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    • 189. 发明申请
    • 高周波加熱装置
    • 高频辐射加热装置
    • WO2011007542A1
    • 2011-01-20
    • PCT/JP2010/004508
    • 2010-07-12
    • パナソニック株式会社石崎俊雄
    • 石崎俊雄
    • H05B6/74H05B6/64H05B6/66H05B6/68
    • H05B6/705
    •  高周波加熱装置(100)は、加熱室(120)と、加熱室に高周波を放射する第1高周波発生ユニット(101a)及び第2高周波発生ユニット(101b)と、第1及び第2高周波発生ユニット(101a、101b)を制御する制御部(102)とを備える。第1及び第2高周波発生ユニット(101a、101b)はそれぞれ、加熱室に高周波を放射する放射部(108a、108b)と、加熱室から入射してくる逆流波を復調する逆流波復調部(109a、109b)とを備える。第1高周波発生ユニットの逆流波復調部(109a)は、放射部(108a)から放射された高周波が反射により当該放射部(108a)へ戻ってくる反射波と、他の放射部(108b)が放射した高周波が放射部(108a)に入ってくるスルー波とを検出する。制御部(102)は、検出された反射波とスルー波とに基づいて、第1及び第2高周波発生ユニット(101a、101b)を制御する。
    • 公开了一种高频辐射加热装置(100),其具有加热室(120),第一高频辐射发生单元(101a)和第二高频辐射发生单元(101b),其将高频辐射发射到 加热室和控制第一和第二高频辐射发生单元(101a,101b)的控制器(102)。 第一和第二高频辐射发生单元(101a,101b)各自设置有向加热室发射高频辐射的发射器(108a,108b)和向后解调的后辐射解调器(109a,109b) 来自加热室的辐射。 第一高频辐射发生单元中的后辐射解调器(109a)检测由发射器(108a)发射并经由反射返回发射器(108a)的反射高频辐射,并且还检测通过辐射 其在从另一发射器(108b)发射之后进入发射极(108a)。 控制器(102)基于检测到的反射辐射和通过辐射来控制第一和第二高频辐射发生单元(101a,101b)。