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1. 发明申请

WO2009148976A1 LENS HEATING COMPENSATION METHODS 审中-公开
标题翻译：透镜加热补偿方法
公开(公告)号：WO2009148976A1
公开(公告)日：2009-12-10
申请号：PCT/US2009/045732
申请日：2009-05-29
申请人： BRION TECHNOLOGIES, INC.
发明人： YE, Jun , LIU, Peng , CAO, Yu
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70441 , G03F7/70266 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/706 , G03F7/70891 , G06F17/50
摘要： Methods are disclosed for calibrating a photolithographic system comprising a lens for imaging a reticle design on a substrate. A substrate contour for the reticle design with the lens being maintained within a nominal operation temperature range, called cold lens contour, and at least one substrate heated by light transmission, called hot lens contour, are generated from which a process window is defined. Aberrations induced by a lens manipulator are characterized in a manipulator model and the process window is optimized using the manipulator model. Aberrations are characterized by identifying variations in critical dimensions caused by lens manipulation for a plurality of manipulator settings and by modeling behavior of the manipulator as a relationship between manipulator settings and aberrations. The process window may be optimized by minimizing a cost function for a set of critical locations.
摘要翻译：公开了用于校准光刻系统的方法，该光刻系统包括用于对基板上的掩模版设计进行成像的透镜。用于掩模版设计的基板轮廓，其中透镜被保持在称为冷透镜轮廓的标称操作温度范围内，并且生成称为热透镜轮廓的由光透射加热的至少一个基板，从该光栅轮廓定义了工艺窗口。由透镜操纵器诱导的畸变在机械手模型中表征，并且使用机械手模型优化过程窗口。像差的特征在于识别由多个操纵器设置的透镜操纵引起的关键尺寸的变化，以及通过将操纵器的行为建模为机械手设置和像差之间的关系。可以通过最小化一组关键位置的成本函数来优化过程窗口。

2. 发明申请

WO2008036827A2 METHOD FOR GENERATING A DESIGN RULE MAP HAVING SPATIALLY VARYING OVERLAY BUDGET 审中-公开
标题翻译：用于生成具有空间变化的覆盖预算的设计规则地图的方法
公开(公告)号：WO2008036827A2
公开(公告)日：2008-03-27
申请号：PCT/US2007/079053
申请日：2007-09-20
申请人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION , ADEL, Michael , CHANG, Ellis
发明人： ADEL, Michael , CHANG, Ellis
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70533
摘要： The invention is a method for generating a design rule map having a spatially varying overlay error budget. Additionally, the spatially varying overlay error budget can be employed to determine if wafers are fabricated in compliance with specifications. In one approach a design data file that contains fabrication process information and reticle information is processed using design rules to obtain a design map with a spatially varying overlay error budget that defines a localized tolerance to overlay errors for different spatial locations on the design map. This spatially varying overlay error budget can be used to disposition wafers. For example, overlay information obtained from measured metrology targets on a fabricated wafer are compared with the spatially varying overlay error budget to determine if the wafer overlay satisfies the required specification.
摘要翻译：本发明是一种用于生成具有空间变化的重叠误差预算的设计规则图的方法。此外，可以采用空间上可变的重叠误差预算来确定晶片是否符合规格制造。在一种方法中，使用设计规则处理包含制造过程信息和掩模版信息的设计数据文件，以获得具有空间上变化的重叠误差预算的设计图，该设计图定义了设计图上不同空间位置的重叠误差的局部容差。这种空间上可变的重叠误差预算可用于配置晶片。例如，将从制造的晶片上的测量的测量目标获得的覆盖信息与空间上变化的重叠误差预算进行比较，以确定晶片覆盖是否满足要求的规范。

3. 发明申请

WO2007066700A1 レーザ光源装置、並びに露光方法及び装置审中-公开
标题翻译：激光光源装置，曝光方法和装置
公开(公告)号：WO2007066700A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/JP2006/324387
申请日：2006-12-06
申请人：株式会社ニコン , 土岐剛史
发明人：土岐剛史
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01S3/134
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70533 , H01S3/10069 , H01S3/1394 , H01S3/225
摘要：　露光装置本体側の情報をレーザ光源装置側で有効に活用する。ウエハを露光する露光装置本体部（２０）のためにレーザ光（ＬＢ）を供給するレーザ光源装置（１６）であって、露光装置本体部（２０）から供給される露光動作に関する露光情報（ＥＩ）に基づいて、レーザ光源装置（１６）の運転条件を調整する制御部（１２）を備えた。その露光情報（ＥＩ）の一例は、発光開始までの待機時間又は発光継続時間に関する情報であり、その運転条件の一例は、レーザ光を発光する放電チャンバ（１）内のガス圧、放電チャンバ（１）内の温度、及び放電チャンバ（１）内のブロア（４）の回転数である。
摘要翻译：可以有效地利用激光光源装置侧的曝光装置主体侧的信息。激光光源装置（16）将曝光晶片的激光束（LB）供应到曝光装置主体（20）。激光光源装置（16）包括控制单元（12），用于根据从曝光装置主体（20）提供的曝光操作的曝光信息（EI）来调节激光光源装置（16）的操作状态。曝光信息（EI）的示例是关于发光开始或发光持续时间之前的等待时间的信息，并且操作条件的示例是发射激光束的放电室（1）中的气体压力，温度排出室（1）和排气室（1）中的鼓风机（4）的转速。

4. 发明申请

WO2006118189A1 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2006118189A1
公开(公告)日：2006-11-09
申请号：PCT/JP2006/308825
申请日：2006-04-27
申请人：株式会社ニコン , 木田佳己
发明人：木田佳己
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70533
摘要：　露光方法は、光学系ＰＬ内における露光光ＥＬの所定の光路空間に液体を満たすか、または満たされている液体ＬＱを交換する第１ステップと、光路空間に満たされたまたは交換された液体ＬＱを介して所定数の基板Ｐを順次露光する第２ステップと、第２ステップ終了後、第１ステップからの経過時間に応じて、光路空間に満たされている液体ＬＱを交換するか否かを判断する第３ステップとを有する。光路空間に満たされる液体を所望状態にして、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる。
摘要翻译：曝光方法具有将液体放置在用于光学系统（PL）中的曝光光（EL）的预定光路空间中或者替换放置在该空间中的液体（LQ）的第一步骤; 通过放置在光路空间中的液体（LQ）或通过更换的液体顺序曝光预定数量的基板（P）的第二步骤; 以及第三步骤，在第二步骤完成之后并且根据第一步骤之后的经过时间确定是否更换放置在光路空间中的液体（LQ）。曝光处理和测量处理可以通过放置在保持在期望条件下的光路空间中的液体来进行。

5. 发明申请

WO2004034448A1 露光装置、露光システム、レシピ生成システムおよびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光系统，配件生成系统和装置制造方法
公开(公告)号：WO2004034448A1
公开(公告)日：2004-04-22
申请号：PCT/JP2003/012913
申请日：2003-10-08
申请人：株式会社ニコン , 株式会社ニコンシステム , 鈴木博之 , 中井満博 , 平岡明
发明人：鈴木博之 , 中井満博 , 平岡明
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70533 , G03F7/70433
摘要：このレシピ生成システムは、露光装置のレシピデータを作成するシステムであって、レチクル設計情報データを上位のシステムからオンラインによって取得する上位システム連携手段と、前記レチクル設計情報システムに基づいてレシピデータを生成するレシピ生成手段とを備える。
摘要翻译：配方生成系统是用于生成曝光装置配方数据的系统，包括用于通过在线节点从上位节点系统取得标线设计信息数据的上位系统联动装置，以及根据标线设计信息系统生成食谱数据的食谱生成装置。

6. 发明申请

WO2017102283A1 PROCESS FLAGGING AND CLUSTER DETECTION WITHOUT REQUIRING RECONSTRUCTION 审中-公开
标题翻译：过程标记和聚类检测，无需重建
公开(公告)号：WO2017102283A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/078762
申请日：2016-11-25
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： DIRKS, Remco , MOSSAVAT, Seyed Iman , CRAMER, Hugo, Augustinus, Joseph
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70508 , G03F7/70533 , G03F7/70633 , G03F7/70641 , G06F17/5081
摘要： Disclosed herein is a method comprising: determining, using a computer, one or more statistical features from data obtained from a lithography process, a lithography apparatus, a substrate processed by the lithography process or the lithography apparatus; wherein determining the statistical features does not comprise reconstructing a characteristic of the lithography process, of the lithography apparatus, or of the substrate.
摘要翻译：这里公开的是一种方法，包括：使用计算机从由光刻工艺，光刻设备，由光刻工艺或光刻设备处理的衬底获得的数据确定一个或多个统计特征; 其中确定所述统计特征不包括重构所述光刻过程，所述光刻设备或所述衬底的特性。

7. 发明申请

WO2013160123A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING AN ACTUATOR, AND METHOD FOR PROTECTING SUCH ACTUATOR 审中-公开
标题翻译：包括执行器的平面设备和用于保护执行器的方法
公开(公告)号：WO2013160123A1
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：PCT/EP2013/057659
申请日：2013-04-12
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： CADEE, Theodorus, Petrus, Maria , BROERS, Sander, Christiaan , HOL, Sven, Antoin, Johan , HUANG, Yang-Shan , DE GROOT, Antonius, Franciscus, Johannes , VAN DE VEN, Bastiaan, Lambertus, Wilhelmus, Marinus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70766 , G03F7/70533 , G03F7/70758 , G03F7/709
摘要： A lithographic apparatus comprises a system. The system comprises a first part (208), a second part (204) and an energy absorbing element (210). The second part is configured to move relatively to the first part. The system has a gap (216) located between the first part and the second part during an operation mode of the system. The energy absorbing element is for absorbing energy between the first part and the second part when the first part and the second part crash onto each other in a failure mode of the system. The energy absorbing element is outside the gap.
摘要翻译：光刻设备包括一个系统。该系统包括第一部分（208），第二部分（204）和能量吸收元件（210）。第二部分被配置为相对于第一部分移动。该系统在系统的操作模式期间具有位于第一部分和第二部分之间的间隙（216）。当第一部分和第二部分在系统的故障模式下彼此碰撞时，能量吸收元件用于在第一部分和第二部分之间吸收能量。能量吸收元件在间隙之外。

8. 发明申请

WO2007020890A1 描画装置、露光装置、および描画方法审中-公开
标题翻译：绘图装置，曝光装置和绘图方法
公开(公告)号：WO2007020890A1
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：PCT/JP2006/315941
申请日：2006-08-11
申请人：富士フイルム株式会社 , 福井隆史 , 武者野満 , 中谷大輔
发明人：福井隆史 , 武者野満 , 中谷大輔
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70291 , G03F7/70533 , G03F7/70775 , H05K3/0008 , H05K3/0082 , H05K3/1241 , H05K2203/163
摘要：　本発明は描画装置を提供する。描画コンポーネントは、ステージ及び描画ヘッドを備え、前記描画ヘッドはステージに支持された記録媒体に描画する。移動コンポーネントは、前記ステージと前記描画ヘッドとを相対移動させる。位置検出コンポーネントは、前記ステージと前記描画ヘッドとの相対位置を検出する。異常検出コンポーネントは、前記記録媒体に異常な描画が行われる異常状態を検出する。コントローラは、前記異常状態が検出された場合に、前記描画ヘッドによる描画を停止し、前記相対位置を停止位置より描画開始側の位置に戻し、前記停止位置を含む所定範囲内の位置から描画が再開されるように、制御する。
摘要翻译：提供绘图装置。绘图组件包括舞台和绘图头。绘图头在舞台支持的记录介质上执行绘图。移动组件相对移动舞台和绘图头。位置检测部件检测舞台和绘图头的相对位置。当在记录介质上执行异常绘图时，错误检测组件检测异常状态。当检测到异常状态时，控制器通过绘图头停止绘图，并将相对位置从停止位置返回到绘图起始侧的位置，从而可以从包括停止位置的预定范围内的位置恢复绘图。

9. 发明申请

WO2005053007A1 露光方法及びデバイス製造方法、露光装置、並びにプログラム审中-公开
标题翻译：曝光方法，装置制造方法，曝光装置和程序
公开(公告)号：WO2005053007A1
公开(公告)日：2005-06-09
申请号：PCT/JP2004/017447
申请日：2004-11-25
申请人：株式会社ニコン , 川久保昌治 , 金谷有歩 , 中川智晶 , 菊地貴久 , 秋月正彦
发明人：川久保昌治 , 金谷有歩 , 中川智晶 , 菊地貴久 , 秋月正彦
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70633
摘要：　ウエハ上の複数のサンプルショットの位置情報の実測値を用いて統計演算によりウエハ上の各ショットの位置情報（位置ずれ量の線形成分が補正された推定値）を算出する（ステップ４８８）。また、サンプルショットを含む複数の計測ショットのそれぞれについて、所定のインターバルで、位置ずれ量の非線形成分の変動量を算出し（ステップ４９６）、算出された各計測ショットの非線形成分の変動量の大きさに基づいて補正情報の更新の必要性の有無を判断する（ステップ４９８）。このため、補正値を更新するために、ロット毎に少なくとも1回ウエハ上の全ショットの位置情報の実測値を求める場合に比べて、位置情報の計測の対象となるショット数及びその計測時間を確実に低減できる。
摘要翻译：通过在晶片上的多个采样拍摄中使用位置信息的实际测量值，统计计算晶片上每次拍摄的位置信息（校正位置偏移量的线性分量的估计值）（步骤488）。此外，对于包括样本拍摄的每个测量拍摄，以预定间隔计算位置偏移量的非线性分量的变动量（步骤496）。根据计算出的每个测量镜头的非线性分量波动量，判断是否需要更新校正信息（步骤498）。因此，由于校正值被更新，与获得晶片上的所有拍摄位置信息的情况相比，可以可靠地减少要进行位置信息测量的拍摄张数和测量所需的时间每批至少一次。

10. 发明申请

WO2004099874A1 パターン決定方法及びシステム、マスクの製造方法、結像性能調整方法、露光方法及び装置、並びにプログラム及び情報記録媒体审中-公开
标题翻译：模式决策方法与系统，屏蔽制造方法，聚焦性能调整方法，曝光方法和装置，程序和信息记录介质
公开(公告)号：WO2004099874A1
公开(公告)日：2004-11-18
申请号：PCT/JP2004/005481
申请日：2004-04-16
申请人：株式会社ニコン , 蛭川茂
发明人：蛭川茂
IPC分类号： G03F1/08
CPC分类号： G03F7/70533 , G03F7/70258 , G03F7/70641
摘要：　所定露光条件下における調整装置の調整情報及びこれに対応する前記投影光学系の結像性能の情報、パターンの補正情報及び結像性能の許容範囲の情報等に基づき、パターンを補正した目標露光条件下での適正調整量を、露光装置毎に算出する工程（ステップ１１４～１１８）と、算出された各露光装置の適正調整量に従う調整装置の調整の結果、目標露光条件下で、少なくとも1台の露光装置で許容範囲外となる結像性能がある場合、その結像性能に基づき、所定の基準に従って前記補正情報を設定する工程（ステップ１２０、１２４、１２６）と、を、全ての装置の結像性能が許容範囲内となるまで繰り返す。そして、許容範囲内となったとき、設定されている補正情報を、パターンの補正情報として決定する（ステップ１３８）。
摘要翻译：根据预定曝光条件下的调节装置的调整信息，关于投影光学系统的对应聚焦性能的信息，图案校正信息，聚焦性能允许范围信息等，在目标曝光条件下的适当调整量对于每个曝光装置计算已经校正的图案（步骤114至118）。根据所计算的每个曝光装置的适当调节量调整调节装置的结果，如果至少一个曝光装置在目标曝光条件下具有超出允许范围的聚焦性能，则根据预定的设定基于聚焦性能的参考（步骤120,124,126）。重复上述步骤114至118,120,124和126，直到所有设备的聚焦性能都在允许范围内。当全部在允许范围内时，已经设置的校正信息被确定为模式校正信息（步骤138）。

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