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    • 92. 发明申请
    • 高周波加熱装置及び高周波加熱方法
    • 高频加热装置和高频加热方法
    • WO2011070721A1
    • 2011-06-16
    • PCT/JP2010/006581
    • 2010-11-10
    • パナソニック株式会社岡島 利幸
    • 岡島 利幸
    • H05B6/74H05B6/72
    • H05B6/6447H05B6/70H05B6/705H05B6/72Y02B40/146
    •  本発明の高周波加熱装置は、高周波電力の位相を変化させる位相可変部(103a、103b)と、加熱室(101)内の同一面に配置され、位相が変化されたことにより所定の位相差を有する複数の高周波電力を放射する複数のアンテナ(104a、104b)と、被加熱物(150)の形状を取得する形状情報取得部(120)と、第1モードにおいて複数の高周波電力が同相となり、第2モードにおいて複数の高周波電力が逆相となるように位相可変部(103a、103b)を制御する制御部(130)とを備え、制御部(130)は、取得された形状情報に基づいて、第1モードと第2モードとを切換える。
    • 公开了一种高频加热装置,具有改变高频功率相位的相变单元(103a,103b) 多个天线(104a,104b),其布置在加热室(101)内的相同表面上,并且由于相位改变而以具有预定相位差的不同高频发射功率; 获取待加热物体的形状的形状信息获取单元(120); 以及控制单元(130),其以使得在不同高频发射的功率在第一模式中同相的方式控制相变单元(103a,103b),并且以不同的高频发射的功率 在第二模式中处于反相位。 控制单元(130)根据获得的形状信息在第一模式和第二模式之间切换。
    • 98. 发明申请
    • スペクトル拡散高周波加熱装置
    • 传播频率高频加热装置
    • WO2009139136A1
    • 2009-11-19
    • PCT/JP2009/002024
    • 2009-05-08
    • パナソニック株式会社石崎俊雄岡島利幸八幡和宏夘野高史
    • 石崎俊雄岡島利幸八幡和宏夘野高史
    • H05B6/68
    • H05B6/686H05B6/705Y02B40/143Y02B40/146
    •  周波数可変型発振器1と、周波数可変型発振器1の出力を増幅する半導体電力増幅器2と、半導体電力増幅器2の出力に基づいて加熱用電磁波を放射する放射器3と、加熱用電磁波の反射波を検出する反射波モニタ回路5と、周波数可変型発振器1の発振周波数を制御する制御回路7とを備えている。制御回路7は、周波数可変型発振器1の発振周波数を不連続に切り替えることにより、放射器3から周波数ホッピング式スペクトル拡散型の放射を行うことができる。放射器3から放射された電磁波は、加熱庫8の内部に配置される被加熱物(通常は食品)9を照射し、被加熱物を加熱する。
    • 提供了一种可变频率振荡器(1),放大可变频率振荡器(1)的输出的半导体功率放大器(2),基于半导体功率放大器的输出辐射用于加热的电磁波的散热器(3) (2),检测用于加热的电磁波的反射波的反射波监视电路(5)和用于控制可变频率振荡器(1)的振荡频率的控制电路(7)。 控制电路(7)通过不连续地切换可变频率振荡器(1)的振荡频率,通过跳频扩频来实现来自散热器(3)的辐射。 从散热器(3)辐射的电磁波照射放置在加热装置(8)内部的被加热物(通常为食品)(9),对被加热物进行加热。