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1. 发明授权

US08808961B2 Composition, resist film, pattern forming method, and inkjet recording method 有权
标题翻译：组合物，抗蚀剂膜，图案形成方法和喷墨记录方法
公开(公告)号：US08808961B2
公开(公告)日：2014-08-19
申请号：US12914762
申请日：2010-10-28
申请人： Tomotaka Tsuchimura , Takeshi Kawabata , Takayuki Ito
发明人： Tomotaka Tsuchimura , Takeshi Kawabata , Takayuki Ito
IPC分类号： G03F7/00 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07C233/00 , B41J2/01 , C07D317/14 , G03F7/038 , C07D405/12 , C07D317/72 , G03F7/039 , G03F7/004 , C07D317/58 , C07D319/06 , G03F7/20
CPC分类号： C07D317/14 , C07C311/48 , C07D317/58 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D405/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
摘要： An embodiment of the composition contains any of compounds of the formula A-LG in which A represents any of residues of general formula (A-1) below and LG represents any of groups that are cleaved to generate acids of the formula A-H when acted on by an acid. The composition further contains at least one of a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation and a compound that generates an acid when heated.
摘要翻译：组合物的一个实施方案包含式A-LG的任何化合物，其中A表示下述通式（A-1）中的任何残基，LG表示当作用时被切割以产生式AH的酸的任何基团通过酸。组合物还含有当暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物和加热时产生酸的化合物中的至少一种。

2. 发明授权

US08962233B2 Actinic-ray—or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition 有权
标题翻译：光化学射线或辐射敏感性树脂组合物和使用该组合物形成图案的方法
公开(公告)号：US08962233B2
公开(公告)日：2015-02-24
申请号：US13015874
申请日：2011-01-28
申请人： Takeshi Kawabata , Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito
发明人： Takeshi Kawabata , Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/30
CPC分类号： C07C309/31 , C07D327/08 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/20
摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes an arylsulfonium salt that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, the arylsulfonium salt containing at least one aryl ring on which there are a total of one or more electron donating groups, the acid generated upon exposure to actinic rays or radiation having a volume of 240 Å3 or greater.
摘要翻译：根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括芳基锍盐，其当暴露于光化射线或辐射时产生酸，所述芳基锍盐含有至少一个芳基环，其上总共有一个或更多的给电子基团，暴露于光化射线时产生的酸或体积为240埃或更大的辐射。

3. 发明申请

US20110189609A1 ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION 有权
标题翻译：丙酰胺或辐射敏感性树脂组合物和使用组合物形成图案的方法
公开(公告)号：US20110189609A1
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：US13015874
申请日：2011-01-28
申请人： Takeshi Kawabata , Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito
发明人： Takeshi Kawabata , Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , C07C309/31 , C07D327/08 , C07D333/76
CPC分类号： C07C309/31 , C07D327/08 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/20
摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes an arylsulfonium salt that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, the arylsulfonium salt containing at least one aryl ring on which there are a total of one or more electron donating groups, the acid generated upon exposure to actinic rays or radiation having a volume of 240 Å3 or greater.
摘要翻译：根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括芳基锍盐，其当暴露于光化射线或辐射时产生酸，所述芳基锍盐含有至少一个芳基环，其上总共有一个或更多的给电子基团，暴露于光化射线时产生的酸或体积为240埃或更大的辐射。

4. 发明申请

US20110102528A1 COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND INKJET RECORDING METHOD 有权
标题翻译：组合物，电阻膜，图案形成方法和喷墨记录方法
公开(公告)号：US20110102528A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：US12914762
申请日：2010-10-28
申请人： Tomotaka TSUCHIMURA , Takeshi Kawabata , Takayuki Ito
发明人： Tomotaka TSUCHIMURA , Takeshi Kawabata , Takayuki Ito
IPC分类号： B41J2/01 , G03F7/004 , G03F7/20 , C07D317/14 , C07D405/12 , C07D317/72 , C07C311/09 , C07D319/06 , C07D317/58
CPC分类号： C07D317/14 , C07C311/48 , C07D317/58 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D405/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
摘要： An embodiment of the composition contains any of compounds of the formula A-LG in which A represents any of residues of general formula (A-1) below and LG represents any of groups that are cleaved to generate acids of the formula A-H when acted on by an acid. The composition further contains at least one of a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation and a compound that generates an acid when heated.
摘要翻译：组合物的一个实施方案包含式A-LG的任何化合物，其中A表示下述通式（A-1）中的任何残基，LG表示当作用时被切割以产生式AH的酸的任何基团通过酸。组合物还含有当暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物和加热时产生酸的化合物中的至少一种。

5. 发明授权

US08940471B2 Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition 有权
标题翻译：光化学射线或辐射敏感性树脂组合物和使用该组合物形成图案的方法
公开(公告)号：US08940471B2
公开(公告)日：2015-01-27
申请号：US12895300
申请日：2010-09-30
申请人： Takeshi Kawabata , Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito
发明人： Takeshi Kawabata , Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/028 , G03F7/0397 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/126
摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates any of acids of general formula (I) below, in which W1 represents an optionally substituted alkylene group, W2 represents a bivalent connecting group, W3 represents an optionally substituted organic group having 15 or more carbon atoms, and Z represents a hydroxyl group or a fluoroalkylsulfonamido group having at least one fluorine atom introduced therein as a substituent.
摘要翻译：根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括当暴露于光化射线或辐射时产生下列通式（I）的任何酸的化合物，其中W 1表示任选取代的亚烷基， W2表示二价连接基团，W3表示具有15个或更多个碳原子的任选取代的有机基团，Z表示其中引入有至少一个氟原子的羟基或氟烷基亚磺酰氨基作为取代基。

6. 发明申请

US20110076615A1 ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION 有权
标题翻译：丙酰胺或辐射敏感性树脂组合物和使用组合物形成图案的方法
公开(公告)号：US20110076615A1
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：US12895300
申请日：2010-09-30
申请人： Takeshi KAWABATA , Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito
发明人： Takeshi KAWABATA , Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/028 , G03F7/0397 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/126
摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates any of acids of general formula (I) below, in which W1 represents an optionally substituted alkylene group, W2 represents a bivalent connecting group, W3 represents an optionally substituted organic group having 15 or more carbon atoms, and Z represents a hydroxyl group or a fluoroalkylsulfonamido group having at least one fluorine atom introduced therein as a substituent.
摘要翻译：根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括当暴露于光化射线或辐射时产生下列通式（I）的任何酸的化合物，其中W 1表示任选取代的亚烷基， W2表示二价连接基团，W3表示具有15个或更多个碳原子的任选取代的有机基团，Z表示其中引入有至少一个氟原子的羟基或氟烷基亚磺酰氨基作为取代基。

7. 发明申请

US20120100481A1 ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：US20120100481A1
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：US13381683
申请日：2010-07-28
申请人： Takayuki Ito , Tomotaka Tsuchimura , Takeshi Kawabata
发明人： Takayuki Ito , Tomotaka Tsuchimura , Takeshi Kawabata
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/027 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, including: (1) a low molecular compound having a molecular weight of 500 to 5,000 and containing (G) an acid-decomposable group; and (2) a compound capable of generating an acid of 305 Å3 or more in volume upon irradiation with an actinic ray or radiation, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, including: a solvent; and (1A) a compound which is a low molecular compound having a molecular weight of 500 to 5,000 and containing (Z) one or more groups capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to produce an acid, (G) one or more acid-decomposable groups and (S) one or more dissolution auxiliary groups, wherein assuming that the number of the functional groups in one molecule of (Z), (G) and (S) is z, q and s, respectively, q/z≧2 and s/z≧2, and a pattern forming method using the composition are provided.
摘要翻译：一种光化射线敏感或辐射敏感性组合物，包括：（1）分子量为500〜5000的低分子化合物，含有（G）酸分解基团; 和（2）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生体积为305或更大的酸的化合物，光化射线敏感或辐射敏感组合物，包括：溶剂; 和（1A）分子量为500〜5000的低分子化合物的化合物，含有（Z）一种或多种能够在用光化学射线或辐射照射时分解产生酸的基团，（G）一种或多种更多的酸可分解基团和（S）一种或多种溶解辅助基团，其中假定（Z），（G）和（S）的一个分子中的官能团数分别为z，q和s，q /z≥2且s /z≥2，并且提供使用该组合物的图案形成方法。

8. 发明授权

US08895222B2 Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film and pattern forming method using the composition 有权
标题翻译：光敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜和图案形成方法使用该组合物
公开(公告)号：US08895222B2
公开(公告)日：2014-11-25
申请号：US12729336
申请日：2010-03-23
申请人： Tomotaka Tsuchimura , Hidenori Takahashi , Takayuki Ito , Takeshi Inasaki , Shohei Kataoka
发明人： Tomotaka Tsuchimura , Hidenori Takahashi , Takayuki Ito , Takeshi Inasaki , Shohei Kataoka
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/029 , G03F7/039 , G03F7/20 , C08F224/00
CPC分类号： C08F224/00 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F12/30 , C08F12/32 , C08F212/14 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/029 , G03F7/0392 , G03F7/2037 , Y10S430/122 , C08F220/16 , C08F212/32 , C08F2220/1883 , C08F2220/1825
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin which contains (A) a repeating unit having an ionic structure moiety capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein a cation moiety of the ionic structure moiety has an acid-decomposable group or an alkali-decomposable group.
摘要翻译：本发明提供一种光活性射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）树脂，该树脂含有（A）具有离子结构部分的重复单元，该离子结构部分能够在照射光化学射线或辐射时在侧链上产生酸性阴离子，其中所述离子结构部分的阳离子部分具有酸可分解基团或碱可分解基团。

9. 发明申请

US20120244472A1 ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, FILM FORMED USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用组合物形成的膜和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：US20120244472A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：US13512633
申请日：2010-11-30
申请人： Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito , Toru Fujimori , Kana Fujii
发明人： Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito , Toru Fujimori , Kana Fujii
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/0045 , C09B69/101 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/091
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (A) a specific compound represented by a general formula, (B) a resin which is alkali-insoluble or sparingly alkali-soluble and becomes easily alkali-soluble in the presence of an acid, and (C) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; a film formed using the composition; and a pattern forming method using the same.
摘要翻译：本发明提供一种光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）由通式表示的特定化合物，（B）在碱存在下碱不溶性或微溶碱性并易于碱溶解的树脂的酸，和（C）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; 使用该组合物形成的膜; 以及使用该图案形成方法的图案形成方法。

10. 发明授权

US08741542B2 Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, film formed using the composition and pattern forming method using the same 有权
标题翻译：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，使用其组合物和图案形成方法形成的膜
公开(公告)号：US08741542B2
公开(公告)日：2014-06-03
申请号：US13512633
申请日：2010-11-30
申请人： Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito , Toru Fujimori , Kana Fujii
发明人： Tomotaka Tsuchimura , Takayuki Ito , Toru Fujimori , Kana Fujii
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/039 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/0045 , C09B69/101 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/091
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (A) a specific compound represented by a general formula, (B) a resin which is alkali-insoluble or sparingly alkali-soluble and becomes easily alkali-soluble in the presence of an acid, and (C) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; a film formed using the composition; and a pattern forming method using the same.
摘要翻译：本发明提供一种光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）由通式表示的特定化合物，（B）在碱存在下碱不溶性或微溶碱性并易于碱溶解的树脂的酸，和（C）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; 使用该组合物形成的膜; 以及使用该图案形成方法的图案形成方法。

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