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    • 8. 发明授权
    • Method of measuring a deviation between a centerline between grooves and
a control prepit pattern on a disc
    • 测量凹槽之间的中心线与盘上的控制预凹坑图案之间的偏差的方法
    • US5715223A
    • 1998-02-03
    • US78184
    • 1993-06-16
    • Katsuhiko Ohtomo
    • Katsuhiko Ohtomo
    • G01J1/00G11B7/00G11B7/005G11B7/09G11B7/26
    • G11B7/26G11B7/0938
    • A method for measuring a deviation between the centerline between grooves defined on both sides of a recording track of an optical disc of a sample servo tracking system and a control prepit pattern formed on the disc is disclosed. If the modulation indices of the wobbled pits are measured under continuous tracking control of the center region or land, a difference is produced in the modulation indices when there is a deviation between the center of the wobbled pits and the center of the grooves. If, under tracking control of the grooves, the tracking offset is adjusted so that the modulation indices of the wobbled pits are equal to each other, the tracking error signal has an offset quantity (DC component). A light beam is swept under tracking control of the land between the grooves and the deviation between the center of the grooves and the control prepit pattern is measured. The light beam is swept so that the playback outputs from the wobbles pits are equal to each other and the deviation between the control prepit pattern and the center of the grooves is measured by a tracking error signal of the land between the grooves.
    • PCT No.PCT / JP92 / 01412 Sec。 371日期:1993年6月16日 102(e)日期1993年6月16日PCT提交1992年10月30日PCT公布。 出版物WO93 / 09536 日期:1993年5月13日公开了一种用于测量在样品伺服跟踪系统的光盘的记录轨道的两侧限定的凹槽之间的中心线和形成在盘上的控制预凹坑图案之间的偏差的方法。 如果在中心区域或平台的连续跟踪控制下测量摆动凹坑的调制指数,则当波动凹坑的中心与凹槽的中心之间存在偏差时,调制指数产生差异。 如果在凹槽的跟踪控制下调整跟踪偏移,使得摆动凹坑的调制指数彼此相等,则跟踪误差信号具有偏移量(DC分量)。 在凹槽之间的平台的跟踪控制下扫描光束,并且测量凹槽的中心和控制预凹坑图案之间的偏差。 扫描光束使得摆动凹坑的重放输出彼此相等,并且通过凹槽之间的平台的跟踪误差信号来测量控制预凹坑图案与凹槽中心之间的偏差。