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11. 发明申请

WO2013006003A2 인라인 열처리 장치 审中-公开
标题翻译：在线热处理系统
公开(公告)号：WO2013006003A2
公开(公告)日：2013-01-10
申请号：PCT/KR2012/005352
申请日：2012-07-05
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일
发明人： 이병일
CPC分类号： H01L21/6776 , H01L21/67057 , H01L21/67173 , H01L21/67706
摘要： 인라인 열처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는 기판의 이송방향 또는 기판의 이송방향과 반대방향으로 운동하는 지지바에 기판이 탑재 지지되어 이송된다. 그러므로, 기판과 지지바 사이에서 마찰에 의한 파티클(Particle)이 발생하지 않는다. 따라서, 파티클에 의하여 기판이 손상되는 것이 방지되므로, 제품의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다. 그리고, 기판과 지지바의 접촉 면적이 상대적으로 작으므로, 기판의 상면과 하면이 균일하게 열처리된다. 따라서, 제품의 신뢰성이 더욱 향상되는 효과가 있다.
摘要翻译：在线热处理装置启动。根据本发明的在线热处理设备传送支撑在沿着基板的传送方向或与基板的传送方向相反的方向上移动的支撑杆上的基板。因此，在基底和支撑杆之间不会发生摩擦引起的颗粒。因此，由于防止了基材被颗粒损坏，因此产品的可靠性得到改善。由于基板与支撑杆之间的接触面积较小，所以基板的上表面和下表面均匀地进行热处理。因此，该产品的可靠性得到进一步改善。

12. 发明申请

WO2011065688A3 다결정 실리콘 형성 장치 및 그 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2011065688A3
公开(公告)日：2011-06-03
申请号：PCT/KR2010/007872
申请日：2010-11-09
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일 , 박경완 , 허관선 , 강호영 , 송종호
发明人： 이병일 , 박경완 , 허관선 , 강호영 , 송종호
IPC分类号： C30B33/02
摘要： 다결정 실리콘 형성 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 장치는, 기판 상에 형성된 비정질 실리콘을 열처리하여 다결정 실리콘을 형성하는 장치로서, 비정질 실리콘을 예열(pre-heating)하는 예열부(200); 및 예열부(200)에서 예열된 비정질 실리콘을 결정화 열처리하는 열처리부(300)를 포함하는 것을 특징으로 한다.

13. 发明申请

WO2011037438A2 드라이필름 포토레지스트 审中-公开
标题翻译：干膜光刻胶
公开(公告)号：WO2011037438A2
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：PCT/KR2010/006592
申请日：2010-09-28
申请人： 코오롱인더스트리 주식회사 , 석상훈 , 문희완 , 봉동훈 , 이병일 , 한국현 , 조승제 , 최종욱
发明人： 석상훈 , 문희완 , 봉동훈 , 이병일 , 한국현 , 조승제 , 최종욱
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/09 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/0752
摘要： 본 발명은 드라이필름 포토레지스트에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명에 따른 드라이필름 포토레지스트는 지지체 필름을 제거한 상태로 노광공정이 실시가능하여, 지지체 필름에 의한 노광 효과의 악영향을 방지함으로써 해상도를 향상시킬 수 있다. 더욱이, 수지 보호층이 존재하는 상태로 노광을 실시하더라도 수지 보호층으로 인한 투명성 저하나 현상속도 저하가 발생하지 않아 고해상도를 달성할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种干膜光致抗蚀剂，更具体地说，本发明的干膜光致抗蚀剂可以在去除支撑膜的状态下经受曝光工艺，通过防止不利影响，可以提高分辨率。此外，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会发生由树脂保护层引起的高透明度或降低显影速度，并且可以实现高分辨率。

14. 发明申请

WO2011025256A2 증착가스 공급장치 审中-公开
标题翻译：沉积气供应装置
公开(公告)号：WO2011025256A2
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：PCT/KR2010/005695
申请日：2010-08-25
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일 , 박경완 , 강호영 , 김철호 , 송종호
发明人： 이병일 , 박경완 , 강호영 , 김철호 , 송종호
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： 반도체 소자나 평판 디스플레이 제조를 위한 박막 증착 공정 시에 매 증착 공정마다 균일한 양의 증착가스가 공급될 수 있도록 하는 증착가스 공급장치가 개시된다. 본 발명에 따른 증착가스 공급장치(100)는, 증착물질이 저장되는 증착물질 저장부(200), 증착물질에 열을 인가하여 증착가스를 발생시키는 증착물질 증발부(300) 및 운반가스를 공급하는 운반가스 공급부(400)를 포함하는 증착가스 공급장치(100)로서, 증착물질 저장부(200)와 증착물질 증발부(300) 사이에 배치되는 증착물질 공급부(500)를 더 포함하고, 증착물질 공급부(500)는 매 증착 공정 마다 증착물질 증발부(300)로 일정 양의 증착물질을 공급하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：公开了一种沉积气体供给装置，当进行薄膜沉积以制造半导体器件或平板显示器时，能够为每个沉积工艺提供恒定量的沉积气体。根据本发明的沉积气体供应装置（100）包括：沉积材料存储单元（200），其中存储沉积材料; 沉积材料蒸发单元（300），其向所述沉积材料施加热量以产生蒸发气体; 以及供给载气的载气供给单元（400）。沉积气体供给装置（100）还包括插入在沉积材料存储单元（200）和沉积材料蒸发单元（300）之间的沉积材料供应单元（500）。沉积材料供给单元（500）为每个沉积处理向沉积材料蒸发单元（300）供应恒定量的沉积材料。

15. 发明申请

WO2010011117A3 ＮＤＧＡ를 포함하는 트란스글루타미나제 억제용 조성물 审中-公开
公开(公告)号：WO2010011117A3
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：PCT/KR2009/004175
申请日：2009-07-27
申请人： 국립암센터 , 김수열 , 이창훈 , 정경채 , 이병일
发明人： 김수열 , 이창훈 , 정경채 , 이병일
IPC分类号： A61K31/198 , A61P25/00 , A61P29/00 , A61P35/00
摘要： 본 발명은 NDGA(Nordihydroguaiaretic acid)의 신규한 트란스글루타미나제 억제 용도에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 NDGA를 유효성분으로 포함하는 트란스글루타미나제 활성 증가에 의해 초래되는 질병인 신경계 질환, 염증성 질환, 암 질환을 예방 또는 치료하기 위한 약제학적 조성물 및 상기 약제학적 조성물을 투여하여 트란스글루타미나제 활성 증가에 의해 초래되는 신경계 질환, 염증성 질환, 암 질환을 예방 또는 치료하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 NDGA를 이용하여 트란스글루타미나제를 억제하는 신규한 방법은 트란스글루타미나제가 이상 발현되는 질환을 가진 대상에게 부작용없이 안전하게 적용되어 상기 질환을 효과적으로 치료 또는 예방 하는 데 유용하다.

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