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    • 7. 发明授权
    • Thin-film transistor and thin-film diode having amorphous-oxide semiconductor layer
    • 具有非晶氧化物半导体层的薄膜晶体管和薄膜二极管
    • US08716711B2
    • 2014-05-06
    • US13012125
    • 2011-01-24
    • Tatsuya Iwasaki
    • Tatsuya Iwasaki
    • H01L29/04
    • H01L29/7869
    • A thin-film transistor including a channel layer being formed of an oxide semiconductor transparent to visible light and having a refractive index of nx, a gate-insulating layer disposed on one face of the channel layer, and a transparent layer disposed on the other face of the channel layer and having a refractive index of nt, where there is a relationship of nx>nt. A thin-film transistor including a substrate having a refractive index of no, a transparent layer disposed on the substrate and having a refractive index of nt, and a channel layer disposed on the transparent layer and having a refractive index of nx, where there is a relationship of nx>nt>no.
    • 一种薄膜晶体管,包括由对可见光透明且具有折射率nx的氧化物半导体形成的沟道层,设置在沟道层的一个面上的栅极绝缘层和设置在另一个面上的透明层 的沟道层,折射率为nt,其中nx> nt的关系。 一种薄膜晶体管,包括折射率为no的衬底,设置在衬底上的折射率为nt的透明层,以及设置在透明层上并且折射率为nx的沟道层,其中存在 nx> nt> no的关系。