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    • 1. 发明申请
    • 곡면형 반도체 생산 장치 및 곡면형 반도체를 이용한 이미지 센서
    • 一种弯曲半导体生产设备和一种使用弯曲半导体的图像传感器
    • WO2018074820A1
    • 2018-04-26
    • PCT/KR2017/011475
    • 2017-10-17
    • 최진우
    • 최진우
    • H01L27/146H04N5/374
    • H01L27/146H04N5/374
    • 일 실시예에 따른, 오목부를 포함하는 반도체 기판에 회로 패턴을 형성하기 위한 장치는, 광원 장치, 상기 광원 장치로부터 조사된 광이 투과하는 적어도 하나의 천공을 포함하는 마스크, 및 상기 마스크를 투과한 광을 집광하여, 상기 반도체 기판의 오목부에 조사하도록 구성된 렌즈를 포함하고, 상기 마스크는 상기 적어도 하나의 천공으로 구성된 상기 회로 패턴을 포함하고, 상기 광이 상기 반도체 기판의 오목부에 조사됨에 따라, 상기 회로 패턴이 상기 오목부에 노광 되도록 구성될 수 있다.
    • 用于形成包括根据一个实施例的凹部的半导体基板上的电路图案的装置,包括至少一个穿孔以从所述光源照射的光透射,该光源装置 掩模,并通过冷凝已经经过了掩模的光,并配置了透镜来照射所述半导体基板的凹部,含由所述至少一个穿孔的电路图案的掩模,该光,所述半导体 当电路图案照射到衬底的凹入部分时,电路图案可被配置为暴露于凹入部分。