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11. 发明申请

WO2012064097A2 극자외선 리소그라피용 포토레지스트 탑코트 조성물과 이를 이용하는 패턴 형성 방법 审中-公开
标题翻译：用于极紫外光刻的光致抗蚀剂面漆组合物和使用该组合物的图案形成方法
公开(公告)号：WO2012064097A2
公开(公告)日：2012-05-18
申请号：PCT/KR2011/008498
申请日：2011-11-09
申请人：㈜동진쎄미켐 , 이재우 , 오승근 , 이정열 , 김정식 , 김재현
发明人： 이재우 , 오승근 , 이정열 , 김정식 , 김재현
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0271 , G03F7/091 , G03F7/11
摘要： 극자외선 리소그라피용 마스크에 쓰이는 포토레지스트 탑코트과 그 제조를 위한 조성물을 개시한다. 이 포토레지스트 탑코트 형성용 조성물은 ㄱ) 100 중량부의 수용성 바인더 수지, ㄴ) 0.01 내지 30 중량부의 극자외선 대역외 자외선 차단제와 ㄷ) 1,000 내지 10,000 중량부의 양성자성 용매를 포함한다. 이러한 포토레지스트 탑코트를 사용하면 극자외선 리소그라피의 대역외 영역 자외선에 의한 회로 패턴의 불량을 크게 줄이고, 거친 선폭도 개선할 수 있다.
摘要翻译：公开了用于极紫外光刻的掩模中使用的光致抗蚀剂顶涂层及其组合物。（a）100重量份的水溶性粘合剂树脂，（b）0.01至30重量份的极紫外带外部紫外线屏蔽剂，和（c）1,000至10,000重量份的质子溶剂。使用这种光致抗蚀剂面涂层可以极大地减少由于紫外线光刻的带外区域中的紫外线导致的电路图案的缺陷，并且还改善了粗线宽度。

12. 发明申请

WO2011014020A2 자가정렬 이중 패턴 형성용 포토레지스트 조성물 审中-公开
标题翻译：用于形成自对准双模式的光电组合物
公开(公告)号：WO2011014020A2
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/KR2010/004987
申请日：2010-07-29
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 이정열 , 김한상 , 이재우 , 김재현
发明人： 이정열 , 김한상 , 이재우 , 김재현
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0035 , G03F7/0046 , G03F7/40
摘要： 비노광부의 포토레지스트막 및 패턴에 두께 감소를 유발할 수 있는, 자가정렬 이중 패턴 형성용 포토레지스트 조성물이 개시된다. 상기 포토레지스트 조성물은, 청구항 1의 화학식 1로 표시되는 고분자 0.5 내지 15중량%; 및 나머지 용매를 포함하며, 경계층 제거를 위한 현상 공정 시, 현상액에 의해 비노광부의 포토레지스트막 및 패턴에 두께 감소를 유발하는 것이다.
摘要翻译：公开了用于形成自对准双重图案的光致抗蚀剂组合物，其可以在未曝光区域中带来图案和光致抗蚀剂膜的厚度减小。光致抗蚀剂组合物包含：0.5至15重量％的由权利要求1的化学式1代表的聚合物; 并且平衡溶剂，并且在未曝光区域中的图案和光致抗蚀剂膜的厚度的减小是通过在进行的显影处理期间通过显影液进行的，以去除边界层。

13. 发明申请

WO2012134226A2 포토리소그래피용 세정액 조성물 审中-公开
标题翻译：用于光刻机的清洁溶液组合物
公开(公告)号：WO2012134226A2
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/KR2012/002392
申请日：2012-03-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 오승근 , 이재우 , 김재현
发明人： 오승근 , 이재우 , 김재현
IPC分类号： G03F7/42 , C11D3/34 , G03F7/40
CPC分类号： C11D7/265 , C11D3/3765 , C11D3/3773 , C11D3/3776 , C11D7/3245 , C11D7/5004 , G03F7/168
摘要： 본 발명은 포토레지스트 패턴 형성 시 발생하는 패턴 쓰러짐 및 선폭 거칠기(LWR)의 수치 증대를 방지하고, 패턴 표면을 경화시켜 식각 저항성을 높일 수 있는 포토리소그래피용 세정액 조성물을 개시한다. 상기 세정액 조성물은 화학식 1로 표시되는 산성 단분자 화합물 또는 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 수용성 고분자; 및 용매를 포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光刻的清洁溶液组合物，其防止图案塌陷和在形成光致抗蚀剂图案期间可能发生的线宽粗糙度（LWR）的数值增加，并且使图案表面变硬耐蚀刻性。清洗液组合物包括：包含化学式1表示的单分子酸化合物或化学式3表示的重复单元的水溶性聚合物; 和溶剂。

14. 发明申请

WO2012093820A2 광학소자 봉지용 실리콘 수지 조성물 审中-公开
标题翻译：用于封装光学元件的有机硅树脂组合物
公开(公告)号：WO2012093820A2
公开(公告)日：2012-07-12
申请号：PCT/KR2012/000020
申请日：2012-01-02
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 송석진 , 김재현 , 주한복 , 박종대
发明人： 송석진 , 김재현 , 주한복 , 박종대
IPC分类号： C08L83/14 , C08G77/58 , C08L83/04 , C08G77/06 , H01L23/29
CPC分类号： H01L23/296 , C08G77/58 , C08L83/14 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 본 발명은 광학소자 봉지용 실리콘 수지 조성물에 관한 것으로서, (a) 하기 화학식 1의 유기실란을 하기 화학식 2의 금속(IV) 알콕사이드와 치환반응시켜 하기 화학식 3의 화합물을 얻은 후, (b) 이를 하기 화학식 4의 유기실란과 축합반응시켜 하기 화학식 5의 화합물을 얻은 다음, (c) 이를 중축합 촉매 존재 하에서 중축합하여 제조한 실리콘계 고분자 수지를 포함하는 본 발명의 실리콘 수지 조성물은 투명성을 확보하면서도 높은 굴절률과 우수한 가공성을 제공할 수 있으므로, 광학소자의 봉지제로서 유용하게 사용될 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及用于密封光学元件的有机硅树脂组合物，其包含：（a）用下式（2）的有机硅烷取代下式（2）的金属（IV）醇盐然后，（b）中得到的式（4）的式5的有机硅烷和缩合反应的化合物，以它，然后，（c）中，本发明包括获得通过缩聚他们下缩合催化剂的有机硅制备的基于硅的聚合物树脂的树脂组合物可以有效地用作光学元件的包封剂，因为它可以在确保透明性的同时提供高折射率和优异的可加工性。

15. 发明申请

WO2011016650A2 광학소자의 투광부 패키지 방법 및 장치 审中-公开
标题翻译：用于包装光学元件的发光单元的方法和装置
公开(公告)号：WO2011016650A2
公开(公告)日：2011-02-10
申请号：PCT/KR2010/005032
申请日：2010-07-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 손정현 , 주한복 , 박종대 , 김재현
发明人： 손정현 , 주한복 , 박종대 , 김재현
IPC分类号： H01L33/48 , G02F1/13357
CPC分类号： H01L51/5253 , G02F1/133603 , G02F2001/133607
摘要： 본 발명은 광학소자의 투광부 패키지 방법 및 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수광부 또는 발광부를 가지는 광학소자에 대하여 상기 수광부 또는 발광부 주위의 전부 또는 일부를 봉지하는 투광부를 형성하는 투광부 패키지 방법에 있어서, 다수의 상기 광학소자가 평면상에 배열되는 광학소자 어레이를 준비하는 단계; 상기 광학소자들에 각각 대응하는 화선부를 가지는 스크린을 준비하는 단계; 및, 진공상태에서 투광성 수지를 상기 스크린을 통하여 스크린 인쇄하여 상기 투광부를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학소자의 투광부 패키지 방법 및 장치에 관한 것이다. 이를 통하여 본 발명은 진공 스크린 인쇄 공정을 적용하여 대 면적 substrate(특히, LED로 이루어진 LCD용 BLU제작에 적용되는)에 짧은 시간 내에 균일한 유기막(돔형상의 투광부)을 형성할 수 있어 공정시간을 단축할 수 있고, 투광부내에 존재할 수 있는 pore의 발생을 최소화하고, 스크린 메시 및 패턴에 따라 다양한 형상에도 불구하고 기공의 발생이 적은 투광부를 형성할 수 있다. 따라서 투광부의 형성에 따라 광 추출효율 및 확산도 또한 조절이 가능하여 균일한 빛의 특성을 구현할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于封装光学元件的光发射单元的方法和装置，更具体地，涉及一种用于封装光发射单元的方法和装置，其包括形成用于封装光学元件的部分的光透射单元或具有光接收单元或发光单元的光学元件的光接收单元或发光单元的周边的整体，其中用于封装光发射单元的方法包括：步骤制备其中多个光学元件布置在平面上的光学元件阵列; 准备具有对应于各个光学元件的图像单元的屏幕的步骤; 以及通过所述屏幕将真空状态的透光树脂丝网印刷以形成所述光发射单元的步骤。如上所述，本发明的方法涉及实现真空丝网印刷工艺，以在具有大面积的基底上（特别是施加的基底）形成均匀的有机膜（即，圆顶状光透射单元）在制造用于由LED组成的LCD的BLU中），从而缩短处理时间，从而最小化透光单元中的孔的产生，并且即使当具有较少孔的情况下也形成具有较少孔的透光单元透光单元可以根据屏幕和图案的网格而具有各种形状。因此，透光单元的形成使光提取效率和光的扩散度得以控制，从而获得具有均匀光特性的光学元件。

16. 发明申请

WO2010140788A2 이온화되지 않는 열활성 나노촉매를 포함하는 화학 기계적 연마 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법 审中-公开
标题翻译：化学机械抛光浆料组合物，其包含非活化的活化纳米催化剂和使用其的抛光方法
公开(公告)号：WO2010140788A2
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：PCT/KR2010/003349
申请日：2010-05-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 박종대 , 임진혁 , 최정민 , 공현구 , 김재현 , 박혜정
发明人： 박종대 , 임진혁 , 최정민 , 공현구 , 김재현 , 박혜정
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02
摘要： 이온화되지 않는 열활성 나노촉매를 포함하여, 금속층의 화학 기계적 평탄화 공정에 유용한 연마 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법이 개시된다. 상기 화학 기계적 연마 슬러리 조성물은, 화학 기계적 연마 공정에서 발생되는 에너지에 의해서 전자와 정공을 방출시키는 이온화되지 않는 열활성 나노촉매; 연마제; 및 산화제를 포함한다. 상기 이온화되지 않는 열활성 나노촉매와 연마제는 서로 상이하고, 상기 이온화되지 않는 열활성 나노촉매는 수용액 상태에서 10 내지 100 ℃의 온도에서 전자와 정공을 방출시키는 반도체 물질인 것이 바람직하며, 바람직하게는, CrSi, MnSi, CoSi, 페로실리콘(FeSi) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 전이금속실리사이드(transition metal silicide)가 사용될 수 있고, 더욱 바람직하게는, 나노페로실리콘(nano ferrosilicon)과 같은 반도체 물질이 사용될 수 있다. 상기 이온화되지 않는 열활성 나노촉매의 함량은 전체 슬러리 조성물에 대하여 0.00001 내지 0.1 중량%이다.
摘要翻译：本发明涉及一种抛光浆料组合物，其包含非离子热活化纳米催化剂，并且其可用于化学机械平面化工艺，以及使用该组合物的抛光方法。化学机械抛光浆料组合物包括：非化学热活化纳米催化剂，其通过在化学机械抛光过程中产生的能量而排出电子和空穴; 研磨剂和氧化剂。非活性热活化纳米催化剂和研磨剂彼此不同。优选地，非离子化热活化纳米催化剂是在10〜100℃的温度下以水溶液状态排出电子和空穴的半导体物质。优选地，可以使用选自CrSi，MnSi，CoSi，硅铁（FeSi）及其混合物的过渡金属硅化物作为非离子化热活化纳米催化剂。更优选地，可以使用诸如纳米铁的半导体物质作为非离子化热活化纳米催化剂。非离子化热活化纳米催化剂的含量相对于总淤浆组成为0.00001〜0.1重量％。

17. 发明申请

WO2011034322A2 발광다이오드의 밀봉 방법 및 이에 의해 밀봉된 발광다이오드 审中-公开
标题翻译：密封发光二极管的方法和密封发光二极管的方法
公开(公告)号：WO2011034322A2
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：PCT/KR2010/006249
申请日：2010-09-14
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 손정현 , 주한복 , 박종대 , 김재현
发明人： 손정현 , 주한복 , 박종대 , 김재현
IPC分类号： H01L33/52 , H01L33/56
CPC分类号： H01L33/56 , H01L2933/005
摘要： 본 발명은 발광다이오드의 밀봉 방법 및 이에 의해 밀봉된 발광다이오드에 관한 것으로, 상기 밀봉 방법은 광경화형 수지 조성물과 광반도체 칩을 유체 레일을 따라 이동시키면서 마스크 없이 노광 및 광경화 공정을 수행하기 때문에 연속공정이 가능하고, 마스크 없이 이미지로 구현된 패턴에 따라 노광하여 밀봉 공정을 진행함으로써 발광다이오드의 양산 수율을 향상시킬 수 있다.
摘要翻译：
本发明暴露而没有涉及一种密封方法并因此与发光二极管，而将光固化性树脂组合物，并沿流体轨掩模的光半导体芯片的密封方法密封的发光二极管，和因为执行所述光固化过程可以是一个连续的过程是可能的，提高通过密封过程进行发光二极管的制造成品率，以按照没有掩模体现在图像中的图案的曝光。

18. 发明申请

WO2022260433A1 유기막 연마 조성물 및 이를 이용한 연마 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2022260433A1
公开(公告)日：2022-12-15
申请号：PCT/KR2022/008090
申请日：2022-06-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김희석 , 이구화 , 유재홍 , 박종대 , 김재현
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304
摘要： 본 발명은 친수성기와 소수성기를 모두 포함하고 있는 연마촉진제를 포함하여 폴리머(Polymer), SOC, SOH 뿐만 아니라, 무정형 탄소막(ACL) 또는 DLC(Diamond-Like Carbon)와 같이 공유결합으로 강하게 결합되어 있는 유기막에 대하여도 연마 속도가 높게 유지되는 유기막 연마 조성물 및 이를 이용한 연마 방법에 관한 것이다.

19. 发明申请

WO2019093766A3 감광성 고분자, 이를 이용한 포토레지스트 조성물 및 패턴형성 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2019093766A3
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：PCT/KR2018/013482
申请日：2018-11-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 오승근 , 오경일 , 이치환 , 박주영 , 김재현
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/26 , G03F7/20 , C08F220/04 , C08F216/08 , C08F220/26
摘要： 디스플레이, 반도체 및 MEMS 공정에서 사용되는 감광성 고분자, 이를 이용한 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴형성 방법이 개시된다. 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 고분자를 제공한다.

20. 发明申请

WO2019093766A2 감광성 고분자, 이를 이용한 포토레지스트 조성물 및 패턴형성 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2019093766A2
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：PCT/KR2018/013482
申请日：2018-11-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 오승근 , 오경일 , 이치환 , 박주영 , 김재현
摘要： 디스플레이, 반도체 및 MEMS 공정에서 사용되는 감광성 고분자, 이를 이용한 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴형성 방법이 개시된다. 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 고분자를 제공한다.

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