专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

41. 发明申请

WO2022212681A1 CONTROL OF METALLIC CONTAMINATION FROM METAL-CONTAINING PHOTORESIST 审中-公开
公开(公告)号：WO2022212681A1
公开(公告)日：2022-10-06
申请号：PCT/US2022/022790
申请日：2022-03-31
申请人： LAM RESEARCH CORPORATION
发明人： PETER, Daniel , TAN, Samantha SiamHwa , YU, Jengyi , LI, Da , XUE, Meng , CHOI, Wook , KIM, Ji Yeon , JENSEN, Alan J. , LABIB, Shahd Hassan , LEE, Younghee , ZHAO, Hongxiang
IPC分类号： G03F7/40 , H01L21/02 , G03F7/36 , H01L21/67
摘要： Various techniques for controlling metal-containing contamination on a semiconductor substrate are provided herein. Such techniques may involve one or more of a post-development bake treatment, a chemical treatment, a plasma treatment, a light treatment, and a backside and bevel edge clean. The techniques may be combined as desired for a particular application. In many cases, the techniques are used to address metal-containing contamination that is generated during a photoresist development operation.

42. 发明申请

WO2022005808A1 VAPOR PHASE THERMAL ETCH SOLUTIONS FOR METAL OXO PHOTORESISTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022005808A1
公开(公告)日：2022-01-06
申请号：PCT/US2021/038424
申请日：2021-06-22
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： KALUTARAGE, Lakmal, Charidu , SALY, Mark, Joseph , BHUYAN, Bhaskar, Jyoti , SACHAN, Madhur , FREED, Regina
IPC分类号： G03F7/36 , G03F7/004 , C23F4/02 , H01L21/32135
摘要： Embodiments disclosed herein include methods of developing a metal oxo photoresist. In an embodiment, the method comprises providing a substrate with the metal oxo photoresist into a vacuum chamber, where the metal oxo photoresist comprises exposed regions and unexposed regions. In an embodiment, the unexposed regions comprise a higher carbon concentration than the exposed regions. The method may further comprise vaporizing a halogenating agent into the vacuum chamber, where the halogenating agent reacts with either the unexposed regions or the exposed regions to produce a volatile byproduct. In an embodiment, the method may further comprise purging the vacuum chamber.

43. 发明申请

WO2021158433A1 POST APPLICATION/EXPOSURE TREATMENTS TO IMPROVE DRY DEVELOPMENT PERFORMANCE OF METAL-CONTAINING EUV RESIST 审中-公开
公开(公告)号：WO2021158433A1
公开(公告)日：2021-08-12
申请号：PCT/US2021/015656
申请日：2021-01-29
申请人： LAM RESEARCH CORPORATION
发明人： YU, Jengyi , LI, Da , TAN, Samantha S.H. , LEE, Younghee
IPC分类号： G03F7/38 , G03F7/36 , G03F7/16 , H01L21/027
摘要： Various embodiments described herein relate to methods, apparatus, and systems for treating metal-containing photoresist to modify material properties of the photoresist. For instance, the techniques herein may involve providing a substrate in a process chamber, where the substrate includes a photoresist layer over a substrate layer, and where the photoresist includes metal, and treating the photoresist to modify material properties of the photoresist such that etch selectivity in a subsequent post-exposure dry development process is increased. In various embodiments, the treatment may involve exposing the substrate to elevated temperatures and/or to a remote plasma. One or more process conditions such as temperature, pressure, ambient gas chemistry, gas flow/ratio, and moisture may be controlled during treatment to tune the material properties as desired.

44. 发明申请

WO2021087178A8 PLASMA ASHING FOR COATED DEVICES 审中-公开
公开(公告)号：WO2021087178A8
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：PCT/US2020/058068
申请日：2020-10-29
申请人： HZO, INC.
发明人： CLANCY, Sean , LAWRENCE, Benjamin , NIEBROSKI, Alexander
IPC分类号： B08B7/00 , G03F7/36 , G03F7/42 , H01J37/32 , H05K3/22 , H05K3/28 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01J37/3244 , H01J37/32963 , H05K2203/095 , H05K3/0023 , H05K3/0041
摘要： A plasma ashing system includes a plasma generator configured to generate a plasma from a gas source. The system further includes a plasma reaction chamber configured to house a substrate comprising a Parylene coating, wherein the plasma reaction chamber is configured to expose surfaces of the Parylene coating on the substrate to the plasma, wherein the plasma is configured to remove portions of the Parylene coating on the substrate.

45. 发明申请

WO2018180069A1 パターン形成方法、電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018180069A1
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：PCT/JP2018/006602
申请日：2018-02-23
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：古谷　創 , 白川　三千紘
IPC分类号： G03F7/075 , C08F30/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/36
CPC分类号： C08F30/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075 , G03F7/20 , G03F7/36
摘要：優れたパターン均一性を有する被エッチング物を与え得るパターンを形成する、パターン形成方法を提供する。また、上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供する。化学増幅型の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、上記レジスト膜を露光する露光工程と、露光された上記レジスト膜を加熱する露光後加熱工程と、加熱された上記レジスト膜をドライ現像する現像工程と、を含む、パターン形成方法であって、上記化学増幅型の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、酸の作用により分解して極性が増大する基を有する樹脂と、光酸発生剤と、を含有し、上記酸の作用により分解して極性が増大する基は、極性基が、酸の作用により脱離する脱離基で保護された構造を有し、上記脱離基はＳｉ原子を含有し、かつ、上記脱離基の分子量が５００以下である、パターン形成方法。

46. 发明申请

WO2016168488A1 VARIABLE PRINTING PROCESS USING FLEXIBLE SECONDARY PLATES AND SPECIALTY INKS 审中-公开
标题翻译：使用柔性二次板和特殊墨水的可变印刷工艺
公开(公告)号：WO2016168488A1
公开(公告)日：2016-10-20
申请号：PCT/US2016/027576
申请日：2016-04-14
申请人： BALL CORPORATION
发明人： CARRERAS, Chris , HEDBERG, Kellie, M.
IPC分类号： B41F7/04 , B41F17/22 , B41M1/06 , B41N1/08 , B41N6/00 , G03F7/027 , G03F7/36
CPC分类号： B41F17/22 , B41F17/14 , B41M1/06 , B41M1/28 , B41N10/02
摘要： The present invention relates to using flexible secondary plates and specialty inks in a printing process. More specifically, the present invention relates to an apparatus and methods of using flexible secondary plates made of a composition comprising a saturated chain of polymethylene or a photopolymer material to decorate an exterior surface of cylindrical metallic containers with high definition graphics and other indicia.
摘要翻译：本发明涉及在印刷过程中使用柔性二次板和特殊油墨。更具体地说，本发明涉及一种使用由包含多亚甲基饱和链或光聚合物材料的组合物制成的柔性二次板的装置和方法，以用高分辨率图形和其它标记来装饰圆柱形金属容器的外表面。

47. 发明申请

WO2016096945A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON FLEXODRUCKFORMEN DURCH MEHRFACHE BELICHTUNG MIT UV-LEDS 审中-公开
标题翻译：用于生产印刷版用紫外发光二极管多重曝光
公开(公告)号：WO2016096945A1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：PCT/EP2015/079930
申请日：2015-12-16
申请人： FLINT GROUP GERMANY GMBH
发明人： FRONCZKIEWICZ, Peter , WENDLAND, Thorben , BEYER, Matthias
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/027 , G03F7/32 , G03F7/36
CPC分类号： G03F7/36 , G03F7/027 , G03F7/2004 , G03F7/201 , G03F7/2016 , G03F7/202 , G03F7/203 , G03F7/32 , G03F7/325
摘要： Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen, bei dem man als Ausgangsmaterial ein fotopolymerisierbares Flexodruckelement einsetzt, welches übereinander angeordnet mindestens umfasst: - einen dimensionsstabilen Träger, und - mindestens eine fotopolymerisierbare reliefbildende Schicht, mindestens umfassend ein elastomeres Bindemittel, eine ethylenisch ungesättigte Verbindung und einen Fotoinitiator, - eine digital bebilderbare Schicht, und das Verfahren mindestens die folgenden Schritte umfasst: (a) Erzeugung einer Maske durch Bebilderung der digital bebilderbaren Schicht, (b) Belichtung der fotopolymerisierbaren reliefbildenden Schicht durch die Maske hindurch mit aktinischem Licht und Fotopolymerisation der Bildbereiche der Schicht, und (c) Entwicklung der fotopolymerisierten Schicht durch Auswaschen der nicht fotopolymerisierten Bereiche der reliefbildenden Schicht mit einem organischen Lösungsmittel oder durch thermische Entwicklung, dadurch gekennzeichnet, dass der Schritt (b) zwei oder mehrere Belichtungszyklen (b-1) bis (b-n) mit aktinischem Licht mit einer Intensität von 100 bis 10 000 mW/cm 2 aus einer Mehrzahl von UV-LEDs umfasst, wobei die pro Belichtungszyklusin die fotopolymerisierbare reliefbildende Schicht eingetragene Energie 0,1 bis 5 J/cm 2 beträgt.
摘要翻译：一种用于生产柔性版印刷版的方法，其中所用的原料是其中布置一个在另一个之上的至少包括一个可光聚合的柔性版印刷部件的过程： - 一个尺寸稳定的支撑，和 - 至少一种可光聚合的凸版形成层，至少包括一个弹性体粘合剂，烯属不饱和化合物和光引发剂， - 一个数字成像层，并且所述方法包括至少以下步骤：（a）由所述数字成像层的成像形成掩模，（b）通过该掩模在光化光线和该层的图像区域的光聚合的光聚合性的凸版形成层的曝光和（c）中通过显影用有机溶剂或通过热显影洗出在凸版形成层的非光聚合区域中的光聚合层，其特征在于所述步骤（ b）包括两个或从多个UV-LED的，具有从100至10,000毫瓦/厘米2的强度的多个曝光周期的（B-1）至（BN）于光化性光，其特征在于每Belichtungszyklusin能量输入0可光聚合的凸版形成层， 1至5焦耳/平方厘米。

48. 发明申请

WO2013174215A1 微电机系统制造工艺中聚酰亚胺刻蚀后去除光刻胶的方法审中-公开
公开(公告)号：WO2013174215A1
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：PCT/CN2013/075374
申请日：2013-05-09
申请人：无锡华润上华半导体有限公司
发明人：章安娜 , 李晓明 , 贺亦峰 , 许凌燕
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/36 , H01L21/3105
CPC分类号： G03F7/42
摘要：一种微电机系统制造工艺中聚酰亚胺刻蚀后去除光刻胶的方法，包括下列步骤：采用干法去胶机台在顶针顶起状态下对圆片的光刻胶表面进行预处理（S110），包括采用等离子体对光刻胶表面进行轰击；对光刻胶进行湿法去胶（S120）。该方法首先在顶针Pin up时对光刻胶表面进行预处理，然后进行湿法去胶。由于Pin up状态下反应相对不剧烈，因此不至于造成聚酰亚胺被一同出除。另外进行过预处理后，在湿法去胶工序中光刻胶很容易被去掉，因此去胶会很干净，为产品在聚酰亚胺刻蚀后的膜生长提供良好的条件，保障了产品的性能，并降低了去胶的返工率，提升了产能。且不再需要频繁对去胶液进行更换，提高了正性去胶液的利用率。

49. 发明申请

WO2013067414A1 METHOD FOR THERMAL TREATMENT OF RELIEF SURFACE FOR A RELIEF PRINTING FORM 审中-公开
标题翻译：用于缓解表面的热处理表面热处理方法
公开(公告)号：WO2013067414A1
公开(公告)日：2013-05-10
申请号：PCT/US2012/063403
申请日：2012-11-02
申请人： E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
发明人： ARNOLD, Carl Bernard , KATO, Masayuki
IPC分类号： G03F7/36 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/36 , G03F7/40
摘要： The present invention pertains to a method for preparing a printing form from a photosensitive element by thermal treatment, wherein a gas jet emitting from a nozzle assembly impinges the exterior surface of the element to smooth or polish and mitigate marks and deformations that can be generated during development. Impingement with a heated gas jet provides surface polishing from rapid and specific convective heat flux to the exterior surface of the printing plate.
摘要翻译：本发明涉及一种通过热处理从感光元件制备印刷形式的方法，其中从喷嘴组件发射的气体射流冲击该元件的外表面以使光滑或抛光并且减轻可在此期间产生的标记和变形发展。用加热的气体射流冲击提供从快速和特定的对流热通量到印版的外表面的表面抛光。

50. 发明申请

WO2013032860A1 METHOD FOR PREPARING A RELIEF PRINTING FORM 审中-公开
标题翻译：制备缓冲印刷形式的方法
公开(公告)号：WO2013032860A1
公开(公告)日：2013-03-07
申请号：PCT/US2012/052075
申请日：2012-08-23
申请人： E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY , SCHIEFFER JR, Edmund Francis , CHOU, Marcia Jungran
发明人： SCHIEFFER JR, Edmund Francis , CHOU, Marcia Jungran
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/36
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/202 , G03F7/36
摘要： The invention provides a method for preparing a relief printing form from a photosensitive element. The method includes forming an in-situ mask disposed above a photopolymerizable layer of the photosensitive element, exposing the element to actinic radiation through the in-situ mask in an environment having an inert gas and a concentration of oxygen between about 50,000 ppm and about 2000 ppm to form at least a polymerized portion and an unpolymerized portion of the layer, and treating by heating the exposed element to a temperature sufficient to cause the unpolymerized portion to melt, soften, or flow.
摘要翻译：本发明提供了一种从感光元件制备凸版印刷版的方法。该方法包括形成位于感光元件的可光致聚合层之上的原位掩模，使该元件在具有约50,000ppm至约2000的惰性气体和氧浓度的环境中通过原位掩模暴露于光化辐射 ppm以形成该层的至少聚合部分和未聚合部分，并且通过将暴露的元件加热至足以使未聚合部分熔化，软化或流动的温度进行处理。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式