会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 21. 发明申请
    • CIRCUIT INTEGRE AVEC DIODE DE LECTURE DE TRES PETITES DIMENSIONS
    • 集成电路与非常小尺寸的读取二极管
    • WO2005096388A1
    • 2005-10-13
    • PCT/EP2005/050740
    • 2005-02-21
    • ATMEL GRENOBLEBLANCHARD, Pierre
    • BLANCHARD, Pierre
    • H01L29/768
    • H01L29/76816
    • L'invention concerne les circuits intégrés comportant à la fois des électrodes conductrices déposées au-dessus d'un substrat semiconducteur et une diode formée entre deux électrodes. Pour aboutir à une diode de très petite dimension, on procède de la manière suivante : réalisation des électrodes (ELn, GRST), puis oxydation thermique des électrodes puis mise à nu de la surface du substrat entre les électrodes, puis les opérations suivantes : a) dépôt de silicium polycristallin dopé pour former un pôle (42) de la diode, le substrat formant l'autre pôle, b) délimitation d'un motif de silicium (14) désiré, recouvrant l'espace laissé entre les électrodes et recouvrant également une région située hors de cet espace ; c) dépôt d'une couche isolante (18), gravure locale d'une ouverture dans cette couche isolante au-dessus du silicium polycristallin hors de l'espace situé entre les électrodes, pour former une zone de contact déportée, dépôt d'une couche métallique et gravure de la couche métallique. L'application principale envisagée est la diode de lecture d'un registre de lecture de type CCD.
    • 本发明涉及设置在半导体衬底之上的导电集成电路和形成在两个电极之间的二极管。 为了获得非常小尺寸的二极管,进行以下步骤:电极(ELn,GRST)的制造,电极的热氧化,然后电极之间的基板露出,然后进行以下操作:a )沉积掺杂的多晶硅以便形成二极管的极(42),其中所述衬底形成另一极; b)限定覆盖留在电极之间的空间并且还覆盖位于所述空间外部的区域的期望的硅图案(14); c)沉积绝缘层(18),在位于电极之间的空间之外的多晶硅上方的绝缘层中进行局部蚀刻,以形成位移接触区域,沉积金属涂层和蚀刻 金属涂层。 本发明的主要应用是用于CCD型读取寄存器的读取二极管。
    • 23. 发明申请
    • SOLID STATE IMAGER ARRANGEMENTS
    • 固态成像装置
    • WO02058157A2
    • 2002-07-25
    • PCT/GB2002/000138
    • 2002-01-14
    • H01L27/148H01L29/768H04N5/372
    • H01L29/76816H01L27/14806H04N5/37213
    • In a CCD imager, charge representative of incident radiation is clocked from an image area (2) via a store section (3) to an output register (4). The signal charge is clocked from the output register (4) to a multiplication register (5) to give charge multiplication. Excess charge developed at the multiplication register (5) is transferred into an additional register (7) which is clocked in synchronism with the multiplication register (5). The outputs of the registers are combined at (13) and applied to a charge detector (6). The provision of the additional register (7) increases the dynamic range capability of the CCD imager.
    • 在CCD成像器中,代表入射辐射的电荷经由存储部分(3)从图像区域(2)计时到输出寄存器(4)。 信号电荷从输出寄存器(4)计时到乘法寄存器(5),以进行电荷倍增。 在乘法寄存器(5)中产生的过量电荷被传送到与倍增寄存器(5)同步的附加寄存器(7)中。 寄存器的输出在(13)处组合并应用于电荷检测器(6)。 附加寄存器(7)的提供增加了CCD成像器的动态范围能力。
    • 24. 发明申请
    • CHARGE-COUPLED DEVICE AS WELL AS A SOLID-STATE IMAGE PICK-UP DEVICE COMPRISING A CHARGE-COUPLED DEVICE
    • 充电耦合器件作为包含充电耦合器件的固态图像拾取器件
    • WO01063676A1
    • 2001-08-30
    • PCT/EP2001/001232
    • 2001-02-05
    • H01L27/148H01L29/768
    • H01L29/76816H01L27/14806
    • In general, the output of a buried channel CCD is provided with a floating diffusion (4), which forms a storage site to determine the size of an electric charge. For this purpose, the floating diffusion may be connected to the input of an amplifier, such as a source follower (8). The charge is transferred to the floating zone from below an output gate OG to which a DC voltage is applied. To obtain a high sensitivity, i.e. a high voltage per electron, it is important to keep the capacitance of the floating zone as small as possible. The capacitance can be reduced by narrowing the channel at the output. This method of reducing C, however, is limited in known structures because this shape of the channel may induce an electric field in the channel which counteracts the transfer to the floating zone. To suppress this effect, the gate oxide (5) below the output gate is provided with a thicker part (5b) adjoining the floating diffusion (4). By virtue thereof, an additional field is induced below the output gate, which enhances the transfer of charge to the floating zone. This enables the channel to be narrowed, resulting in a low floating-zone capacitance, without decreasing the transfer efficiency. Said capacitance is reduced further by the thick oxide, which leads to a small capacitance between the floating zone and the output gate.
    • 通常,掩埋通道CCD的输出具有浮动扩散(4),其形成存储位置以确定电荷的大小。 为此,浮动扩散可以连接到诸如源极跟随器(8)的放大器的输入。 从施加有直流电压的输出栅极OG的下方将电荷转移到浮动区域。 为了获得高灵敏度,即每个电子的高电压,重要的是保持浮动区域的电容尽可能小。 可以通过使输出端的通道变窄来减小电容。 然而,这种减小C的方法在已知的结构中是有限的,因为该通道的形状可以在通道中引起抵消到浮动区的传递的电场。 为了抑制这种效果,输出门下方的栅极氧化物(5)设置有与浮动扩散(4)相邻的较厚部分(5b)。 由此,在输出门下方引入附加场,这增强了电荷向浮动区的转移。 这使得通道变窄,导致低浮动电容,而不降低传输效率。 所述电容被厚氧化物进一步减小,这导致浮动区和输出栅之间的小电容。