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1. 发明授权

US08431330B2 Surface-treating agent for pattern formation and pattern-forming method using the surface-treating agent 有权
标题翻译：用于图案形成的表面处理剂和使用表面处理剂的图案形成方法
公开(公告)号：US08431330B2
公开(公告)日：2013-04-30
申请号：US13307813
申请日：2011-11-30
申请人： Wataru Hoshino , Hideaki Tsubaki , Masahiro Yoshidome
发明人： Wataru Hoshino , Hideaki Tsubaki , Masahiro Yoshidome
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0035 , G03F7/11 , G03F7/40 , Y10T428/24802
摘要： A surface-treating agent for forming a resist pattern, includes: a compound represented by formula (1) as defined in the specification, wherein the surface-treating agent is used in a step between a formation of a first resist pattern on a first resist film and a formation of a second resist film on the first resist pattern to form a second resist pattern, and a pattern-forming method uses the surface-treating agent.
摘要翻译：用于形成抗蚀剂图案的表面处理剂包括：如说明书中所定义的由式（1）表示的化合物，其中所述表面处理剂用于在第一抗蚀剂上形成第一抗蚀剂图案之间的步骤膜和第一抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂膜以形成第二抗蚀剂图案，并且图案形成方法使用表面处理剂。

2. 发明申请

US20120076991A1 SURFACE-TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SURFACE-TREATING AGENT 有权
标题翻译：使用表面处理剂的图案形成和图案形成方法的表面处理剂
公开(公告)号：US20120076991A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：US13307813
申请日：2011-11-30
申请人： Wataru HOSHINO , Hideaki Tsubaki , Masahiro Yoshidome
发明人： Wataru HOSHINO , Hideaki Tsubaki , Masahiro Yoshidome
IPC分类号： B32B3/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0035 , G03F7/11 , G03F7/40 , Y10T428/24802
摘要： A surface-treating agent for forming a resist pattern, includes: a compound represented by formula (1) as defined in the specification, wherein the surface-treating agent is used in a step between a formation of a first resist pattern on a first resist film and a formation of a second resist film on the first resist pattern to form a second resist pattern, and a pattern-forming method uses the surface-treating agent.
摘要翻译：用于形成抗蚀剂图案的表面处理剂包括：如说明书中所定义的由式（1）表示的化合物，其中所述表面处理剂用于在第一抗蚀剂上形成第一抗蚀剂图案之间的步骤膜和第一抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂膜以形成第二抗蚀剂图案，并且图案形成方法使用表面处理剂。

3. 发明授权

US08088566B2 Surface-treating agent for pattern formation and pattern-forming method using the surface-treating agent 有权
标题翻译：用于图案形成的表面处理剂和使用表面处理剂的图案形成方法
公开(公告)号：US08088566B2
公开(公告)日：2012-01-03
申请号：US12053653
申请日：2008-03-24
申请人： Wataru Hoshino , Hideaki Tsubaki , Masahiro Yoshidome
发明人： Wataru Hoshino , Hideaki Tsubaki , Masahiro Yoshidome
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0035 , G03F7/11 , G03F7/40 , Y10T428/24802
摘要： A surface-treating agent for forming a resist pattern, includes: a compound represented by formula (1) as defined in the specification, wherein the surface-treating agent is used in a step between a formation of a first resist pattern on a first resist film and a formation of a second resist film on the first resist pattern to form a second resist pattern, and a pattern-forming method uses the surface-treating agent.
摘要翻译：用于形成抗蚀剂图案的表面处理剂包括：如说明书中所定义的由式（1）表示的化合物，其中所述表面处理剂用于在第一抗蚀剂上形成第一抗蚀剂图案之间的步骤膜和第一抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂膜以形成第二抗蚀剂图案，并且图案形成方法使用表面处理剂。

4. 发明申请

US20100203445A1 NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：使用它的负极性组合物和电阻图案形成方法
公开(公告)号：US20100203445A1
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：US12679974
申请日：2008-09-22
申请人： Wataru Hoshino , Masahiro Yoshidome
发明人： Wataru Hoshino , Masahiro Yoshidome
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/038 , C08F220/24 , C08F230/08 , C08F2220/1833 , C08F2220/283 , G03F7/0045
摘要： An object of the present invention is to solve the technical task of enhancing the performance in micro-photofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser at a wavelength of 193 nm, and more specifically, provide a negative resist composition hardly allowing occurrence of pattern collapse and exhibiting good resolution even in the formation of a fine pattern, and a resist pattern forming method using the composition, which are a negative resist composition comprising (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound that contains a low molecular compound having a molecular weight of 2,000 or less and having an oxetane structure, and (C) a cationic photopolymerization initiator, and a resist pattern forming method using the composition.
摘要翻译：本发明的目的是解决使用远紫外光，特别是波长193nm的ArF准分子激光器来提高微光制造性能的技术任务，更具体地说，提供几乎不发生图案的负光刻胶组合物崩溃并且即使形成精细图案也表现出良好的分辨率，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法，该抗蚀剂图案形成方法是含有（A）碱溶性树脂的负型抗蚀剂组合物，（B）含有低分子量的化合物分子量为2,000以下且具有氧杂环丁烷结构的化合物，（C）阳离子光聚合引发剂，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。

5. 发明授权

US08802349B2 Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film and pattern forming method using the composition 有权
标题翻译：光敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜和图案形成方法使用该组合物
公开(公告)号：US08802349B2
公开(公告)日：2014-08-12
申请号：US13258898
申请日：2010-03-31
申请人： Masahiro Yoshidome , Shuji Hirano , Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Yusuke Iizuka
发明人： Masahiro Yoshidome , Shuji Hirano , Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Yusuke Iizuka
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/38 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/38 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing (a) a repeating unit represented by the following formula (AN-01), (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin that contains at least either a fluorine atom or a silicon atom and contains a repeating unit having a group capable of decomposing by the action of an alkali developer to increase the solubility in an alkali developer: wherein the variables in formula (AN-01) are defined in the description.
摘要翻译：本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，所述树脂含有（a）由下式表示的重复单元（AN-01），（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，和（C）含有至少一个氟原子或硅原子的树脂，并且含有具有能够通过碱显影剂的作用分解以提高在碱性显影剂中的溶解度的组：其中式（AN-01）中的变量在说明书中定义。

6. 发明申请

US20120015301A1 ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和耐蚀膜和使用组合物的图案形成方法
公开(公告)号：US20120015301A1
公开(公告)日：2012-01-19
申请号：US13258898
申请日：2010-03-31
申请人： Masahiro Yoshidome , Shuji Hirano , Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Yusuke Iizuka
发明人： Masahiro Yoshidome , Shuji Hirano , Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Yusuke Iizuka
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/075 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/38 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing (a) a repeating unit represented by the following formula (AN-01), (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin that contains at least either a fluorine atom or a silicon atom and contains a repeating unit having a group capable of decomposing by the action of an alkali developer to increase the solubility in an alkali developer: wherein the variables in formula (AN-01) are defined in the description.
摘要翻译：本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，所述树脂含有（a）由下式表示的重复单元（AN-01），（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，和（C）含有至少一个氟原子或硅原子的树脂，并且含有具有能够通过碱显影剂的作用分解以提高在碱性显影剂中的溶解度的组：其中式（AN-01）中的变量在说明书中定义。

7. 发明申请

US20100183978A1 SURFACE-TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE TREATING AGENT 审中-公开
标题翻译：使用处理剂的图案形成和图案形成方法的表面处理剂
公开(公告)号：US20100183978A1
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：US12664570
申请日：2008-06-13
申请人： Masahiro Yoshidome
发明人： Masahiro Yoshidome
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00
CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/2041 , G03F7/405
摘要： There are provided a surface-treating agent containing a specific compound having an amino group and an aromatic ring as a surface-treating agent for a freezing process for chemically treating a first resist pattern used in a freezing process of chemically treating and thereby qualitatively changing the first resist pattern so as not to dissolve in a second resist solution in order to form a second resist film on the first resist pattern and form a second resist pattern after the first resist pattern is formed on a first resist film, wherein the surface-treating agent performs a chemical treatment on the first resist pattern to satisfy the requirements that the first resist pattern does not dissolve in the second resist solution, the dimension of the first resist pattern is not changed, and the first resist pattern and the second resist pattern have the same dry etching resistance; and a pattern forming method using the surface-treating agent.
摘要翻译：提供了含有具有氨基和芳香环的特定化合物的表面处理剂，作为用于化学处理在化学处理的冷冻过程中使用的第一抗蚀剂图案的冷冻方法的表面处理剂，从而定性地改变第一抗蚀剂图案，以便不在第二抗蚀剂溶液中溶解，以便在第一抗蚀剂图案上形成第一抗蚀剂图案之后，在第一抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂图案，其中表面处理试剂对第一抗蚀剂图案进行化学处理以满足第一抗蚀剂图案不溶于第二抗蚀剂溶液的要求，第一抗蚀剂图案的尺寸不改变，并且第一抗蚀剂图案和第二抗蚀剂图案具有相同的耐蚀刻性; 以及使用表面处理剂的图案形成方法。

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