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2. 发明授权

US07579050B2 Method for focusing patterning nano-sized structure 有权
标题翻译：聚合图案化纳米尺寸结构的方法
公开(公告)号：US07579050B2
公开(公告)日：2009-08-25
申请号：US11346401
申请日：2006-02-01
申请人： Mansoo Choi , Jaehyun Kim , Hongjoo Yang
发明人： Mansoo Choi , Jaehyun Kim , Hongjoo Yang
IPC分类号： B05D1/04
CPC分类号： H01J37/317 , B82Y30/00
摘要： A nano-structure can be focus-patterned while minimizing the generation of a noise pattern by the inventive method which comprises the steps of: (i) mounting a plate having a nano-scale pattern formed thereon by a patterned photoresist layer on an electrode placed in an externally grounded reactor and applying a voltage to the electrode; (ii) accumulating charges selectively onto the photoresist layer on the plate mounted on the electrode; and (iii) introducing charged nanoparticle aerosol into the reactor and guiding the migration of the charged nanoparticles to the uncharged nano-scale pattern region on the plate mounted on the electrode to guide the nanoparticles to adhere to the center region of the pattern.
摘要翻译：纳米结构可以被聚焦图案化，同时通过本发明的方法最小化噪声图案的产生，其包括以下步骤：（i）通过在其上放置的电极上的图案化光致抗蚀剂层安装其上形成有纳米尺度图案的板在外部接地的电抗器中并向电极施加电压; （ii）选择性地将电荷积聚在安装在电极上的板上的光致抗蚀剂层上; 和（iii）将带电荷的纳米颗粒气溶胶引入反应器并引导带电纳米颗粒迁移到安装在电极上的板上的不带电纳米尺度图案区域，以引导纳米颗粒粘附到图案的中心区域。

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