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    • 28. 发明申请
    • 芳香族メチロール化合物が反応したノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物
    • 含有与芳族甲基化合物反应的NOVOLAC树脂的耐下层膜形成组合物
    • WO2016021594A1
    • 2016-02-11
    • PCT/JP2015/072081
    • 2015-08-04
    • 日産化学工業株式会社
    • 西巻 裕和坂本 力丸橋本 圭祐遠藤 貴文
    • G03F7/11C08G8/24C08G14/06C08G14/073C08G14/09
    • C08G8/24C08G14/06G03F7/094
    • 【課題】 良好な塗布成膜性を発現するためのレジスト溶剤(リソグラフィーに用いられる溶剤)への高い溶解性とレジストに比べて小さいドライエッチング速度の選択比を持つリソグラフィー用レジスト下層膜を提供する。 【解決手段】 芳香族化合物(A)の芳香族環とヒドロキシ基含有芳香族メチロール化合物(B)との反応により得られる構造体(C)を含むノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物。芳香族化合物(A)がノボラック樹脂に含まれる構造体(C)を構成するための成分である。ヒドロキシ基含有芳香族メチロール化合物(B)が式(1):で示される。ヒドロキシ基含有芳香族メチロール化合物(B)が2-ヒドロキシベンジルアルコール、4-ヒドロキシベンジルアルコール、又は2,6-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシメチルフェノールである。
    • [问题]提供一种用于光刻的抗蚀剂下层膜,其在抗蚀剂溶剂(用于光刻中的溶剂)中具有高溶解性,用于通过涂布显影良好的成膜性和比抗蚀剂低的干蚀刻速率选择性。 [溶液]含有含有由芳香族化合物(A)的芳香族环和含羟基的芳香族羟甲基化合物(B)的反应而得到的结构(C)的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物, 。 芳香族化合物(A)是构成包含在酚醛清漆树脂中的结构(C)的成分。 含羟基的芳族羟甲基化合物(B)由式(1)表示。 含羟基的芳族羟甲基化合物(B)是2-羟基苄醇,4-羟基苄醇或2,6-二叔丁基-4-羟甲基苯酚。