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1. 发明申请

WO2003045867A1 透明導電膜付ガラス基板とその製造方法审中-公开
标题翻译：具有透明电磁膜的玻璃基板及其制备方法
公开(公告)号：WO2003045867A1
公开(公告)日：2003-06-05
申请号：PCT/JP2002/012258
申请日：2002-11-25
申请人：日本写真印刷株式会社 , 松川陽介 , 稲子吉秀 , 山田敏明 , 面了明
发明人：松川陽介 , 稲子吉秀 , 山田敏明 , 面了明
IPC分类号： C03C17/34
CPC分类号： C03C17/3417
摘要： A glass substrate with transparent electroconductive films, which comprises the glass substrate (2) and, laminated on one surface thereof in the following order, a first film (3) containing at least one metal oxide of the oxides of Zr, Ti, Al and Si in an amount of 90 wt % or more, a second film (4) containing SiO 2 in an amount of 90 wt % or more, and a third film (5) containing at least one metal oxide of the oxides of In, Sn, Zn, Sb, Al and Y in an amount of 90 wt % or more, and, laminated on the other surface of the substrate (2) in the following order, a forth film (6) containing at least one metal oxide of the oxides of Zr, Ti, Al and Si in an amount of 90 wt % or more, and a fifth film (7) containing SiO 2 in an amount of 90 wt % or more.
摘要翻译：一种具有透明导电膜的玻璃基板，其包括玻璃基板（2），并且按照以下顺序层压在其一个表面上，所述第一膜（3）含有至少一种Zr，Ti，Al的氧化物的金属氧化物，以及含量为90重量％以上的Si，90重量％以上的含有SiO 2的第二膜（4）和含有至少一种金属氧化物的第三膜（5）的In，Sn，Zn，Sb，Al和Y的氧化物的量为90重量％以上，并且按照以下顺序层压在基板（2）的另一个表面上，第四膜（6）含有 Zr，Ti，Al和Si的氧化物的至少一种金属氧化物的含量为90重量％以上，以及含有90重量％的SiO 2的第五膜（7）或者更多。

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