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11. 发明申请

WO2006131517A2 BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：点亮的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2006131517A2
公开(公告)日：2006-12-14
申请号：PCT/EP2006/062929
申请日：2006-06-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , SCHARNWEBER, Ralf , ZENKE, Jörg
发明人： FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , SCHARNWEBER, Ralf , ZENKE, Jörg
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70075
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, in welcher eine Vorzugsrichtung der Polarisation weitgehend oder vollständig eliminiert werden kann. Die Beleuchtungseinrichtung weist eine Lichtquelle (135), welche entlang einer Lichtausbreitungsrichtung sich ausbreitendes, im Wesentlichen linear polarisiertes Licht erzeugt, ein Lichtmischsystem (148), einen Depolarisator (10, 30, 40), welcher in Lichtausbreitungsrichtung vor dem Lichtmischsystem (148) angeordnet ist und in Verbindung mit dem Lichtmischsystem (148) in einer Beleuchtungsebene zumindest zum Teil eine effektive Depolarisation bewirkt, und eine Lambda/4-Platte (20), welche in der Lichtausbreitungsrichtung nach dem Depolarisator (10, 30, 40) angeordnet ist, auf.
摘要翻译：本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，其中偏振的优选方向可以是基本上或完全消除。该照明装置包括沿着光传播方向上传播的光源（135），产生大致线性偏振光，光混合系统（148），其在所述光混合系统的前面布置在光传播方向上的消偏振器（10，30，40）（148）和至少部分地导致有效的去极化结合在照明平面上的光混合系统（148），并且在该解偏光器的下游的光的传播方向的λ/ 4板（20）（10，30，40）布置在。

12. 发明申请

WO2009156038A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明光学单元
公开(公告)号：WO2009156038A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/EP2009/003773
申请日：2009-05-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan
发明人： FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/00
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70566
摘要： An illumination optical unit for microlithography serves for illuminating an object field with illumination light. A first facet mirror (13) has a plurality of first facets (19). A second facet mirror (14) has a plurality of second facets (20). Facet pairs (19, 20) comprising respectively a facet of the first facet mirror and a facet of the second facet mirror predefine a plurality of illumination channels for illuminating the object field. At least some of the illumination channels have in each case an assigned polarization element for predefining an individual polarization state (x-Pol, y-Pol, xy-Pol, yx-Pol) of the illumination light guided in the respective illumination channel. This results in illumination of the object field which ensures a high structure resolution of a downstream imaging.
摘要翻译：用于微光刻的照明光学单元用于照明光照射物场。第一刻面镜（13）具有多个第一刻面（19）。第二刻面镜（14）具有多个第二刻面（20）。分别包括第一分面反射镜的小平面和第二面反射镜的小面的方形对（19,20）预先定义用于照亮对象场的多个照明通道。至少一些照明通道在每种情况下都具有分配的偏振元件，用于预定在各个照明通道中引导的照明光的单独偏振状态（x-Pol，y-Pol，xy-Pol，yx-Pol）。这导致对象场的照明，其确保下游成像的高结构分辨率。

13. 发明申请

WO2008022680A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：照明系统，微光刻投射曝光系统
公开(公告)号：WO2008022680A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/EP2007/006463
申请日：2007-07-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael
发明人： GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , H05H7/04
CPC分类号： G03F7/70566 , B82Y10/00 , G03F7/70008 , G21K2201/061 , H05G2/00
摘要： Ein Beleuchtungssystem (6) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (1) hat eine EUV-Lichtquelle (7), die einen Ausgabestrahl (13) linear polarisierten EUV-Beleuchtungslichts erzeugt. Eine Beleuchtungsoptik (24, 25, 31, 37) führt den Ausgabestrahl (13) längs einer optischen Achse (20), wodurch ein Beleuchtungsfeld in einer Retikelebene (2) mit dem Ausgabestrahl (13) beleuchtet wird. Eine mindestens die EUV-Lichtquelle (7) umfassende Beleuchtungs-Untereinheit (7) des Beleuchtungssystems (6) hat eine Polarisations-Einstelleinrichtung (15, 18) zur Vorgabe einer definierten Polarisation des EUV-Ausgabestrahls (13) der Beleuchtungs-Untereinheit (7). Es resultiert ein Beleuchtungssystem, das flexibel an Polarisationsanforderungen der Anlage sowie der auf das Substrat bzw. den Wafer zu projizierenden Struktur angepasst werden kann.
摘要翻译：用于微光刻投射曝光设备（1）的照明系统（6）生成（7），其具有输出光束（13）的线偏振光EUV照明光的EUV光源。的照明光学部件（24，25，31，37）开沿着光轴（20），由此在掩模母版平面（2）的照明场由所述输出光束（13）照射的输出光束（13）。至少所述EUV光源（7）包括照射子单元（7）的照明系统（6）具有用于设置一个限定的照明子单元的EUV发射光束（13）的偏振的偏振调整装置（15，18）（7），结果是该系统的偏振要求的照明系统，并且可以被适配为在基板或晶片结构要投影灵活。

14. 发明申请

WO2008012022A1 OPTISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KORREKTUR BZW. VERBESSERUNG DES ABBILDUNGSVERHALTENS EINER SOLCHEN VORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：光学装置和方法纠正或改善PICTURE行为这种装置
公开(公告)号：WO2008012022A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006407
申请日：2007-07-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70041 , G03F7/70266
摘要： Eine optische Vorrichtung weist eine Lichtquelle, die Licht in Form von Lichtpulsen mit einer Pulsfrequenz abstrahlt, und mindestens ein optisches Element auf, das mit Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung mit einer Schwingungsfrequenz verbunden ist. Die Schwingung des optischen Elements führt zu einer zeitlich periodischen Modulation zumindest eines für die optische Abbildung relevanten Parameters des optischen Elements. Die Schwingungsfrequenz ist mittels der Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung des optischen Elements so einstellbar, dass sie mit der Pulsfrequenz der Lichtquelle synchronisiert ist. Es ist ein Taktgeber für die Pulsfrequenz der Lichtpulse vorgesehen, wobei mit dem Taktgeber zumindest ein Frequenzvervielfacher verbunden ist, dessen Ausgang mit den Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung verbunden ist. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung beschrieben.
摘要翻译：一种光学器件，包括：在具有脉冲频率的光脉冲的形式发射光的光源，和其中至少一个是在振荡频率连接到用于振荡的激发光学元件。该光学元件的振动导致相关的光学元件的光学成像参数的至少一个的时间上周期性的调制。使得它由设备用于光学元件的振荡的激励的装置与所述光源的脉冲频率同步的振荡频率是可调整的。提供了一种用于在光脉冲的脉冲频率，其中至少一个倍频器连接到所述时钟，其输出被连接到所述装置用于振荡的激励一个时钟发生器。此外，用于校正或改善所述的光学器件的成像特性的方法。

15. 发明申请

WO2007031544A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微波曝光系统的光学系统
公开(公告)号：WO2007031544A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/EP2006/066332
申请日：2006-09-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , BEDER, Susanne , CLAUSS, Wilfried , FELDMANN, Heiko , KRÄHMER, Daniel , DODOC, Aurelian
发明人： TOTZECK, Michael , BEDER, Susanne , CLAUSS, Wilfried , FELDMANN, Heiko , KRÄHMER, Daniel , DODOC, Aurelian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B5/3083 , G02B27/286 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： An optical system, in particular an illumination system or a projection lens of a microlithographic exposure system, according to one aspect of the present invention has an optical system axis (OA) and at least one element group (200) consisting of three birefringent elements (211 ,212,213) each of which being made of optically uniaxial material and having an aspheric surface, wherein a first birefringent element (211 ) of said group has a first orientation of its optical crystal axis, a second birefringent element (212) of said group has a second orientation of its optical crystal axis, wherein said second orientation can be described as emerging from a rotation of said first orientation, said rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof, and a third birefringent element (213) of said group has a third orientation of its optical crystal axis, wherein said third orientation can be described as emerging from a rotation of said second orientation said rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof.
摘要翻译：根据本发明的一个方面的光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，具有光学系统轴（OA）和由三个双折射元件（200）组成的至少一个元件组（200） 211,212,213），其由光学单轴材料制成并具有非球面，其中所述组的第一双折射元件（211）具有其光学晶轴的第一取向，所述组的第二双折射元件（212）具有其光学晶轴的第二取向，其中所述第二取向可以被描述为从所述第一取向的旋转出来，所述旋转不对应于围绕光学系统轴的旋转90°的角度或其整数倍，并且所述组的第三双折射元件（213）具有其光学晶轴的第三取向，其中所述第三取向可以被描述为从所述第二方向的旋转，所述旋转不对应于围绕光学系统轴的旋转90°的角度或其整数倍。

16. 发明申请

WO2009152867A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：微观投影曝光装置和微观曝光方法的光学系统
公开(公告)号：WO2009152867A1
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：PCT/EP2008/057900
申请日：2008-06-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael
发明人： TOTZECK, Michael
IPC分类号： G02B27/18 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B27/642 , G03F7/70108 , G03F7/70125 , G03F7/70341 , G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and to a microlithographic exposure method. An optical system of amicrolithographic projection exposure apparatus comprises an image rotator (50, 50), which is arranged in said optical system such that light impinging on the image rotator (50, 50) is at least partially polarized, wherein the image rotator (50, 50) rotates, for light impinging on the image rotator (50, 50), both the intensity distribution and the polarization distribution of through a given angle of rotation.
摘要翻译：本发明涉及微光刻投影曝光装置和微光刻曝光方法的光学系统。微光刻投影曝光装置的光学系统包括：图像旋转器（50,50），其布置在所述光学系统中，使得入射到图像旋转器（50,50）上的光至少部分地偏振，其中图像旋转器（50,50），50）旋转，用于通过给定旋转角度的光照射在图像旋转器（50,50）上的光强度分布和偏振分布。

17. 发明申请

WO2009024438A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：微观投影曝光方法
公开(公告)号：WO2009024438A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：PCT/EP2008/059956
申请日：2008-07-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael
发明人： TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70408
摘要： The invention concerns a microlithographic projection exposure method, wherein the method comprises the following steps: providing a substrate (210, 410), to which a light-sensitive first resist (220, 420) is at least partially applied, providing a microlithographic projection exposure apparatus, producing an auxiliary grating structure (240a, 430a) by means of the projection exposure apparatus, wherein said auxiliary grating structure (240a, 430a) is produced upstream of the first resist (220, 420) in the light propagation direction, providing a mask and projecting, using the auxiliary grating structure (240a, 430a), at least a part of the mask onto a region of the first resist (220, 420) by means of the projection exposure apparatus.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光方法，其中所述方法包括以下步骤：提供至少部分施加光敏第一抗蚀剂（220,420）的衬底（210,410），提供微光刻投影曝光装置，通过投影曝光装置产生辅助光栅结构（240a，430a），其中所述辅助光栅结构（240a，430a）在光传播方向上在第一抗蚀剂（220,420）的上游产生，使用辅助光栅结构（240a，430a），通过投影曝光装置将掩模的至少一部分掩模投影到第一抗蚀剂（220,420）的区域上。

18. 发明申请

WO2008119794A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是照明设备或投影微波投影曝光装置的目标
公开(公告)号：WO2008119794A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/EP2008/053847
申请日：2008-03-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
发明人： TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a polarization compensator (100, 200, 300, 400, 800, 900), which has at least one polarization-modifying partial element (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), and a manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), by means of which the position of the at least one partial element can be altered, wherein, in the optical system, at least one operating mode (501-504) can be set in which the intensity, over a region which belongs to a plane perpendicular to the optical axis (OA) and which can be illuminated with light from said light source, does not exceed 20% of the maximum intensity in said plane, and wherein the manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) is arranged in said region.
摘要翻译：本发明涉及光学系统，特别是微光刻投影曝光装置的照明装置或投影物镜，该光学装置或投影物镜包括极化补偿器（100,200,300,400,800,900），其具有至少一个偏振修正部分元件（110-140,210-240,310-340,410-440,810-840,910-940）和操纵器（150,250,722,851-854,951a-954a，951b-954b），借助于此可以改变至少一个部分元件的位置，其中在光学系统中，可以设置至少一个操作模式（501-504），其中强度在属于垂直于光轴（OA）的并且可以用来自所述光源的光照射的平面不超过所述平面中最大强度的20％，并且其中所述操纵器（150,250,722,851-854,951a -954a，951b-954b）布置在所述区域中。

19. 发明申请

WO2006111319A3 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING A MICRO-STRUCTURED STRUCTURAL MEMBER BY THE AID OF SUCH A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND POLARIZATION-OPTICAL ELEMENT ADAPTED FOR USE IN SUCH A SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2006111319A3
公开(公告)日：2006-10-26
申请号：PCT/EP2006/003401
申请日：2006-04-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Juergen , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , DITTMANN, Olaf , TOTZECK, Michael
发明人： MANN, Hans-Juergen , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , DITTMANN, Olaf , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20
摘要： The invention relates to a projection exposure system, in particular for micro-lithography. The projection exposure system according to the invention comprises a light source (18) for producing light in the EUV region. The projection exposure system further comprises a first optical system (19, 20, 21, 22, 23, 24) for illuminating a mask (25) by the light of the light source (18) and a second optical system (26, 27, 28, 29, 30, 31) for imaging the mask (25) on a component (32). At least one polarization-optical element (1) is disposed on the beam path between the light source (18) and the component (32).

20. 发明申请

WO2006089919A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR OBJECTIVE OR ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是用于微波投影曝光装置的目标或照明系统
公开(公告)号：WO2006089919A1
公开(公告)日：2006-08-31
申请号：PCT/EP2006/060196
申请日：2006-02-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf
发明人： TOTZECK, Michael , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B5/30 , G03F7/20
CPC分类号： G02B1/02 , G02B1/08 , G02B5/3083 , G02B13/143 , G03F7/70966
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an objective or an illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus, which in particular also permits the use of crystal materials with a high refractive index while reducing the influence of intrinsic birefringence on the imaging properties. In particular the invention relates to an optical system having at least two lens groups (10-60) with lenses of intrinsically birefringent material, wherein the lens groups (10-60) respectively comprise a first subgroup with lenses in a (lOO)-orientation and a second subgroup with lenses in (lll)-orientation, and wherein the lenses of each subgroup are arranged rotated relative to each other about their lens axes.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光装置的光学系统，特别是物镜或照明系统，其特别地还允许使用具有高折射率的晶体材料，同时减少本征双折射对成像性能的影响。特别地，本发明涉及一种具有至少两个具有本征双折射材料透镜的透镜组（10-60）的光学系统，其中透镜组（10-60）分别包括具有（100）取向的透镜的第一子组以及具有（III）取向的透镜的第二子组，并且其中每个子组的透镜相对于彼此围绕其透镜轴线旋转。

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