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11. 发明申请

WO2009131005A1 ガラス基板成形用金型、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体审中-公开
标题翻译：用于形成玻璃基板的金属板，制造玻璃基板的方法，用于制造用于信息记录介质的玻璃基板的方法，制造信息记录介质的方法，用于信息记录的玻璃基板
公开(公告)号：WO2009131005A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/JP2009/057189
申请日：2009-04-08
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 河合秀樹
发明人：河合秀樹
IPC分类号： C03B11/08 , G11B5/73 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , C03B11/082 , C03B11/088 , C03B2215/06
摘要：　溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造する方法において、ガラス基板を金型から離型するときに割れが発生しないガラス基板成形用金型、該金型を用いたガラス基板の製造方法、該製造方法で製造したガラス基板を用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体を提供する。溶融ガラスをプレス成形し情報記録媒体用ガラス基板を製造するガラス基板成形用金型において、下型が、複数の溝又は窪みが略均等に形成されている成形面を有すること。
摘要翻译：一种用于形成玻璃基板的金属模具，其能够防止玻璃基板在通过压制形成熔融玻璃而制造玻璃基板的方法中从金属模具释放玻璃基板时发生裂纹，制造玻璃基板的方法使用金属模具，使用通过制造方法制造的玻璃基板的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，信息记录介质的制造方法，信息记录介质用玻璃基板以及信息记录介质。在用于通过压制形成熔融玻璃来形成用于制造用于信息记录介质的玻璃基板的玻璃基板的金属模具中，下模包括其中大致均匀地形成多个凹槽或凹槽的成形表面。

12. 发明申请

WO2008111427A1 情報記録装置、並びにその情報記録装置に用いる情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体审中-公开
标题翻译：信息记录装置，信息记录装置和磁记录介质中使用的信息记录介质的玻璃基板
公开(公告)号：WO2008111427A1
公开(公告)日：2008-09-18
申请号：PCT/JP2008/053825
申请日：2008-03-04
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 河合秀樹
发明人：河合秀樹
IPC分类号： G11B23/00 , G11B5/73
CPC分类号： G11B5/7315 , G11B17/0287
摘要：　本発明は、ガラス基板が安定してＳＰＭのハブに固定される一方で、情報記録装置に強い衝撃が加えられた場合であっても、情報記録媒体用ガラス基板が破損しない情報記録装置を提供する。このため、情報記録媒体用ガラス基板は、前記情報記録媒体用ガラス基板の径方向の前記主表面に垂直な断面で一方の前記主表面の輪郭線の上に、位置Ｐ１、位置Ｐ２、位置Ｐ３を同一面内に定め、前記輪郭線は、前記位置Ｐ２から前記主表面から離れる方向に下降して前記位置Ｐ３を通過して前記内周端面に至り、前記主表面の平坦部を基準とする基準平面と前記位置Ｐ３との距離Δｈが条件式を満足する。
摘要翻译：提供了一种信息记录装置，其中，即使当对信息记录装置施加强烈的冲击时，信息记录介质的玻璃基板也不会破裂，同时玻璃基板被稳定地固定到SPM的轮毂。在用于信息记录介质的玻璃基板中，位置（P1），位置（P2）和位置（P3）固定在垂直于主表面的横截面上的一个主表面轮廓的同一表面内在玻璃基板的直径方向上。轮廓从远离主表面的方向从位置（P2）下降，经过位置（P3），到达内周端面。在作为基准的主表面具有平坦部分的参考平面与位置（P3）之间的距离，h满足条件表达式。

13. 发明申请

WO2008084591A1 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、及び磁気記録媒体用基板の製造方法审中-公开
标题翻译：磁记录介质基板，磁记录介质和制造磁记录介质基板的方法
公开(公告)号：WO2008084591A1
公开(公告)日：2008-07-17
申请号：PCT/JP2007/071206
申请日：2007-10-31
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 河合秀樹
发明人：河合秀樹
IPC分类号： G11B5/73 , G11B5/65 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/855 , Y10T29/49043
摘要：　記録領域に磁性層を規則的に形成することが可能な磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、及び磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。このため、磁性層が形成される複数の記録領域が表面に形成された円板状の磁気記録媒体用基板であって、記録領域の大きさは、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさである。例えば、記録領域として用いられる凸部３の幅は、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさとなっている。つまり、凸部３の幅を幅ｄ１とし、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数（幅ｄ２）とすると、幅ｄ１＝幅ｄ２×ｎ（ｎ：正の整数）の関係が成立している。
摘要翻译：提供了一种磁记录介质基板，因此可以在记录区域中规则地形成磁性层，磁记录介质和用于制造磁记录介质基板的方法。在盘状磁记录介质基板的表面上形成有要形成磁性层的多个记录区域。记录区域的大小是构成磁性层的单晶结构的单位晶格的晶格常数的整数倍。例如，用作记录区域的突出部分（3）的宽度是构成磁性层的单晶结构的单位晶格的晶格常数的整数倍。即，宽度（d1）=宽度（d2）OE（n：正整数）的关系被满足，其中宽度（d1）是突出部分（3）的宽度，宽度（d2）是构成磁性层的单晶结构的单位晶格的晶格常数。

14. 发明申请

WO2008062656A1 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体审中-公开
标题翻译：用于信息记录介质的玻璃基板，用于制造信息记录介质的玻璃基板的方法和信息记录介质
公开(公告)号：WO2008062656A1
公开(公告)日：2008-05-29
申请号：PCT/JP2007/071485
申请日：2007-11-05
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 河合秀樹 , 澤田浩明 , 佐々木賢一
发明人：河合秀樹 , 澤田浩明 , 佐々木賢一
IPC分类号： G11B5/73 , G11B5/84 , C03C21/00 , G11B7/253 , G11B11/105
CPC分类号： G11B5/8404 , C03C21/002 , G11B5/7315 , G11B7/2531 , G11B11/10582 , G11B11/10586 , G11B23/0021
摘要：　本発明は、高い強度と高い平坦度を兼ね備えると共に低コストで製造することができる情報記録媒体用ガラス基板、該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供する。この情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス基板の外周端面及び内周端面の化学強化された領域におけるガラス基板の厚み方向中央部のイオン濃度であって、Ｋ + イオン濃度の最大値をＷ１、Ｋ + イオン濃度が最大となる位置におけるＮａ + イオン濃度をＷ２とし、ガラス基板の化学強化されていない領域におけるＫ + イオン濃度をＷ３としたとき、０．１≦（Ｗ１－Ｗ３）／Ｗ２≦５、を満足する。
摘要翻译：提供一种用于信息记录介质的玻璃基板，其具有高强度和高平坦度，并且可以以低成本制造，这种玻璃基板的制造方法和使用这种玻璃基板的信息记录介质。用于信息记录介质的玻璃基板满足不等式0.1 =（W1-W3）/ W2 = 5，其中，W1是在外部的化学增强区域中的玻璃基板的厚度方向中央部的离子浓度圆周端面和玻璃基板的内周端面，是离子浓度的最大值，W2是Na +离子浓度， K +离子浓度最大，W3是未被化学增强的玻璃衬底区域中的K + +离子浓度。

15. 发明申请

WO2008047609A1 情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体並びに情報記録媒体用ガラス基板の製造方法审中-公开
标题翻译：用于信息记录介质的玻璃基板，磁记录介质以及用于制造信息记录介质的玻璃基板的方法
公开(公告)号：WO2008047609A1
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：PCT/JP2007/069454
申请日：2007-10-04
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 河合秀樹
发明人：河合秀樹
IPC分类号： G11B5/73 , C03C21/00 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , C03C21/00 , C03C2204/08 , G11B5/7315 , Y10T428/218 , Y10T428/24612
摘要：　情報記録媒体用ガラス基板の化学的耐久性を向上させると同時に、基板の変形や基板特性の変質が生じないようにする。ガラス基板の表面に形成する化学処理層の層厚を、化学処理を行う前のガラス基板の表面粗度の大きい部分ほど厚くする。より高い化学的耐久性を得る観点からは、形成する化学処理層の層厚Ｄが下記式（１）を満足するようにするのが好ましい。　１００Ｒａ≦Ｄ≦３０００Ｒａ　　　・・・・・・（１）（Ｒａ：化学処理を行う前のガラス基板の表面粗度）
摘要翻译：本发明提供一种用于信息记录介质的玻璃基板，其具有改善的化学耐久性，并且同时没有基板变形和基板特性的变化。化学处理玻璃基板以在其表面上形成化学处理层。在这种情况下，进行化学处理，使得在化学处理前具有较大表面粗糙度的部分，在玻璃基板上形成厚度较大的化学处理层。从赋予更高水平的化学耐久性的观点出发，化学处理层的厚度D优选满足下式（1）：100Ra = D = 3000Ra（1）其中Ra表示化学品前的玻璃基板的表面粗糙度治疗。

16. 发明申请

WO2009096218A1 基板製造方法审中-公开
标题翻译：基板制造方法
公开(公告)号：WO2009096218A1
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2009/050294
申请日：2009-01-13
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 山田基弘 , 河合秀樹
发明人：山田基弘 , 河合秀樹
IPC分类号： C23C18/02 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , C23C18/06 , C23C18/1212
摘要：　基板１には、１０［ｗｔ％］以上５０［ｗｔ％］以下の不純物を含むガラス基板、樹脂基板、金属基板、又はセラミック基板を用いる。その基板１に液相析出法によってＳｉＯ２膜２を成膜する。ＳｉＯ２膜２上に所定のパターンを有するエッチングマスク３を形成し、ＳｉＯ２膜２をドライエッチングすることでＳｉＯ２膜２に凹凸形状４を形成する。
摘要翻译：使用含有10重量％以上但不大于50重量％的杂质的玻璃板，树脂板，金属板或陶瓷板作为基板（1）。通过液相沉积在板（1）上形成SiO 2膜（2）。在SiO 2膜（2）上形成具有规定图案的蚀刻掩模（3），通过干法蚀刻SiO 2膜（2），在SiO2膜（2）上形成凹凸形状（4）。

17. 发明申请

WO2009096217A1 磁気記録媒体用基板の製造方法、及び磁気記録媒体审中-公开
标题翻译：用于制造磁记录介质的基板和磁记录介质的方法
公开(公告)号：WO2009096217A1
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2009/050293
申请日：2009-01-13
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 山田基弘 , 河合秀樹 , 森川雅弘
发明人：山田基弘 , 河合秀樹 , 森川雅弘
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/73
CPC分类号： G11B5/7315 , G11B5/8404
摘要：　円板状のガラス基板又はアルミニウム基板の表面を、表面粗さＲａが０．３～０．８［ｎｍ］になるまで研磨する。水溶液中に研磨後の基板を浸漬させ、水溶液中において金属フルオロ錯体が加水分解することにより、研磨後の表面に金属酸化膜３を成膜する。これにより、表面に金属酸化膜３が形成された磁気記録媒体用基板１を作製する。
摘要翻译：将盘状玻璃或铝基板的表面研磨直至基板的表面粗糙度（Ra）为0.3〜0.8 [nm]。将基底浸渍在水溶液中，使水溶液中的金属氟络合物水解，从而在基材的地面上形成金属氧化物膜（3）。以这种方式，可以制造在其表面上形成有金属氧化物膜（3）的用于磁记录介质的基板（1）。

18. 发明申请

WO2008087837A1 ガラス基板成形用金型、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法审中-公开
标题翻译：用于玻璃基板模制的模具，用于生产玻璃基板的方法，用于产生用于信息记录介质的玻璃基板的方法，以及用于产生信息记录介质的方法
公开(公告)号：WO2008087837A1
公开(公告)日：2008-07-24
申请号：PCT/JP2007/074924
申请日：2007-12-26
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 河合秀樹
发明人：河合秀樹
IPC分类号： C03B11/08 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , C03B11/125 , C03B2215/03 , C03B2215/44 , Y02P40/57
摘要：　溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造する方法により高い平面度を有するガラス基板を製造することができるガラス基板成形用金型、該金型を用いたガラス基板の製造方法等を提供する。溶融ガラスが供給され、供給された該溶融ガラスを加圧するための第１の成形面を備える下型と、第１の成形面との間で溶融ガラスを加圧するための第２の成形面を備える上型と、を有する金型であって、第１の成形面のうち、加圧前に溶融ガラスと接触する中心部の表面粗さＲａよりも、加圧後に溶融ガラスと接触する周辺部の表面粗さＲａの方が大きい。
摘要翻译：公开了一种用于玻璃基板模制的模具，其能够通过熔融玻璃的压制成型制造玻璃基板的方法来制造具有高平坦度的玻璃基板。还公开了使用这种模具制造玻璃基板的方法。具体公开了一种模具，包括具有用于挤压供给的熔融玻璃的第一成型面的下模，以及具有用于将熔融玻璃压靠在第一成型面上的第二成型面的上模。在第一成形面中，与压制后的熔融玻璃接触的周边部的表面粗糙度Ra高于在压制之前与熔融玻璃接触的中心部的表面粗糙度Ra。

19. 发明申请

WO2008047534A1 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体用基板の製造方法、磁気記録媒体、及び磁気記録媒体の製造方法审中-公开
标题翻译：磁记录介质基板，制造磁记录介质基板的方法，磁记录介质以及用于制造磁记录介质的方法
公开(公告)号：WO2008047534A1
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：PCT/JP2007/068471
申请日：2007-09-22
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 上田裕昭 , 森川雅弘 , 河合秀樹
发明人：上田裕昭 , 森川雅弘 , 河合秀樹
IPC分类号： G11B5/73 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404 , G11B5/7315
摘要：　ＤＴメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の表面粗さが、他の領域よりも粗くなっている。この基板に磁性膜を成膜すると、表面粗さが他の領域より粗くなっている部分に、磁性膜が成膜され、簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することができる。
摘要翻译：本发明提供一种磁记录介质基板，其适于制造DT介质或图案介质，并且可以容易地制造DT介质或图案化介质，而不需要任何复杂的步骤。磁记录介质基板由具有圆盘形状的非磁性基材制成，并且在预定区域中具有比其它区域具有磁性膜的更粗糙的表面。当用该磁性膜成膜该基片时，具有较粗糙表面的部分被磁性膜成膜，从而可以简单地制造DT介质或图案化介质。

20. 发明申请

WO2008004471A1 ガラス基板の製造方法、磁気ディスクおよびその製造方法审中-公开
标题翻译：生产玻璃基板的方法，磁性盘及其制造方法
公开(公告)号：WO2008004471A1
公开(公告)日：2008-01-10
申请号：PCT/JP2007/062867
申请日：2007-06-27
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 河合秀樹
发明人：河合秀樹
IPC分类号： C03C19/00 , G11B5/73
CPC分类号： G11B5/8404 , C03C19/00
摘要：　超精密研磨加工によって、表面に均一且つ微細に筋模様を形成される、ＳｉＯ2を主成分とするガラス基板の製造方法は、ポリッシュしたガラス基板について、最表面部における、ＸＰＳによるＳｉ原子の２Ｐ軌道占有電子に対する束縛エネルギーのある特性が、ある特定値以下であるかどうか検査する工程とを有し、該ある特性が該束縛エネルギーのシフト量、または該束縛エネルギー分布の半値巾であり、該特定値がそれぞれ０.１０ｅＶまたは２．１５ｅＶである。
摘要翻译：一种通过超精密抛光处理使其表面具有均匀的微观条纹图案的主要由SiO 2组成的玻璃基板的方法，该方法包括相对于抛光的玻璃基板的步骤，检查是否关于由XPS确定的在其最外表面部分占据Si原子的2P轨道的结合能的一定性质是一定的特定值或以下，上述某些特性是结合能量的偏移程度或半 - 结合能量分布的价值宽度，上述指定值分别为0.10eV或2.15eV。

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