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1. 发明申请

WO2010002194A2 박리제 및 상기 박리제를 사용한 표시판의 제조 방법 审中-公开
标题翻译：去除剂和使用该脱模剂制造显示面板的方法
公开(公告)号：WO2010002194A2
公开(公告)日：2010-01-07
申请号：PCT/KR2009/003599
申请日：2009-07-01
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 이지선 , 서남석 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
发明人： 홍선영 , 박홍식 , 정종현 , 이지선 , 서남석 , 김봉균 , 최영주 , 이병진 , 김병욱 , 정종현 , 윤석일 , 신성건 , 허순범 , 정세환 , 장두영
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425
摘要： 본 발명은 1 내지 20중량%의 고리형 아민 화합물, 10 내지 90중량%의 글리콜 에테르 화합물, 그리고 잔량의 극성 용매를 포함하는 박리제 및 게이트 전극을 형성하는 단계, 상기 게이트 전극 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막 위에 반도체를 형성하는 단계, 상기 반도체 위에 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계, 상기 소스 전극 및 드레인 전극 위에 색 필터를 형성하는 단계, 상기 색 필터 위에 절연막을 형성하는 단계, 그리고 상기 절연막 위에 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 절연막을 형성하는 단계 및 상기 화소 전극을 형성하는 단계 중 적어도 하나는 감광막을 도포하는 단계, 상기 감광막을 노광하여 복수의 감광 패턴을 형성하는 단계, 상기 감광 패턴을 사용하여 식각하는 단계, 그리고 상기 감광 패턴을 박리하는 단계를 포함하며, 상기 감광 패턴을 박리하는 단계는 1 내지 20중량%의 고리형 아민 화합물, 10 내지 90중량%의 글리콜 에테르 화합물, 그리고 잔량의 극성 용매를 포함하는 박리제를 사용하는 표시판의 제조 방법에 대한 것이다.
摘要翻译：
本发明包括一种形成剥离剂和包含重量的1至20％的环状胺化合物，10〜90重量％的乙二醇醚化合物的，的极性溶剂的栅极电极的步骤和剩余量，所述在栅极上形成栅电极绝缘膜，形成于所述栅极绝缘膜，形成滤色器，其包括半导体：形成源极电极和在所述半导体漏电极，在源电极和漏电极，滤色器在形成绝缘膜，并且形成在绝缘膜上，形成步骤中的至少一个，和像素电极的像素电极，以形成所述绝缘膜包括将光敏薄膜的步骤中，由光敏膜暴露形成多个感光图案，蚀刻感光图案，和剥离图案的步骤中，剥离光敏图案的步骤是使用释放剂，其包含重量的从1％至20％的环胺化合物的极性溶剂，乙二醇醚化合物的10〜90重量％，其余在这种情况下，

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