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1. 发明申请

WO2013047733A1 研磨用組成物审中-公开
标题翻译：抛光组合物
公开(公告)号：WO2013047733A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/JP2012/075051
申请日：2012-09-28
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド , 井澤由裕 , 吉崎幸信
发明人：井澤　由裕 , 吉崎　幸信
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14 , H01L27/105 , H01L45/00
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , H01L45/144 , H01L45/16 , H01L45/1666
摘要：　本発明の研磨用組成物は、相変化合金を有する研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、イオン性添加剤を含有することを特徴とする。イオン性添加剤の例としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、及びカチオン性水溶性高分子が挙げられる。
摘要翻译：该抛光组合物用于抛光具有相变合金的抛光对象的目的。该抛光组合物的特征在于含有离子添加剂。离子添加剂的实例包括阳离子表面活性剂，阴离子表面活性剂，两性表面活性剂和阳离子水溶性聚合物。

2. 发明申请

WO2012133561A1 研磨用組成物および研磨方法审中-公开
标题翻译：抛光组合物和抛光方法
公开(公告)号：WO2012133561A1
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/JP2012/058195
申请日：2012-03-28
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド , 玉田修一 , 平野達彦 , 井澤由裕 , 大西正吾
发明人：玉田　修一 , 平野　達彦 , 井澤　由裕 , 大西　正吾
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： C23F3/06 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要：　水溶液中において酸化剤との共存下でｐＨを低下させる物質と、ｐＨ緩衝剤とを含有する研磨用組成物を開示する。この研磨用組成物１００ｇに対して３１重量％過酸化水素水を５．１６ｇ添加した直後の研磨用組成物のｐＨと、過酸化水素を添加してから８日間静置した後の研磨用組成物のｐＨとの差は絶対値で０．５以下である。また、水溶液中において酸化剤との共存下でｐＨを低下させる物質と、ｐＨ制御剤とを含有する別の研磨用組成物を開示する。この研磨用組成物１００ｍｌに対して３１重量％過酸化水素水を５．１６ｇ添加した直後の研磨用組成物中の塩基性物質の量に比べて、過酸化水素を添加してから８日間静置した後の研磨用組成物中の塩基性物質の量は０．１ｍＭ以上増加する。
摘要翻译：公开了一种抛光组合物，其包含：在水溶液中在氧化剂存在下降低pH的物质; 和pH缓冲剂。在100g添加5.1重量％过氧化氢溶液至100g抛光组合物之后立即将抛光组合物的pH与沉淀后的抛光组合物的pH在添加后的8天之间的差异的绝对值过氧化氢溶液为0.5以下。还公开了不同的抛光组合物，其包含：在水溶液中降低与氧化剂共存的pH的物质; 和pH控制剂。与100ml抛光组合物中加入5.16g 31重量％过氧化氢溶液之后的抛光组合物中的碱性物质的体积相比，抛光组合物中的碱性物质在沉降8天后的量过氧化氢溶液的添加量增加至少0.1mM。

3. 发明申请

WO2013047734A1 研磨用組成物审中-公开
标题翻译：抛光组合物
公开(公告)号：WO2013047734A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/JP2012/075052
申请日：2012-09-28
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド , 吉崎幸信 , 井澤由裕
发明人：吉崎　幸信 , 井澤　由裕
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14 , H01L27/105 , H01L45/00
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , H01L45/06 , H01L45/144 , H01L45/1666
摘要：　本発明の研磨用組成物は、相変化合金を有する研磨対象物を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、アンモニウムイオン（NH ４＋）を含有することを特徴とする。研磨用組成物は、コロイダルシリカなどの砥粒をさらに含有してもよい。
摘要翻译：该抛光组合物用于抛光包含相变合金的抛光对象，其特征在于含有铵离子（NH 4 +）。该抛光组合物可另外含有磨粒，例如胶体二氧化硅颗粒。

4. 发明申请

WO2009096495A1 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法审中-公开
标题翻译：抛光组合物和使用该抛光组合物的抛光方法
公开(公告)号：WO2009096495A1
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2009/051510
申请日：2009-01-29
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド , 水野敬広 , 井澤由裕 , 赤塚朝彦
发明人：水野敬広 , 井澤由裕 , 赤塚朝彦
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/31053 , H01L21/3212
摘要：　本発明の第１の態様に係る研磨用組成物は、窒素含有化合物及び砥粒を含有し、ｐＨが１～７である。研磨用組成物中に含まれる窒素含有化合物は、一般式：Ｒ１－Ｎ（－Ｒ２）－Ｒ３（ただし、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３はそれぞれ、アルキル基あるいはアルキル基に特性基が付加した基を表しており、Ｒ１～Ｒ３のうちの２つが複素環の一部を構成してもよいし、Ｒ１～Ｒ３のうちの２つが共通し、残る１つとともに複素環の一部を構成してもよい。）で表される構造を有するか、あるいはカルボキシベタイン型両性界面活性剤、スルホベタイン型両性界面活性剤、イミダゾリン型両性界面活性剤、及びアミンオキサイド型両性界面活性剤のいずれかであることが好ましい。本発明の第２の態様に係る研磨用組成物は、水溶性高分子及び砥粒を含有し、酸化剤を含有せず、ｐＨが１～８である。
摘要翻译：公开了含有含氮化合物和磨粒的抛光组合物，其pH为1-7。抛光组合物中含有的含氮化合物具有以下通式表示的结构：R1-N（-R2）-R3（其中R1，R2和R3分别表示烷基或特征基团为加入到烷基中;并且R 1 -R 3中的两个可以形成杂环的一部分，或者R 3 -R 3中的两个可以表示相同的基团，并且与第三个一起形成杂环的一部分）。或者，含氮化合物由羧基甜菜碱两性表面活性剂，磺基甜菜碱两性表面活性剂，咪唑啉两性表面活性剂和氧化胺两性表面活性剂之一组成。还公开了含有水溶性聚合物和磨粒但不含氧化剂的抛光组合物。该抛光组合物的pH为1-8。

5. 发明申请

WO2012020672A1 研磨用組成物および研磨方法审中-公开
标题翻译：抛光组合物和抛光方法
公开(公告)号：WO2012020672A1
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：PCT/JP2011/067705
申请日：2011-08-02
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド , 玉田修一 , 平野達彦 , 梅田剛宏 , 角田和也 , 井澤由裕
发明人：玉田　修一 , 平野　達彦 , 梅田　剛宏 , 角田　和也 , 井澤　由裕
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： H01L21/30625 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要：　本発明の研磨用組成物は、水溶性ポリマー、研磨促進剤および酸化剤を含有する。水溶性ポリマーは、１５０ｍｇＫＯＨ／１ｇ・ｓｏｌｉｄ以上のアミン価を有するポリアミドポリアミンポリマーである。
摘要翻译：该抛光组合物含有水溶性聚合物，抛光促进剂和氧化剂。水溶性聚合物是胺值为150mg KOH / 1g·固体以上的聚酰胺 - 聚胺聚合物。

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