 분산 강화형 백금-로듐 합금 소재의 신규 제조방법을 제공한다. 본 발명에서는 종래 밀도확보를 위해 사용된 핫프레스를 이용한 백금-로듐 합금 제조공정에 비해 공정시간 및 비용절감의 효과를 위해 발휘할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及用于LCD玻璃制造装置的氧化物分散强化铂 - 铑合金的制造，更具体地说，提供一种通过制造铂合金制造氧化物分散强化的铂 - 铑合金材料的新方法通过使用熔融纺丝法进行薄板化，仅在短时间内进行大气热处理进行内部氧化，通过使用放电等离子体烧结（SPS）法确保密度，最后通过后处理分散高密度氧化物。与通过使用用于确保密度的热压机制造铂 - 铑合金的常规方法相比，本发明可以显示加工时间和降低成本的效果。

6. 发明申请

WO2011062343A1 연속 열처리에 의해 향상된 접합강도를 가지는 금속 클래드재 및 그의 제조방법 审中-公开
标题翻译：金属材料，通过连续热处理改进的粘结强度及其生产方法
公开(公告)号：WO2011062343A1
公开(公告)日：2011-05-26
申请号：PCT/KR2010/004239
申请日：2010-06-30
申请人： 희성금속 주식회사 , 윤원규 , 김갑수 , 최동호
发明人： 윤원규 , 김갑수 , 최동호
IPC分类号： B23K20/04
CPC分类号： B23K20/04
摘要： 본 발명은, 연속 양산 진공 플라즈마 처리에 의한 클래드재 제조공정 중 연속 열처리에 의한 향상된 접합강도를 가지는 금속 클래드재를 제조하는 방법에 있어서, 내부에 온도를 올리기 위한 열선과 온도 제어를 위한 열센서(열전대)를 포함하고, 온도를 100~1000℃까지 조절 가능한 가이드 롤러를 압연롤 바로 뒷부분에 위치하게 하여, 압연롤을 통과한 클래드재가 동시에 연속적으로 가이드 롤러를 통과하면서 클래드재의 표면이 가이드 롤러로부터 열을 받아 클래드재의 표면의 확산에 의해 접합강도가 향상되는 것을 특징으로 한다. 또한 가이드 롤러 없이, 내부에 온도를 올리기 위한 열선과 온도 제어를 위한 열센서(열전대)를 포함하고, 온도를 100~1000℃까지 조절 가능한 압연롤을 사용하여, 클래드재가 압연롤을 통과하면서 클래드재의 표면이 압연롤로부터 열을 받아 클래드재의 표면의 확산에 의해 접합강도가 향상되는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：金属包覆材料的制造方法技术领域本发明涉及一种金属包覆材料的制造方法，该方法的结合强度通过连续大规模生产真空等离子体处理的复合材料制造工序中的连续热处理而提高，滚子，其内部具有用于增加温度的热丝和用于控制温度的热传感器（热电偶），直接位于压辊后面，其中导辊的温度可控制在100℃至1000℃ C。因此，已经通过压辊的包层材料连续地通过引导辊，使得包覆材料的表面被引导辊加热，并且通过在表面的扩散来改善包层材料的粘合强度复合材料。或者，不使用导辊，可以采用其内部具有用于提高温度的热丝的加压辊和用于控制温度的热传感器（热电偶），其中压辊的温度可以从100 在包层材料通过压辊的同时，通过压辊加热包层材料的表面，并且通过在表面的扩散来提高包层材料的粘合强度，包层材料。

7. 发明申请

WO2018139693A1 입도 제어에 따른 Bi-Te계 열전 재료의 제조 방법 및 이로부터 제조된 Bi-Te계 열전 재료 审中-公开
公开(公告)号：WO2018139693A1
公开(公告)日：2018-08-02
申请号：PCT/KR2017/000969
申请日：2017-01-26
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 연병훈 , 최종일 , 손경현 , 황병진 , 김종배 , 박재성 , 양승호
IPC分类号： C22C12/00 , B22F3/15 , B22F9/04 , C22C1/04
CPC分类号： B22F3/15 , B22F9/04 , C22C1/04 , C22C12/00
摘要： 본 발명은 Bi-Te계 열전재료의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 급속응고(RSP)를 통해 형성된 금속 리본을 비활성 분위기 하에서 고에너지 밀링인 유성밀링(planetary mill)를 통해 미립자 형태로 균일하게 분쇄한 후 소결함으로써, 입도 제어를 통해 열전도도 감소, 높은 제벡계수 및 전기전도도를 유지하여 열전 특성을 향상시킬 수 있는 신규 제조방법을 제공한다.

8. 发明申请

WO2018097399A3 산화도가 제어된 Bi-Te계 열전 재료의 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2018097399A3
公开(公告)日：2018-05-31
申请号：PCT/KR2017/001408
申请日：2017-02-09
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 연병훈 , 박재성 , 양승호 , 김종배 , 최종일 , 손경현 , 황병진
IPC分类号： H01L35/34 , H01L35/16 , H01L35/18
摘要： 본 발명은 Bi-Te계 열전재료의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 급속응고(Rapid Solidification Process: RSP)를 통해 형성된 금속 리본을 비활성 분위기 하에서 소정의 형상과 크기로 분쇄한 후 소결함으로써, 산화도 제어를 통해 열전도도 감소, 높은 제벡계수 및 전기전도도를 유지하여 열전 특성을 향상시킬 수 있는 신규 제조방법을 제공한다.

9. 发明申请

WO2017195929A1 도전성 막 형성용 은 합금 조성물 및 이의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：用于形成导电膜的银合金组合物及其制造方法
公开(公告)号：WO2017195929A1
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：PCT/KR2016/007096
申请日：2016-07-01
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 이효원 , 김동욱 , 홍길수 , 박주현
IPC分类号： C22C5/06 , C22F1/14 , B22D21/00 , B21J1/00 , B21B3/00 , H01L31/04
摘要： 본 발명은 은 합금 조성물과 관련된다. 본 발명은 실시예로 인듐(In) 0.01 내지 5.0중량%, 아연(Zn), 마그네슘(Mg), 백금(Pt), 팔라듐(Pd) 중 적어도 1종 이상의 원소 0.01 내지 5.0중량% 및 잔부가 은(Ag)과 불가피 불순물을 포함하고, 결정립은 10 내지 100㎛의 크기를 가지며, 550nm 파장에 대한 광 반사율이 95% 이상인 은 합금 조성물 및 이의 제조방법을 제시한다.
摘要翻译：银合金组合物技术领域本发明涉及一种银合金组合物。本发明是铟（In）0.01〜5.0％（重量）的实施例中，锌（Zn），镁（Mg），铂（Pt），钯（Pd），至少一种或多种，以5.0％的0.01元件的重量和的平衡存在包含不可避免的杂质和（Ag）和尺寸为10至100微米的晶粒，该光反射系数在95％以上为550nm的波长，提供了一种合金组合物及其制造方法。

10. 发明申请

WO2015064809A1 반도체용 재활용 Au 타겟의 제조방법 审中-公开
标题翻译：制造半导体回收目标的方法
公开(公告)号：WO2015064809A1
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：PCT/KR2013/009984
申请日：2013-11-06
申请人： 희성금속 주식회사
发明人： 강동한 , 홍길수 , 양승호 , 윤원규
IPC分类号： H01L21/203 , H01L21/60
CPC分类号： C23C14/3414 , H01L24/13 , H01L2224/13144
摘要： 본 발명은 반도체 RDL(Redistributed Layer)용 또는 Bump 용으로 사용되고 있는 Au 타겟 제조 방법에 관한 것으로, 플라즈마 스프레이 코팅(Plasma Spray Coating) 공법을 이용하여 폐타겟을 재활용하는 신규 방법에 관한 것이다. 본 발명에서는 폐타겟에 고순도 분말을 용사하여 재활용하므로, 고밀도, 고순도의 미세한 결정립을 가진 타겟을 제공할 뿐만 아니라, 제조시간 및 비용 단축에 효과적이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造用于半导体再分布层（RDL）或凸块的Au靶的方法，更具体地说，涉及一种使用等离子体喷涂方法再循环废料靶的新方法。在本发明中，通过向其喷射高纯度粉末来再循环废料。因此，不仅可以提供具有高密度，高纯度的细晶粒的靶，而且可以有效地减少制造时间和成本。

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