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    • 10. 发明授权
    • Method for preparing biaxially stretched polyether ether ketone film
    • 制备双轴拉伸聚醚醚酮膜的方法
    • US5242648A
    • 1993-09-07
    • US844624
    • 1992-04-01
    • Shuji MatsumuraKazunari OkadaYasuhiko OhtaMasumi Saruwatari
    • Shuji MatsumuraKazunari OkadaYasuhiko OhtaMasumi Saruwatari
    • B29C55/00B29C55/14B29C71/00C08J5/18
    • C08J5/18B29C55/005B29C55/143B29C71/00B29K2071/00C08J2371/00
    • A method for preparing a biaxially stretched polyether ether ketone (PEEK) film having excellent precision in thickness, insulating properties and heat shrinkage from an amorphous PEEK film which includes a first stretching step of roll-stretching the amorphous PEEK film in a temperature range of from 50.degree. C. to (Tg-10).degree. C. in a stretching ratio of from 150% to 350% in the progress direction of the film while a necking phenomenon is caused in the film; a second stretching step of stretching the film in the temperature range of from Tg to 170.degree. C. in a direction at right angles to the stretching direction in the first stretching step in a stretching ratio of from 150% to 350%; and a heat set step of thermally setting the stretched film at two stages in the temperature range of 210.degree.-330.degree. C. and the temperature range of 180.degree.-210.degree. C.
    • PCT No.PCT / JP90 / 01058 Sec。 371日期:1992年04月1日 102(e)日期1992年4月1日PCT提交1990年8月21日PCT公布。 出版物WO92 / 03495 日本1993年3月5日。一种制备双轴拉伸聚醚醚酮(PEEK)膜的方法,该双轴拉伸聚醚醚酮(PEEK)膜具有优异的非晶PEEK膜的厚度,绝缘性能和热收缩精度,该方法包括:拉伸无定形PEEK的第一拉伸步骤 膜在50℃至(Tg-10)℃的温度范围内,在膜的进行方向上以150%至350%的拉伸比,同时在膜中引起颈缩现象; 第二拉伸工序,在150〜350%的拉伸倍率下,在与第一拉伸工序中的拉伸方向成直角的方向上,在Tg〜170℃的温度范围内拉伸薄膜; 以及在210℃-330℃的温度范围和180℃-210℃的温度范围内的两个阶段热定形拉伸膜的热定形步骤。