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21. 发明申请

WO2009022428A1 ガラス基板表面から異物を除去する方法审中-公开
标题翻译：从玻璃基材表面去除外来物质的方法
公开(公告)号：WO2009022428A1
公开(公告)日：2009-02-19
申请号：PCT/JP2007/065968
申请日：2007-08-16
申请人：旭硝子株式会社 , 生田順亮
发明人：生田順亮
IPC分类号： C03C23/00 , C03C15/00 , C03C15/02 , G03F1/14 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/74 , C03C15/00 , C03C23/0005 , G03F1/82
摘要：　ガラス基板の表面粗さを該基板の表面全体にわたって増加させることなしに、該基板表面に強固に付着した異物を除去する方法を提供。　ガラス基板表面から異物を除去する方法であって、前記ガラス基板表面の前記異物が存在する部位周辺に高エネルギービームを照射して、前記高エネルギービームが照射された部位周辺にガラス基板の構成材料の構造的変化による応力を生じさせる工程と、前記高エネルギービーム照射後のガラス基板表面をウェットエッチングする工程と、を含むことを特徴とするガラス基板表面から異物を除去する方法。
摘要翻译：在不增加玻璃基板的整个基板表面的表面粗糙度的情况下，除去强烈地附着在玻璃基板的表面上的任何异物的方法。提供从玻璃基板的表面去除任何异物的方法，其特征在于包括以下步骤：用高能量束照射外部物质所在位置周围的玻璃基板的表面，以产生归因于构成玻璃基板周围的材料的结构变化在用能量束照射的部位上; 并且在用高能量束照射之后湿法蚀刻玻璃基板的表面。

22. 发明申请

WO2009017173A1 無鉛ガラス审中-公开
标题翻译：无铅玻璃
公开(公告)号：WO2009017173A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：PCT/JP2008/063703
申请日：2008-07-30
申请人：旭硝子株式会社 , 谷田正道 , 横山雄貴 , 本田伸樹
发明人：谷田正道 , 横山雄貴 , 本田伸樹
IPC分类号： C03C8/04 , C03C8/16 , H01M8/02 , H01M8/12
CPC分类号： H01M8/0282 , C03C3/087 , C03C3/093 , C03C8/04 , C03C8/24 , H01M8/1231
摘要：　Ｂ２Ｏ３を多くは含有しないガラスであってその粉末の焼成体の熱膨張曲線に屈曲が見られないようなガラスの提供。　モル％で、ＳｉＯ２を３５～４１．５％、ＭｇＯを８～２５％、ＣａＯを２７％超３５％以下、ＳｒＯを０～２％、ＢａＯを０～４％、ＺｎＯを５～１５％、Ａｌ２Ｏ３を４．５～１０％含有し、これら成分の含有量の合計が９７％以上であり、ＳｒＯおよびＢａＯを含有する場合それらの含有量の合計が２％以下である無鉛ガラス。モル％で、ＳｉＯ２を３５～４１．５％、ＭｇＯを８～２５％、ＣａＯを１０～２７％、ＳｒＯを０～１２％、ＢａＯを０～４％、ＺｎＯを５～１５％、Ａｌ２Ｏ３を４．５～１０％含有し、これら成分の含有量の合計が９７％以上である無鉛ガラス。
摘要翻译：公开了不含有大量B 2 O 3的玻璃，其特征在于，其粉末的烧结体在热膨胀曲线中不具有弯曲。具体公开了一种无铅玻璃，其摩尔％含有35-41.5％的SiO 2，8-25％的MgO，超过27％但不超过35％的CaO，0-2％的SrO，0- 4％的BaO，5-15％的ZnO和4.5-10％的Al 2 O 3，这些组分的总量不低于97％。当含有SrO和BaO时，它们的总含量不超过2％。还具体公开了一种无铅玻璃，其含有摩尔％为35-41.5％的SiO 2，8-25％的MgO，10-27％的CaO，0-12％的SrO，0-4％的BaO， 5-15％的ZnO和4.5-10％的Al2O3，这些组分的总量不小于97％。

23. 发明申请

WO2009017170A1 アルミナ粉末、その製造方法及びそれを用いた組成物审中-公开
标题翻译：铝粉，其制造方法和含有该组合物的组合物
公开(公告)号：WO2009017170A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：PCT/JP2008/063698
申请日：2008-07-30
申请人：電気化学工業株式会社 , 田中孝明 , 國友修 , 水本貴久 , 江崎寿
发明人：田中孝明 , 國友修 , 水本貴久 , 江崎寿
IPC分类号： C01F7/02 , C08K3/22 , C08L21/00 , C08L63/00 , C08L101/00
CPC分类号： C08L63/00 , C01F7/02 , C01F7/021 , C01P2004/32 , C01P2004/61 , C01P2004/90 , C01P2006/80 , C08K3/22 , C08L21/00
摘要：　耐湿信頼性を更に向上させたアルミナ粉末と、その製造方法と、それを用いた組成物、特に半導体封止材を提供する。　１５０°Cで１００時間の超純水抽出試験におけるＮａ＋の量が２０ｐｐｍ以下のアルミナ粉末、あるいは１５０°Cで１００時間の超純水抽出試験におけるＬｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋の総量が２０ｐｐｍ以下であり、平均粒子径が４５μｍ未満の粒子の平均円形度が０．９５以上であり、平均粒子径が１００μｍ以下のアルミナ粉末。また、電融アルミナ粉砕物を火炎中で熱処理することを特徴とするアルミナ粉末の製造方法。さらに、上記のようなアルミナ粉末を含有する樹脂又はゴムの組成物、特に半導体封止材。
摘要翻译：具有进一步提高耐湿性可靠性的氧化铝粉末; 一种生产粉末的方法; 以及含有粉末的组合物，特别是半导体用封装材料。在150℃下进行100小时超纯水提取试验中的氧化铝粉末的Na +量为20ppm以下。或者，氧化铝粉末是在150℃下进行100小时超纯水提取试验的Li +，Na +和K +的总量为20ppm以下的氧化铝粉末，其包括平均粒径小于这些颗粒的平均圆度为0.95以上，平均粒径为100μm以下。氧化铝粉末生产方法的特征在于在火焰中热处理粉碎的熔融氧化铝。该组合物包含含有这些氧化铝粉末中的任一种的树脂或橡胶。

24. 发明申请

WO2009014098A1 芳香族カルボン酸の製造方法审中-公开
标题翻译：生产芳香羧酸的方法
公开(公告)号：WO2009014098A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/JP2008/063047
申请日：2008-07-18
申请人：三菱化学株式会社 , 磯貝隆行 , 緒方知彦
发明人：磯貝隆行 , 緒方知彦
IPC分类号： C07C51/265 , C07C51/43 , C07C51/47 , C07C63/26
CPC分类号： C07C51/00
摘要：　アルキル芳香族化合物を溶媒中で酸化して芳香族カルボン酸のスラリーを得、加圧状態のまま固液分離する芳香族カルボン酸の製造方法において、スラリー、母液、洗浄排液等の移送工程が意図に反して停止することを防ぐ方法を提供する。　加圧状態の反応器内において、溶媒中でアルキル芳香族化合物を酸化して芳香族カルボン酸を生成させる工程、及び前記芳香族カルボン酸及び溶媒を含むスラリーを前記反応器から抜き出した後、固液分離装置にて加圧状態で固液分離を行い、芳香族カルボン酸ケーキ及び母液を得る工程、を少なくとも含む芳香族カルボン酸の製造方法であって、前記反応器から前記スラリーとともに抜き出されたガスの排出を前記反応器以外で行う芳香族カルボン酸の製造方法。
摘要翻译：通过在溶剂中氧化烷基芳香族化合物，从而获得芳香族羧酸的浆液，并保持加压状态进行固液分离的方法，其中任何意外停止浆料转移操作，可以防止母液，洗涤排水等。芳香族羧酸的制造方法至少包括以下步骤：在加压条件下在反应器的溶剂中氧化烷基芳族化合物，从而形成芳香族羧酸，并且在拉出含有芳香族羧酸和溶剂的浆料从反应器中通过固液分离器在加压状态下进行固液分离，从而获得芳族羧酸饼和母液，其中与来自反应器的浆料一起排出的任何气体的排放是通过反应堆以外的方式进行。

25. 发明申请

WO2009011427A1 蛍光発光性官能基を有する化合物およびその重合体の製造方法审中-公开
标题翻译：具有荧光功能组的化合物及其制备聚合物的方法
公开(公告)号：WO2009011427A1
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：PCT/JP2008/063044
申请日：2008-07-18
申请人：旭硝子株式会社 , 星野泰輝 , 代田直子 , 浅川昭彦
发明人：星野泰輝 , 代田直子 , 浅川昭彦
IPC分类号： C07D311/16 , C08F20/36
CPC分类号： C07D311/16 , C08F220/36
摘要：　重合性官能基と蛍光発光性を有する官能基を含む化合物を、ＤＣＣ（脱水縮合剤）を用いずに簡便かつ効率良く製造できる方法を提供する。　７－（ジエチルアミノ）クマリン－３－カルボン酸からヒドロキシ基を除いた残基を有する酸無水物と、メタクリル酸２－ヒドロキシエチルとを反応させる工程、または７－（ジエチルアミノ）クマリン－３－カルボン酸のヒドロキシ基がハロゲン原子によって置換された酸ハロゲン化物と、メタクリル酸２－ヒドロキシエチルとを反応させる工程を経て、７－（ジエチルアミノ）クマリン－３－カルボン酸２－（メタクリロイルオキシ）エチルを製造する。
摘要翻译：公开了通过简单的方法在不使用DCC（脱水缩合剂）的情况下高效率地制备具有聚合性官能团和荧光官能团的化合物的方法。具体地，通过以下步骤制备7-（二乙基氨基）香豆素-3-羧酸2-（甲基丙烯酰氧基）乙基，其中将具有通过从7-（二乙基氨基）香豆素-3-羧酸除去羟基得到的残基的酸酐与甲基丙烯酸2-羟基乙基酯反应，或其中通过将7-（二乙基氨基）香豆素-3-羧酸的羟基用卤素原子取代的酰卤与甲基丙烯酸2-羟乙基反应的步骤。

26. 发明申请

WO2009011321A1 除草性組成物审中-公开
标题翻译：除草组合物
公开(公告)号：WO2009011321A1
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：PCT/JP2008/062626
申请日：2008-07-11
申请人：石原産業株式会社 , 菊川弘司 , 永山宗一郎 , 佐野真喜子
发明人：菊川弘司 , 永山宗一郎 , 佐野真喜子
IPC分类号： A01N25/30 , A01N41/10 , A01N43/56 , A01N47/06
CPC分类号： A01N25/30 , A01N35/06 , A01N41/10 , A01N43/40 , A01N43/56 , A01N47/06
摘要：　薬剤の施用地域又はその周辺の環境負荷を、これまで以上に軽減するために、除草有効成分の効力を向上させ、その施用量を削減できる除草組成物及びその施用方法を提供する。　（１）式（Ｉ）：（式中、Ｔ及びＺは明細書で記載した意味を有する）で表される化合物又はその塩及び（２）ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩を含有する除草組成物。該除草組成物を用い、望ましくない植物を防除又はその生育を抑制する方法。
摘要翻译：可以提高除草活性成分的有效性的除草组合物，并且可以以较小量施用以减少化学品应用的区域或邻近区域的环境负担。还提供了施用组合物的方法。除草组合物含有（1）由式（I）表示的化合物：（I）（其中T和Z与说明书中定义相同）或其盐和（2）聚氧化烯烷基醚磷酸酯或的盐。该方法包括使用除草组合物来控制不期望的植物或抑制其生长。

27. 发明申请

WO2009008514A1 撥水撥油剤組成物の製造方法および物品审中-公开
标题翻译：水和油组合物的生产方法和文章
公开(公告)号：WO2009008514A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/JP2008/062624
申请日：2008-07-11
申请人：旭硝子株式会社 , 廣野高生 , 杉山和典 , 大森勇一 , 島田三奈子
发明人：廣野高生 , 杉山和典 , 大森勇一 , 島田三奈子
IPC分类号： C09K3/18 , C08F214/06 , C08F214/08 , C08F214/18 , C08F220/22 , D06M15/277
CPC分类号： C08F220/24 , C08F14/18 , C08F214/06 , C08F214/18 , C08F220/36 , C08F220/58 , C08F2220/1891 , D06M15/263 , D06M15/277 , D06M15/3566 , D06M2200/11 , D06M2200/12 , C08F2/04
摘要：　物品の表面に撥水撥油性を付与でき、かつ耐久性（洗濯耐久性および豪雨耐久性）に優れる撥水撥油剤組成物の製造方法および撥水撥油性を有し、かつ洗濯および豪雨による撥水撥油性の低下が少ない物品を提供する。　界面活性剤および重合開始剤の存在下、媒体中にて単量体（ａ）を含む単量体成分を化合物（ｘ）の共存下に重合する撥水撥油剤組成物の製造方法。単量体（ａ）：（Ｚ－Ｙ）ｎＸで表される化合物。ただし、Ｚは炭素数が１～２０のポリフルオロアルキル基等、Ｙは２価有機基または単結合、ｎは１または２、Ｘは重合性不飽和基である。化合物（ｘ）：Ｒｆ１－（ＣＨ２）ｂ－Ｑ－（ＣＨ２）ａ－ＳＨで表される化合物。ただし、Ｒｆ１は炭素数が１～３０のポリフルオロアルキル基、Ｑは２価有機基または単結合、ａは１～２０の整数、ｂは０～２０の整数である。
摘要翻译：本发明提供一种能够在制品的表面赋予防水性和拒油性且具有优异的耐久性（耐洗涤耐久性和暴雨耐久性）的防水斥油剂组合物的制造方法。还公开了一种具有拒水性和拒油性的物品，并且当制品被冲洗或暴露于暴雨时显示出较少的拒水性和拒油性的劣化。具体公开了一种防水防油组合物的制造方法，其特征在于，在表面活性剂和聚合引发剂的存在下，使溶剂中含有单体（a）的单体成分聚合，化合物（x），其中单体（a）是由下式表示的化合物：（ZY）nX [其中Z表示碳原子数1〜20的多氟烷基等; Y表示二价有机基团或单键; n表示1或2的数; X表示可聚合的不饱和基团]，化合物（x）为下式所示的化合物：Rf1-（CH2）b-Q-（CH2）a-SH [式中，Rf1表示碳原子数1〜30的多氟烷基， Q表示二价有机基团或单键; a表示1〜20的整数， b表示0〜20的整数。

28. 发明申请

WO2009005068A1 円筒形スパッタリングターゲット审中-公开
标题翻译：管状喷射目标
公开(公告)号：WO2009005068A1
公开(公告)日：2009-01-08
申请号：PCT/JP2008/061923
申请日：2008-07-01
申请人：東ソー株式会社 , 戸床茂久 , 伊藤謙一 , 渋田見哲夫
发明人：戸床茂久 , 伊藤謙一 , 渋田見哲夫
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , C23C14/3414
摘要：　スパッタ中の割れを著しく低減できる円筒形スパッタリングターゲットを提供する。　ＩＴＯまたはＡＺＯからなる円筒形ターゲット材の相対密度が９０％以上であり、外周面の研削方向と円筒軸に平行な直線とのなす角度（前記角度のうち、０°以上９０°以下のものを示すθとする）が、４５°＜θ≦９０°またはｔａｎθ＞πＲ／Ｌ（Ｒは円筒形ターゲット材の外径、Ｌは円筒形ターゲット材の長さ）であり、かつ、前記円筒形ターゲット材の外周面の表面粗さＲａが３μｍ以下である円筒形スパッタリングターゲット。
摘要翻译：一种能够在溅射时急剧降低的管状溅射靶。管状溅射靶材料由ITO或AZO组成，并且具有90％以上的相对密度，外周面的研磨方向与与管轴平行的线之间的角度（在上述范围内）上述角度，θ表示0°-90°之间的角度）满足关系45°<θ= 90°或tanδ> pR / L（R是管状目标材料的外径，L是管状物的长度目标材料），并且管状靶材的外表面的表面粗糙度Ra为3μm以下。

29. 发明申请

WO2009001732A1 半導体ウエハ研削方法とそれに用いる樹脂組成物及び保護シート审中-公开
标题翻译：用于研磨半导体波长的方法和用于该方法的树脂组合物和保护片
公开(公告)号：WO2009001732A1
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：PCT/JP2008/061163
申请日：2008-06-18
申请人：電気化学工業株式会社 , 九津見正信 , 金井朋之
发明人：九津見正信 , 金井朋之
IPC分类号： H01L21/301 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/304 , H01L21/6835 , H01L21/78 , H01L2221/6834 , H01L2221/68386 , H01L2224/16 , H01L2924/01004 , H01L2924/01019 , H01L2924/09701
摘要：　回路面に３０μｍ以上の大きな凹凸を有する半導体ウエハの裏面を研削する方法を提供する。　半導体ウエハの回路面側に前記半導体ウエハから剥離可能な樹脂層を介して保護シート又は固定用治具を設け、前記半導体ウエハの裏面を研削することを特徴とする半導体ウエハの研削方法。好ましくは、半導体ウエハの回路面側に、ウエハ厚さより浅い深さの溝を形成し、樹脂層を形成する樹脂組成物を全面に塗布し、ウエハ裏面を研削して個々のチップに分割する前記の半導体ウエハ研削方法。更に好ましくは、半導体ウエハの裏面を研削した後に、樹脂層を加熱して除去する前記の半導体ウエハ研削方法。
摘要翻译：公开了一种用于在电路表面中研磨具有不小于30μm的大的凹凸的半导体晶片的背面的方法。具体公开了一种用于研磨半导体晶片的方法，其特征在于，通过可从半导体晶片除去的树脂层将保护片或固定夹具附着到半导体晶片的电路表面侧，然后将背面的半导体晶片被研磨。优选地，在半导体晶片的电路表面侧形成深度比晶片厚度浅的凹槽，并且在整个电路表面上施加用于形成树脂层的树脂组合物，然后研磨晶片的背面，从而将晶片分成独立的芯片。更优选地，在研磨半导体晶片的背面之后，将树脂层从晶片加热并移除。

30. 发明申请

WO2008143186A1 低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材审中-公开
标题翻译：用于形成低折射率涂层膜的涂层溶液，其制造方法和抗反射材料
公开(公告)号：WO2008143186A1
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：PCT/JP2008/059070
申请日：2008-05-16
申请人：日産化学工業株式会社 , 根木隆之 , 元山賢一
发明人：根木隆之 , 元山賢一
IPC分类号： C09D183/08 , B32B27/00 , C09D5/00 , C09D7/12 , G02B1/11
CPC分类号： G02B1/111 , C08K5/17 , C09D183/08
摘要：　水接触角が高い基材上でも低い温度で硬化し、高光透過性）、高硬度の耐擦傷性に優れる低屈折率を有する被膜を形成できる被膜形成用塗布液、その製造方法、及び該被膜を使用する反射防止材を提供する。　含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するポリシロキサン（Ａ）と、炭素数が２０以下の直鎖アルキルアミン化合物（Ｂ）と、全体の炭素数が２０以下でありかつその構造中に炭素数１０以下の環状基を有するアミン化合物（Ｃ）と、を含有することを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。
摘要翻译：公开了一种用于形成涂膜的涂布溶液，即使在具有高接触角的基材上也可以在低温下固化，并且可以形成具有高透光率，高硬度，优异的耐刮擦性和低的涂层的涂膜折射率。还公开了一种制备涂布溶液的方法。另外公开了利用该涂膜的防反射材料。具体公开了用于形成低折射率涂膜的涂布溶液，其包括：具有与其结合的含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷（A）具有20个或更少碳原子的直链烷基胺化合物（B）和在其结构中总共具有20个或更少碳原子并具有10个或更少碳原子的环状基团的胺化合物（C）。

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