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    • 2. 发明申请
    • 光電変換装置及びその製造方法
    • 光电转换装置及其制造方法
    • WO2011148878A1
    • 2011-12-01
    • PCT/JP2011/061705
    • 2011-05-17
    • ソニー株式会社室山 雅和福島 和明
    • 室山 雅和福島 和明
    • H01M14/00H01L31/04
    • H01G9/2031H01G9/2059Y02E10/542Y02P70/521
    • 高い変換効率を有する光電変換装置及びその製造方法を提供すること。光電変換装置は、透明電極(2)とこの面に形成され色素が担持される多孔質金属酸化物半導体層(3)とを有する作用電極と、対向電極(5)と、電解質層(4)とを有し、酸化物半導体層の表面の水酸基濃度が0.01個/(nm) 2 以上、4.0個/(nm) 2 以下であり、同表面の吸着水濃度が0.03個/(nm) 2 以上、4.0個/(nm) 2 以下である。光電変換装置の製造方法は、透明電極(2)の面に多孔質金属酸化物半導体層(3)を形成する第1工程と、酸化性雰囲気における低温プラズマ処理によって、酸化物半導体層の表面の水酸基濃度を0.01個/(nm) 2 以上、4.0個/(nm) 2 以下、同表面の吸着水濃度を0.03個/nm 2 以上、4.0個/(nm) 2 以下となるように制御する第2工程と、酸化物半導体層に色素を担持させる第3工程とを有する。
    • 公开了一种具有高转换效率的光电转换装置; 以及制造光电转换装置的方法。 具体公开了一种光电转换装置,其特征在于,具备:工作电极,具有透明电极和多孔金属氧化物半导体层,所述多孔金属氧化物半导体层形成在所述透明电极的表面并负载着染料; 对电极(5); 和电解质层(4)。 氧化物半导体层表面的羟基浓度为0.01-4.0组/(nm)2(含),表面的吸附水浓度为0.03〜4.0个/(nm)2以下。 还具体公开了一种光电转换装置的制造方法,其特征在于,包括:在透明电极(2)的表面上形成有多孔金属氧化物半导体层(3)的第一工序。 第二步,将氧化物半导体层表面的羟基浓度控制在0.01〜4.0组/(nm)2(以下),将表面的吸附水浓度控制在0.03〜4.0个/(nm) 2(含),在氧化气氛中通过低温等离子体处理; 以及第三步骤,其中使氧化物半导体层支持染料。
    • 4. 发明申请
    • 光電変換装置及びその製造方法
    • 光电转换装置及其制造方法
    • WO2012111781A1
    • 2012-08-23
    • PCT/JP2012/053732
    • 2012-02-10
    • ソニー株式会社高木 裕登福島 和明羽生 和隆室山 雅和
    • 高木 裕登福島 和明羽生 和隆室山 雅和
    • H01M14/00H01L31/04H01M2/26H01M2/30
    • H01M14/005
    •  光電変換装置10Aは、第1基材21及び第2基材22、並びに、第1基材21と第2基材22との間に、第1基材側から、順次、設けられた、半導体層31、第1集電体51、電解質層41、触媒層32、及び、第2集電体61を備え、第1基材21と第2基材22とは外縁部において封止されており、第1集電体51は多数の貫通孔が設けられた導電材料から成り、リード部材本体部52及びリード部材延在部から構成され、導電材料片から成り、生成した電力を出力するためのリード部材を更に備えており、第1集電体51の外縁部にリード部材本体部62が取り付けられており、リード部材延在部は光電変換装置10Aの外側に突出している。
    • 光电转换装置(10A)具有:第一基材(21); 第二基材(22); 以及形成在第一基材(21)和第二集电体(61)之间的半导体层(31),第一集电体(51),电解质层(41),催化剂层(32)和第二集电体(61) 第二基材(22),从第一基材(21)侧开始。 第一基材(21)和第二基材(22)在其外缘部密封。 光电转换装置(10A)还具有用于输出发电的引线部件,所述引线部件由导电材料片构成,并且包括引线部件本体部(52)和引线部件延伸部。 引线部件主体部分安装在第一集电器(51)的外边缘部分上,并且引线部件延伸部分突出到光电转换装置(10A)的外部。