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    • 69. 发明申请
    • SPUTTERTARGET ZUR HERSTELLUNG EINER LICHT ABSORBIERENDEN SCHICHT
    • 用于制造光吸收层的溅射靶
    • WO2018046552A1
    • 2018-03-15
    • PCT/EP2017/072372
    • 2017-09-06
    • MATERION ADVANCED MATERIALS GERMANY GMBH
    • SCHLOTT, MartinSCHULTHEIS, MarkusHERZOG, Andreas
    • C23C14/06C23C14/08C23C14/18C23C14/34C22C29/12
    • Es ist ein Sputtertarget zur Herstellung einer Licht absorbierenden Schicht be- kannt, das aus einem Target-Werkstoff besteht, der eine Oxidphase enthält und einen im Vergleich zur stöchiometrischen Zusammensetzung reduzierten Sauer­ stoffgehalt aufweist. Um davon ausgehend, ein Sputtertarget bereitzustellen, das eine elektrisch leitfähige Phase enthält und Aufladungen und Partikelbildung ver­ meidet, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass der Target-Werkstoff eine metallische Phase aus Molybdän (Mo-Phase) enthält, und dass die Oxidphase Zinkoxid (ZnO-Phase) und eine Mischoxidphase mit der Formel MNO n-x enthält, wobei M die Hauptkomponente Zink (Zn) repräsentiert, und N mindestens eine der Nebenkomponenten Niob (Nb) und/oder Titan (Ti), und wobei x größer als Null ist und n die Anzahl von Sauerstoffatomen der stöchiometrischen Zusam- mensetzung der Mischoxidphase bezeichnet.
    • 已知有用于制造由化学计量组成比含有氧化物相且酸度降低的靶材构成的光吸收层的溅射靶。 有物质含量。 首先,提供含有导电相并促进电荷和颗粒形成的溅射靶。 避免,符合本发明。 提出目标材料包括钼(Mo相)的金属相并且氧化物相包含氧化锌(ZnO相)和具有式MNO nx x的混合氧化物相; 其中M是主要成分锌(Zn),N是次要成分铌(Nb)和/或钛(Ti)中的至少一种,并且其中x大于0且n是该基团的氧原子数 化学计量组成的混合氧化物相。