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1. 发明申请

US20100324295A1 PROCESS FOR THE PRODUCTION OF SUBSTITUTED 5-QUINOLYL-OXAZOLES AND PHARMACEUTICALLY ACCEPTABLE SALTS THEREOF 审中-公开
标题翻译：生产取代的5-喹啉酮和其药学上可接受的盐的方法
公开(公告)号：US20100324295A1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：US12668192
申请日：2008-07-03
申请人： Timothy D. Cutarelli , Dimitar L. Filipov , Christopher Stanley Pridgen , Michael R. Reeder , Kelvin H. Yong , Dimitrios N. Zarkadas
发明人： Timothy D. Cutarelli , Dimitar L. Filipov , Christopher Stanley Pridgen , Michael R. Reeder , Kelvin H. Yong , Dimitrios N. Zarkadas
IPC分类号： C07D413/14 , C07D413/02
CPC分类号： C07D413/04 , C07D413/14
摘要： The present invention relates a process for the preparation of a compound of the formula: wherein R1, R2, R6, R9 and R10 are as described herein. The compounds are inhibitors of phosphodiesterase 4 (PDE4).
摘要翻译：本发明涉及制备下式化合物的方法：其中R 1，R 2，R 6，R 9和R 10如本文所述。这些化合物是磷酸二酯酶4（PDE4）的抑制剂。

2. 发明授权

US07919505B2 Xinafoate salt of a substituted 5-oxazol-2-yl-quinoline compound 失效
标题翻译：取代的5-恶唑-2-基 - 喹啉化合物的新叶酸盐
公开(公告)号：US07919505B2
公开(公告)日：2011-04-05
申请号：US11775383
申请日：2007-07-10
申请人： Pauline C. Ting , Joe F. Lee , Kung-I Feng , Michael R. Reeder , Scott T. Trzaska , Man Zhu , Chen Mao , Dimitar L. Filipov , Dimitrios N. Zarkadas
发明人： Pauline C. Ting , Joe F. Lee , Kung-I Feng , Michael R. Reeder , Scott T. Trzaska , Man Zhu , Chen Mao , Dimitar L. Filipov , Dimitrios N. Zarkadas
IPC分类号： C07D215/38 , A61K31/04
CPC分类号： C07D413/14
摘要： The present invention relates to the compound of the formula To methods of treating upper and lower obstructive airway diseases using said compound, to formulations comprising it, and to polymorphs and processes of synthesis of the polymorphic forms.
摘要翻译：本发明涉及式的化合物：使用所述化合物，包含它的制剂治疗上下阻塞性气道疾病的方法以及多晶型物和多晶型物合成方法。

3. 发明授权

US07985860B2 Process and intermediates for the synthesis of 2-(quinolin-5-yl)-4,5 disubstituted-azole derivatives 失效
标题翻译：用于合成2-（喹啉-5-基）-4,5二取代 - 唑衍生物的方法和中间体
公开(公告)号：US07985860B2
公开(公告)日：2011-07-26
申请号：US11891348
申请日：2007-08-10
申请人： Timothy D. Cutarelli , Xiaoyong Fu , Timothy L. McAllister , Michael R. Reeder , Jianguo Yin , Kelvin H. Yong , Shuyi Zhang
发明人： Timothy D. Cutarelli , Xiaoyong Fu , Timothy L. McAllister , Michael R. Reeder , Jianguo Yin , Kelvin H. Yong , Shuyi Zhang
IPC分类号： C07D215/38
CPC分类号： C07D413/04 , C07C271/22 , C07D413/14
摘要： This application discloses a novel process to synthesize 2-(Quinolin-5yo)-4,5-Disubstituted-Azole derivatives, which may be used, for example, as PDE IV inhibitor compounds in pharmaceutical preparations.
摘要翻译：本申请公开了一种合成2-（喹啉-5-基）-4,5-二取代 - 唑衍生物的新方法，其可用作药物制剂中的PDE IV抑制剂化合物。

4. 发明授权

US06849750B2 Processes and intermediates for preparing benzyl epoxides 失效
标题翻译：制备苄基环氧化物的方法和中间体
公开(公告)号：US06849750B2
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：US10128122
申请日：2002-04-23
申请人： Michael R. Reeder
发明人： Michael R. Reeder
IPC分类号： C07D301/28 , C07B61/00 , C07C213/02 , C07C215/28 , C07C217/82 , C07C229/36 , C07C233/78 , C07C269/06 , C07C271/16 , C07C271/18 , C07C271/20 , C07C271/22 , C07D301/26 , C07D301/27 , C07D303/36
CPC分类号： C07D303/36 , C07D301/26
摘要： Disclosed are intermediates and processes for preparing epoxides of the formula: where R and PROT are defined herein. These epoxides are useful as intermediates in the production of biologically active compounds, i.e., in the production of pharmaceutical agents.
摘要翻译：公开了用于制备下式的环氧化物的中间体和方法：其中R和PROT在本文中定义。这些环氧化物可用作生物活性化合物的生产中的中间体，即在制药中。

5. 发明授权

US08426610B2 Intermediate compounds for the preparation of trans-5-chloro-2-methyl-2,3,3a,12b-tetrahydro-1H-dibenz[2,3:6,7]-oxepino[4,5-c]pyrrole 有权
标题翻译：用于制备反式-5-氯-2-甲基-2,3,3a，12b-四氢-1H-二苯并[2,3：6,7] - 氧杂环庚烯并[4,5-c]吡咯的中间体化合物
公开(公告)号：US08426610B2
公开(公告)日：2013-04-23
申请号：US13098688
申请日：2011-05-02
申请人： Gerardus Johannes Kemperman , Jacobus Johannes Maria Van Der Linden , Michael R. Reeder
发明人： Gerardus Johannes Kemperman , Jacobus Johannes Maria Van Der Linden , Michael R. Reeder
IPC分类号： C07D487/02 , A61K31/40
CPC分类号： C07D313/14 , C07D491/04
摘要： Disclosed are novel amino acid derivatives of formula (I) and (II) processes for the preparation thereof, and their use in the preparation of trans-5-chloro-2-methyl-2,3,3a,12b-tetrahydro-1H-dibenz[2,3:6,7]oxepino-[4,5-c]pyrrole.
摘要翻译：公开了式（I）和（II）的新型氨基酸衍生物及其制备方法及其在制备反式-5-氯-2-甲基-2,3,3a，12b-四氢-1H- 二苯并[2,3：6,7]氧杂环庚烯并[4,5-c]吡咯。

6. 发明授权

US4835118A Non-destructive energy beam activated conductive links 失效
标题翻译：非破坏性能量束激活导电连接
公开(公告)号：US4835118A
公开(公告)日：1989-05-30
申请号：US29192
申请日：1987-03-23
申请人： Robert E. Jones, Jr. , Lee Kammerdiner , Michael R. Reeder
发明人： Robert E. Jones, Jr. , Lee Kammerdiner , Michael R. Reeder
IPC分类号： H01L21/263 , H01L21/268 , H01L21/768 , H01L23/525
CPC分类号： H01L23/5254 , H01L21/2636 , H01L21/268 , H01L21/76888 , H01L2924/0002 , Y10S438/934
摘要： A process of manufacturing selectively restructurable conductive links between circuit elements and corresponding spare elements on a semiconductor. A continuous green light laser directed at a non-conductive amorphous region in the links causes the region to recrystallize. This makes the link electrically conductive thereby joining the circuit elements to a corresponding spare element on the semiconductor. The method permits for high density packing of circuit elements and creates a link without producing bulk material movement.
摘要翻译：在半导体上在电路元件和对应的备用元件之间制造选择性可重构的导电链路的过程。指向链节中的非导电非晶区域的连续绿光激光使得该区域再结晶。这使得链路导电，从而将电路元件连接到半导体上的对应备用元件。该方法允许电路元件的高密度包装并且产生连接而不产生散装材料移动。

7. 发明申请

US20100099898A1 Processes and Intermediates For Preparing Benzyle Epoxides 审中-公开
标题翻译：制备苯环氧化物的方法和中间体
公开(公告)号：US20100099898A1
公开(公告)日：2010-04-22
申请号：US12646526
申请日：2009-12-23
申请人： Michael R. Reeder
发明人： Michael R. Reeder
IPC分类号： C07C271/16 , C07D303/40 , C07C271/22 , C07C229/36 , C07C233/70 , C07C215/20 , C07C269/06 , C07C271/18 , C07C271/20 , C07C213/02 , C07C231/12
CPC分类号： C07D303/36 , C07D301/26
摘要： Disclosed are intermediates and processes for preparing epoxides of the formula: where R and PROT are defined herein. These epoxides are useful as intermediates in the production of biologically active compounds, i.e., in the production of pharmaceutical agents.
摘要翻译：公开了用于制备下式的环氧化物的中间体和方法：其中R和PROT在本文中定义。这些环氧化物可用作生物活性化合物的生产中的中间体，即在制药中。

8. 发明授权

US07115747B2 Process for preparing oxazole intermediates 失效
标题翻译：制备恶唑中间体的方法
公开(公告)号：US07115747B2
公开(公告)日：2006-10-03
申请号：US10600100
申请日：2003-06-20
申请人： Michael R. Reeder , Rick J. Imbordino
发明人： Michael R. Reeder , Rick J. Imbordino
IPC分类号： C07D263/30
CPC分类号： C07D263/32
摘要： Disclosed are compounds of formula III and a process to prepare a compound of formula III wherein R1, R2, R3 and R6 are defined herein, using a zinc chloride/optionally substituted oxazole adduct and an compound of formula I. Further disclosed are methods of using compounds of formula III to prepare compounds useful in the treatment of Alzheimer's disease and related conditions.
摘要翻译：公开了式III的化合物及其制备式III化合物的方法，其中R 1，R 2，R 3和R 3 在本文中定义，使用氯化锌/任选取代的恶唑加合物和式I化合物。进一步公开了使用式III化合物来制备可用于治疗阿尔茨海默病和相关病症的化合物的方法。

9. 发明授权

US5759876A Method of making an antifuse structure using a metal cap layer 失效
标题翻译：使用金属盖层制造反熔丝结构的方法
公开(公告)号：US5759876A
公开(公告)日：1998-06-02
申请号：US551588
申请日：1995-11-01
申请人： Scott G. Singlevich , Bradley S. Holway , Kurt D. Humphrey , Brian Scott Poarch , Michael R. Reeder , Neal J. Verzwyvelt
发明人： Scott G. Singlevich , Bradley S. Holway , Kurt D. Humphrey , Brian Scott Poarch , Michael R. Reeder , Neal J. Verzwyvelt
IPC分类号： H01L21/82 , H01L23/525 , H01L27/10
CPC分类号： H01L23/5252 , H01L2924/0002 , H01L2924/3011
摘要： An antifuse includes a metal cap layer located at the second barrier layer of the antifuse to improve the antifuse yield and long term reliability. An antifuse further includes one or more interfacial oxide film layers surrounding an antifuse dielectric layer to provide narrowing of the antifuse programming voltage distribution and to further improve the antifuse yield and long term reliability.
摘要翻译：反熔丝包括位于反熔丝的第二阻挡层处的金属盖层，以提高反熔丝产率和长期可靠性。反熔丝还包括围绕反熔丝电介质层的一个或多个界面氧化物膜层，以提供反熔丝编程电压分布变窄并进一步提高反熔丝产率和长期可靠性。

10. 发明授权

US4414057A Anisotropic silicide etching process 失效
标题翻译：各向异性硅化物蚀刻工艺
公开(公告)号：US4414057A
公开(公告)日：1983-11-08
申请号：US446597
申请日：1982-12-03
申请人： Ronald R. Bourassa , Michael R. Reeder
发明人： Ronald R. Bourassa , Michael R. Reeder
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/3065 , H01L21/3213 , H01L21/306 , B44C1/22 , C03C15/00 , C23F1/02
CPC分类号： H01L21/32137
摘要： A process is described for anisotropically etching semiconductor products which include a lower dielectric layer, an intermediate polysilicon layer, and an upper silicide layer such as titanium silicide. A pattern-defining layer will normally overlie the silicide layer to define target areas to be etched. In a first step, the silicide is etched through using Freon 115 chloro, pentafluoroethane (C.sub.2 ClF.sub.5) in a plasma etching chamber conditioned to provide a reactive ion etch. The etch is completed in the same chamber using a second gas which includes an amount of Cl.sub.2 selected to etch anisotropically through the polysilicon layer without substantially etching the dielectric layer. Preferably, both etches occur after covering inner surfaces of the etching chamber with a material which releases molecules of the character included in the pattern-defining layer, such as Kapton, a polymide, in the disclosed example.
摘要翻译：描述了各向异性蚀刻半导体产品的方法，其包括下介电层，中间多晶硅层和诸如硅化钛的上硅化物层。图案定义层通常覆盖硅化物层以限定待蚀刻的靶区域。在第一步中，通过在调节为提供反应离子蚀刻的等离子体蚀刻室中使用氟利昂115氯，五氟乙烷（C2ClF5）来蚀刻硅化物。使用第二气体在相同的室中完成蚀刻，所述第二气体包括选择的量的各向异性蚀刻通过多晶硅层的Cl2，而基本上不蚀刻介电层。优选地，在所揭示的实施例中，蚀刻室的内表面覆盖蚀刻室的内表面之后，使用释放包括在图案限定层中的字符分子的材料，例如Kapton，Polymide，发生蚀刻。

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